一种真空熔炼炉制造技术

本实用新型专利技术涉及真空熔炼技术领域，公开了一种真空熔炼炉，包括炉体及排水组件；炉体的侧壁设有排水通道，排水组件设于排水通道的底部下方，排水组件包括接水件及设于接水件下方的集水件，接水件的相对两侧分别设有滑动部，集水件的相对两侧分别开设有沿水平方向延伸的滑槽，两个滑动部分别滑动设于两个滑槽内；接水件开设有接水槽，集水件开设有集水槽，接水槽内设有导流板，接水槽的槽底上远离导流板的位置处开设有连通至集水槽的引流孔，集水件设有与集水槽连通的出水嘴。本实用新型专利技术的真空熔炼炉能够避免感应线圈、坩埚或铸造系统上的冷却水泄漏到供电系统或者地面，提高使用安全性及工作效率。性及工作效率。性及工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种真空熔炼炉


[0001]本技术涉及真空熔炼
，特别是涉及一种真空熔炼炉。

技术介绍

[0002]真空熔炼炉是真空冶金领域中应用最广的设备之一。真空熔炼炉在对金属的熔化、精炼和合金化的过程均是在真空状态下进行，因而避免了相同气相的相互作用而污染。另外，真空熔炼炉通过强烈的电磁搅拌作用能够加速反应速度，对于熔池温度均匀、化学成分均匀等方面起到较大的有益效果。
[0003]现有技术中，真空熔炼炉主要由炉壳、感应线圈、坩埚、倾转机构、铸造系统、供电装置，以及水冷系统等组成。其中，感应线圈、坩埚、铸造系统等产生热量或者承受热量的部位一般都连接着水冷系统以达到降温冷却的目的，这导致感应线圈、坩埚、铸造系统内会残留有部分冷却水，当拆装感应线圈、坩埚或铸造系统时，里面残留的冷却水容易泄漏并流入供电系统或者地面，存在触电危险或地面积水，影响了生产的正常进行。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种真空熔炼炉，其能够在拆装感应线圈、坩埚或铸造系统时将冷却水引流到外部，避免冷却水泄漏到供电系统或者地面，提高使用安全性及工作效率。
[0005]为了实现上述目的，本技术提供了一种真空熔炼炉，包括：
[0006]炉体，所述炉体的侧壁设有排水通道；以及
[0007]排水组件，所述排水组件设于所述排水通道的底部下方，所述排水组件包括接水件及设于所述接水件下方的集水件，所述接水件的相对两侧分别设有滑动部，所述集水件的相对两侧分别开设有沿水平方向延伸的滑槽，两个所述滑动部分别滑动设于两个所述滑槽内；所述接水件开设有接水槽，所述集水件开设有集水槽，所述接水槽内设有导流板，所述接水槽的槽底上远离所述导流板的位置处开设有连通至所述集水槽的引流孔，所述集水件设有与所述集水槽连通的出水嘴。
[0008]在一些实施方式中，所述导流板的一侧固定连接于所述接水槽的内侧壁，所述导流板的倾斜角度为15
°
－45
°
。
[0009]在一些实施方式中，所述引流孔呈长条状，所述引流孔横跨于所述接水槽的槽底以使所述接水槽的槽底呈敞开状。
[0010]在一些实施方式中，所述出水嘴设于所述集水槽的槽底的中央位置处。
[0011]在一些实施方式中，所述集水槽的槽底形成有用于将冷却水引流进入所述出水嘴的导流面。
[0012]在一些实施方式中，所述集水件与所述出水嘴为一体成型结构。
[0013]在一些实施方式中，所述集水件的相对两侧分别向上延伸有突起部，所述滑槽开设于所述突起部。
[0014]在一些实施方式中，所述出水嘴的进水端设有过滤网，所述出水嘴的出水端连接有排水管。
[0015]在一些实施方式中，所述集水件焊接于所述炉体的外侧。
[0016]本技术的一种真空熔炼炉与现有技术相比，其有益效果在于：
[0017]当需要从炉体中拆装感应线圈、坩埚或铸造系统时，拖动接水件相对集水件滑出，使得接水槽滑动到排水通道的开口下方，感应线圈、坩埚或铸造系统上的冷却水沿排水通道流入接水槽内，然后沿导流板流动并通过引流孔进入集水槽内，最后通过出水嘴统一回收，避免冷却水泄漏至供电系统或者地面，保障用电的安全性及确保生产的正常进行。当结束对感应线圈、坩埚或铸造系统的拆装后，拖动接水件相对集水件滑入，使得接水槽滑动到排水通道的底部下方，进而使接水件及集水件藏匿在排水通道的下方，避免接水件向外突出以占用空间，提高空间的利用率，避免接水件及集水件影响真空熔炼炉的正常工作，有利于提高工作效率。
附图说明
[0018]图1是本技术一些实施例的真空熔炼炉的结构示意图；
[0019]图2是本技术一些实施例的排水组件的结构示意图；
[0020]图3是图2半剖后的结构示意图；
[0021]图4是图2中A部分的放大图；
[0022]图5是本技术一些实施例的接水件的结构示意图；
[0023]图6是图5半剖后的结构示意图；
[0024]图7是图6中B部分的放大图；
[0025]图8是本技术一些实施例的集水件的结构示意图；
[0026]图9是图8半剖后的结构示意图；
[0027]图10是图9中C部分的放大图；
[0028]图中，
[0029]1、炉体；11、排水通道；
[0030]2、接水件；21、滑动部；22、接水槽；221、引流孔；23、导流板；
[0031]3、集水件；31、滑槽；32、集水槽；321、导流面；33、出水嘴； 34、突起部。
具体实施方式
[0032]下面结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。
[0033]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0034]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者
隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0035]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0036]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0037]请参考图1－10，本技术实施例提供一种真空熔炼炉，包括炉体1及排水组件，其中炉体1的侧壁设有排水通道11，排水组件设于排水通道11的底部下方，排水组件包括接水件2及设于接水件2下方的集水件3，接水件2的相对两侧分别设有滑动部21，集水件3的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空熔炼炉，其特征在于，包括：炉体，所述炉体的侧壁设有排水通道；以及排水组件，所述排水组件设于所述排水通道的底部下方，所述排水组件包括接水件及设于所述接水件下方的集水件，所述接水件的相对两侧分别设有滑动部，所述集水件的相对两侧分别开设有沿水平方向延伸的滑槽，两个所述滑动部分别滑动设于两个所述滑槽内；所述接水件开设有接水槽，所述集水件开设有集水槽，所述接水槽内设有导流板，所述接水槽的槽底上远离所述导流板的位置处开设有连通至所述集水槽的引流孔，所述集水件设有与所述集水槽连通的出水嘴。2.如权利要求1所述的真空熔炼炉，其特征在于，所述导流板的一侧固定连接于所述接水槽的内侧壁，所述导流板的倾斜角度为15
°
－45
°
。3.如权利要求1所述的真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：冉成义，蔡新志，童培云，朱刘，
申请(专利权)人：先导薄膜材料有限公司，
类型：新型
国别省市：