一种不易残胶破坏力小的漆面膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种不易残胶破坏力小的漆面膜，涉及漆面膜领域。本实用新型专利技术包括涂层薄膜；涂层薄膜上部通过低粘涂层粘黏有剥离膜；所述涂层薄膜的下部通过磁控溅射方式复合有磁控溅射金属镀膜，磁控溅射金属镀膜下部通过涂胶层复合有基膜层。本实用新型专利技术具有耐磨、耐高温、表面硬度高、韧性强的优良特性，能够对玻璃进行很好的保护，采用电晕磁化处理的涂层薄膜与玻璃板的粘着力适中，增加承印物表面的附着能力，能够轻易从玻璃板上撕除且无残胶，并且金属化膜和磁控溅射金属镀膜层与基膜层的层与层之间粘着力高，提高了整体保护膜的强度和使用寿命。度和使用寿命。度和使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种不易残胶破坏力小的漆面膜


[0001]本技术属于漆面膜领域，特别是涉及一种不易残胶破坏力小的漆面膜。

技术介绍

[0002]玻璃被运用于光学透镜或透光基底等工艺时，经常会涉及到对整个表面或部分表面的加工处理的步骤，当需要在部分表面进行加工处理时，需要对不需要处理的表面进行保护，通常做法是在不需要处理的表面上贴附保护膜，但现有技术中，保护膜柔软，保护膜与玻璃表面之间贴合时难度较大，容易出现褶皱或气泡，无法起到很好的保护，重工率较高；完成加工后不易撕除保护膜，且保护膜具有黏度，撕除后会有一定的残胶，尤其是在重要器件或重要位置的表面上留有残胶，后续清除时，容易损伤重要器件或重要位置的表面。因此针对以上问题提供一种不易残胶破坏力小的漆面膜具有重要意义。

技术实现思路

[0003]本技术提供了一种不易残胶破坏力小的漆面膜，解决了以上问题。
[0004]为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0005]本技术的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，包括涂层薄膜；
[0006]所述涂层薄膜上部通过低粘涂层粘黏有剥离膜；所述涂层薄膜的下部通过磁控溅射方式复合有磁控溅射金属镀膜，所述磁控溅射金属镀膜下部通过涂胶层复合有基膜层。
[0007]进一步地，所述涂层薄膜采用高精度、高平整度、光学级的pet薄膜，所述涂层薄膜厚度为5
‑
8μm。
[0008]进一步地，所述低粘涂层采用亚克力胶低粘涂层或丙烯酸低粘胶涂层，所述低粘涂层用于粘附于玻璃面板上，所述低粘涂层与所述玻璃面板之间的粘着力为15～30(g/25mm)。
[0009]进一步地，所述低粘涂层的厚度为6
‑
10μm。
[0010]进一步地，所述剥离膜采用麦拉膜或离型膜，所述剥离膜与低粘涂层之间的粘着力为2～3(g/25mm)；所述低粘涂层与所述涂层薄膜之间的粘着力为800～1000(g/25mm)。
[0011]进一步地，所述剥离膜厚度为30
‑
60μm。
[0012]进一步地，所述涂胶层采用弹性体型压敏胶或树脂型压敏胶，所述涂胶层与磁控溅射金属镀膜以及基膜层之间的粘着力为800～1200(g/25mm)。
[0013]进一步地，所述涂胶层厚度为5
‑
8μm。
[0014]进一步地，所述基膜层采用高性能聚氨酯TPU膜、PE膜、PP膜、PVC膜或PET膜中任意一种膜，或由多种复合形成的产品膜。
[0015]进一步地，所述涂层薄膜上部与低粘涂层相对的面采用电晕机进行电晕磁化处理。
[0016]本技术相对于现有技术包括有以下有益效果：
[0017]1、本技术在基膜层上通过涂胶层复合带有磁控溅射金属镀膜层的高精度、高
平整度、光学级的pet薄膜，并通过低粘涂层设置剥离膜，金属化膜和磁控溅射金属镀膜层的设置使保护膜具有耐磨、耐高温、表面硬度高、韧性强的优良特性，能够对玻璃进行很好的保护，采用电晕磁化的方式，与玻璃板的粘着力适中，增加承印物表面的附着能力，并且金属化膜和磁控溅射金属镀膜层与基膜层的层与层之间粘着力高能够轻易从玻璃板上撕除且无残胶。
[0018]2、本技术的低粘涂层的结构和设置能够使剥离膜很容易的剥离，与玻璃面板的粘着力适宜，并且金属化膜和磁控溅射金属镀膜层与基膜层的层与层之间粘着力高，提高了整体保护膜的强度和使用寿命。
[0019]当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本技术的一种不易残胶破坏力小的漆面膜层结构示意图；
[0022]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0023]1‑
涂层薄膜，2
‑
低粘涂层，3
‑
剥离膜，4
‑
磁控溅射金属镀膜，5
‑
涂胶层，6
‑
基膜层。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上部”、“下部”、“双向”、“之间”、“厚度”等指示方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0026]具体实施例1：
[0027]请参阅图1所示，本技术的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，包括涂层薄膜1；
[0028]涂层薄膜1上部通过低粘涂层2粘黏有剥离膜3；涂层薄膜1的下部通过磁控溅射方式复合有磁控溅射金属镀膜4，磁控溅射金属镀膜4下部通过涂胶层5复合有基膜层6；磁控溅射金属镀膜4所采用的金属为铝、铜、铬、钛、镍铬合金、氧化锌、氧化锡、氧化钛、氮化钛、氮化铬中一种或多种混合。
[0029]其中，涂层薄膜1采用高精度、高平整度、光学级的pet薄膜，涂层薄膜1厚度为5μm，具有易修复、亮光、亚光，防酸碱的优点。
[0030]其中，低粘涂层2采用亚克力胶低粘涂层，低粘涂层2用于粘附于玻璃面板上，低粘涂层2与玻璃面板之间的粘着力为15(g/25mm)。
[0031]其中，低粘涂层2的厚度为6μm。
[0032]其中，剥离膜3采用麦拉膜或离型膜，剥离膜3与低粘涂层2之间的粘着力为2(g/25mm)；低粘涂层2与涂层薄膜1之间的粘着力为800(g/25mm)。
[0033]其中，剥离膜3厚度为30μm。
[0034]其中，涂胶层5采用弹性体型压敏胶，涂胶层5与磁控溅射金属镀膜4以及基膜层6之间的粘着力为800(g/25mm)。
[0035]其中，涂胶层5厚度为5μm。
[0036]其中，基膜层6采用高性能聚氨酯TPU膜、PE膜、PP膜、PVC膜或PET膜中任意一种膜，或由多种复合形成的产品膜，本优选实施例采用高性能聚氨酯TPU膜。
[0037]其中，涂层薄膜1上部与低粘涂层2相对的面采用电晕机进行电晕磁化处理；磁化是采用电晕的原理，在复合涂布机上加装电晕机，利用高频率高电压在被处理的涂层薄膜1表面电晕放电，而产生低温等离子体，使涂层薄膜1的塑料表面产生游离基反应而使聚合物发生交联，表面变粗糙并增加其对极性溶剂的润湿性，这些离子体由电击本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，包括涂层薄膜(1)；所述涂层薄膜(1)的上部通过低粘涂层(2)粘黏有剥离膜(3)；所述涂层薄膜(1)的下部通过磁控溅射方式复合有磁控溅射金属镀膜(4)，所述磁控溅射金属镀膜(4)下部通过涂胶层(5)复合有基膜层(6)。2.根据权利要求1所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述涂层薄膜(1)采用高精度、高平整度、光学级的pet薄膜，所述涂层薄膜(1)厚度为5
‑
8μm。3.根据权利要求1所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述低粘涂层(2)采用亚克力胶低粘涂层或丙烯酸低粘胶涂层，所述低粘涂层(2)用于粘附于玻璃面板上，所述低粘涂层(2)与所述玻璃面板之间的粘着力为15～30(g/25mm)。4.根据权利要求3所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述低粘涂层(2)的厚度为6
‑
10μm。5.根据权利要求1所述的一种不易...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢尔本，
申请(专利权)人：上海尚傲新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：