一种低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：将岩板基料压制成砖坯；在砖坯表面施面釉；在施面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施包含高温透明干粒的哑光透明干粒釉；在施哑光透明干粒釉后的砖坯表面施哑光保护釉；将施哑光保护釉后的砖坯烧成并抛刷砖面，得到所述低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板。所述制备方法通过湿法工艺叠加形成超细均匀的干粒釉层，再经由抛光抛刷，得到低光泽、触感细腻、耐磨且防污性能良好的磨砂面陶瓷岩板。好的磨砂面陶瓷岩板。好的磨砂面陶瓷岩板。

【技术实现步骤摘要】
一种低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板及其制备方法


[0001]本专利技术涉及陶瓷砖生产制造
，具体涉及一种低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着建筑陶瓷行业的迅速发展，传统建筑陶瓷已经无法满足人们对装饰和使用的需求。近年来，岩板成为建筑陶瓷行业的新潮流，岩板的使用也不再局限于墙地面装饰。现如今岩板已大量开发并应用于墙地面、餐桌台面、茶几桌面以及厨房灶台面等领域。消费者也对岩板产品的花色、表面触感、光泽、防污性能等提出更高要求。目前行业内主要通过透明釉与干粒混浆使用并同时施釉方式以形成磨砂表面，但是这容易出现触感粗糙、透感较差、光泽较高、干粒分布不均匀、防污较差等釉面缺陷。

技术实现思路

[0003]针对上述问题，本专利技术提供一种低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板及其制备方法，所述制备方法通过湿法工艺叠加形成超细均匀的干粒釉层，再经由抛光抛刷，得到低光泽、触感细腻、耐磨且防污性能良好的磨砂面陶瓷岩板。
[0004]第一方面，本专利技术提供一种低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板的制备方法。所述制备方法包括以下步骤：将岩板基料压制成砖坯；在砖坯表面施面釉；在施面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施包含高温透明干粒的哑光透明干粒釉；在施哑光透明干粒釉后的砖坯表面施哑光保护釉；将施哑光保护釉后的砖坯烧成并抛刷砖面，得到所述低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板。
[0005]较佳地，所述高温透明干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：56～59％、Al2O3：20～22％、碱土金属氧化物：12.0～17.0％、碱金属氧化物：4.0～8.0％、ZnO：2.0～4.0％。
[0006]较佳地，所述哑光透明干粒釉的高温透明干粒的颗粒级配包括：以质量百分比计，200目以下：3～5％、200
‑
250目：15～20％、250
‑
325目：40～60％、325目以上：20～40％。
[0007]较佳地，所述哑光透明干粒釉的施加方式为淋釉，比重为1.10～1.13g/cm3，施釉量为375～420g/m2。
[0008]较佳地，所述哑光保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：49～52％、Al2O3：19～21％、碱土金属氧化物：14.5～19.5％、碱金属氧化物：5.0～9.0％、ZnO：5～7％。
[0009]较佳地，所述哑光保护釉的施加方式为喷釉，比重为1.25～1.30g/cm3，施釉量为125～170g/m2。
[0010]较佳地，所述高温透明干粒的始融温度为900～950℃，所述哑光保护釉的始融温度为850～900℃；优选地，所述高温透明干粒的始融温度高于哑光保护釉。
[0011]较佳地，采用研磨刷抛刷砖面；所述研磨刷的主要材料为树脂和碳化硅组成的有机无机复合材料。更优选地，所述研磨刷为牙刷状研磨刷。
[0012]较佳地，采用研磨刷抛刷砖面的压力≤0.2MPa。
[0013]第二方面，本专利技术还提供上述任一项所述的制备方法获得的低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板。所述陶瓷岩板的表面光泽度为3
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5度。
附图说明
[0014]图1为牙刷状研磨刷的实物图；图2为实施例1烧成后未经抛刷的釉面效果图；图3为对比例5的釉面效果；图4为实施例1抛刷后的釉面效果。
具体实施方式
[0015]通过下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。以下示例性说明本专利技术所述低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板的制备方法。
[0016]将岩板基料压制成砖坯。所述岩板基料的化学组成不受限制，采用本领域常用的岩板基料即可。作为示例，所述岩板基料的化学组成可包括：以质量百分比计，烧失：3.5～4.5％、SiO2：58～63％、Al2O3：25～30％、Fe2O3：0.5～0.8％、TiO2：0.3～0.6％、CaO：0.3～0.5％、MgO：1.1～1.5％、K2O：2.0～2.5％、Na2O：2.3～2.7％。
[0017]将砖坯干燥。可采用干燥窑干燥。例如，干燥时间可为1～1.2h，干燥后坯体的水分控制在0.5wt％以内。
[0018]在干燥后的砖坯表面施面釉来遮盖坯体底色和瑕疵，促进喷墨图案发色。一些实施方式中，所述面釉的化学组成可包括：以质量百分比计，SiO2：49～52％、Al2O3：28～31％、MgO：0.1～1.0％、K2O：4.0～6.0％、Na2O：2.0～4.0％、ZrO2：5.0～7.0％。所选面釉为烧成温度较高的体系。上述面釉的始融温度为1000～1050℃。如果面釉偏低温，在烧成时会与干粒釉或保护釉发生互熔反应，导致玻璃相增多，引起釉面光泽度升高。
[0019]所述面釉的施加方式可为喷釉。面釉的比重为1.15～1.25g/cm3，施釉量为350～450g/m2。按照上述面釉的施加工艺，可以改善侧边“白线条”问题。面釉的施釉量过大，通体坯(有色坯)岩板的侧面会出现“白线条”，降低产品档次，影响通体或者装饰效果。面釉的施釉量过小，会降低面釉的遮盖力，不利于陶瓷墨水的发色。
[0020]在施面釉前可以采用抛坯机对干燥后的砖坯表面进行轻微抛刷，以去除砖坯表面杂质和使砖坯表面触感更细腻。
[0021]在施面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案。喷墨打印设计图案的纹理和颜色根据版面设计作出适应性变化。将喷墨打印设计图案的砖坯干燥。
[0022]在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施包含高温透明干粒的哑光透明干粒釉。所述哑光透明干粒釉中高温透明干粒的质量百分比为10
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20％。
[0023]所述高温透明干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：56～59％、Al2O3：20～22％、碱土金属氧化物：12.0～17.0％、碱金属氧化物：4.0～8.0％、ZnO：2.0～4.0％。一些实施方式中，所述高温透明干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：56～59％、Al2O3：20～22％、CaO：6.0～8.0％、MgO：1.0～3.0％、K2O：3.0～5.0％、Na2O：1.0～3.0％、ZnO：2.0～4.0％、SrO：5.0～6.0％、烧失：0.1～1.0％。通过控制高温透明干粒的化学成分，可以促使高温透明干粒在烧成后形成细腻磨砂面，同时不易与面釉及后续施加的哑光保护釉共融反应而使得高温透明干粒尽可能保持独立个体的存在。另外，所述高温透明干粒中硅铝含量高，保证了高温透明干粒在烧成后的立体感，保证砖面的低光泽。钙和镁含量在上述范围有利于提高干粒透感，利于设计色彩的呈现。提高氧化锶的含量，有助于提高助熔范围，且氧化锶与二氧化碳的结合力低，含氧化锶的玻璃相更加澄清透明。
[0024]上述高温透明干粒的始融温度为900～950℃。较高的始融温度可以保证高温透明干粒在烧成时保持不被熔平。如果高本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：将岩板基料压制成砖坯；在砖坯表面施面釉；在施面釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施包含高温透明干粒的哑光透明干粒釉；在施哑光透明干粒釉后的砖坯表面施哑光保护釉；将施哑光保护釉后的砖坯烧成并抛刷砖面，得到所述低光泽细腻磨砂效果面的陶瓷岩板。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高温透明干粒的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：56～59%、Al2O3：20～22%、碱土金属氧化物：12.0～17.0%、碱金属氧化物：4.0～8.0%、ZnO：2.0～4.0%。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述哑光透明干粒釉的高温透明干粒的颗粒级配包括：以质量百分比计，200目以下：3～5%、200
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250目：15～20%、250
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325目：40～60%、325目以上：20～40%。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述哑光透明干粒釉的施加方式为淋釉，比重为1.10～1.13g/cm3，施釉量为3...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢志军，董军乐，徐维鹏，李惠文，程海龙，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：