防划耐磨型5G高精密光电集成线路板的加工工艺制造技术

技术编号:33353186 阅读:25 留言:0更新日期:2022-05-08 10:03
本发明专利技术公开了防划耐磨型5G高精密光电集成线路板的加工工艺,包括如下步骤:将改性环氧树脂和碳化硅分散在去离子水中,搅拌并加入氢氧化钠,进行反应,蒸馏去除去离子水,制得胶粘液,将氧化铝、二氧化硅、锆酸钙、碳酸钾、甲醇、胶粘液、改性固化剂混合并压制成型,制得基板,再将电子元件集成至基板上,制得集成线路板,该改性环氧树脂侧链含有长链氟烷,使得制备的集成线路板不会出现吸湿现象,同时侧链的有氧硅烷水解产生硅醇与碳化硅表面的活性羟基接枝,使得碳化硅均匀分散在胶粘液中,使得胶粘液的耐磨性提升,进而提升了集成线路板的耐磨效果。耐磨效果。

【技术实现步骤摘要】
防划耐磨型5G高精密光电集成线路板的加工工艺


[0001]本专利技术涉及集成电路板制备
,具体涉及防划耐磨型5G高精密光电集成线路板的加工工艺。

技术介绍

[0002]电路基板,按电路基板所采用的材料,可分为无机基板材料、有机基板材料以及复合基板材料三大类,传统无机基板以Al2O3、SiC、BeO和AlN等为基材,由于这些材料在热导率、抗弯强度以及热膨胀系数等方面具有良好的性能,目前广泛应用于MCM电路基板行业,目前,国内外开发的集成电路基板用材料主要采用的是低温烧结基板材料,大致可分为两类,一类是微晶玻璃系,另一类是玻璃加陶瓷系;
[0003]而电路基板在制备过程中会加入胶粘剂,胶粘剂的加入使得电路基板的防划耐磨效果出现了下降,同时胶粘剂会吸收空气中的水分,使得基板的潮湿性增加影响了基板的正常使用;
[0004]针对此方面的技术缺陷,现提供一种解决方案。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种防划耐磨型5G高精密光电集成线路板的加工工艺,解决了现阶段集成线路板的防划耐磨效果一般,且线路板使本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.防划耐磨型5G高精密光电集成线路板的加工工艺,其特征在于:具体包括如下步骤:步骤S1:将改性环氧树脂和碳化硅分散在去离子水中,搅拌并加入氢氧化钠,进行反应,蒸馏去除去离子水,制得胶粘液;步骤S2:将氧化铝、二氧化硅、锆酸钙、碳酸钾、甲醇混合,加入球磨机中,进行球磨混合,球磨后,加入胶粘液和改性固化剂,继续球磨至混合均匀,制得混合料,将混合料放入模具中,压制成型,制得基板,将电子元件集成至基板上,制得防划耐磨型5G高精密光电集成线路板。2.根据权利要求1所述的防划耐磨型5G高精密光电集成线路板的加工工艺,其特征在于:步骤S1所述的改性环氧树脂和碳化硅的用量质量比为10:1,步骤S2所述的氧化铝、二氧化硅、锆酸钙、碳酸钾、胶粘液、改性固化剂的用量质量比为50:12:20:10:3。3.根据权利要求1所述的防划耐磨型5G高精密光电集成线路板的加工工艺,其特征在于:所述的改性环氧树脂由如下步骤制成:步骤A1:将丙烯酸、γ

氨丙基三乙氧基硅烷、4

二甲氨基吡啶、N,N

二甲基甲酰胺混合反应,制得中间体1,将4

硝基邻苯二甲酸酐、锡粉、浓盐酸、苯混合反应后,调节反应液pH值,制得中间体2;步骤A2:将中间体2、丙烯酸、4

二甲氨基吡啶、N,N

二甲基甲酰胺混合反应,制得中间体3,将中间体1、中间体3...

【专利技术属性】
技术研发人员:邹伟民邹嘉逸刘林
申请(专利权)人:江苏智纬电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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