【技术实现步骤摘要】
膜厚测试装置
[0001]本技术涉及膜厚测试
,尤其涉及一种膜厚测试装置。
技术介绍
[0002]在薄膜制造工艺过程中,常常通过沉积的工艺形成相应的薄膜材料。如果形成的薄膜厚度不均匀,将会影响到薄膜各处的拉伸强度以及阻隔性能,同时不均匀的薄膜还会影响后续的加工。因此,在薄膜制作过程中,常常需要对薄膜进行膜厚测试。
[0003]相关技术中的膜厚测试装置是对薄膜进行单点的膜厚测试,在测试过程中,需要对待测试的薄膜进行逐点扫描,进而得到各个位置的膜厚信息,测试效率较低。
技术实现思路
[0004]本技术实施例提供一种膜厚测试装置,用以解决相关技术中膜厚测试效率较低的问题。
[0005]本技术实施例提供一种膜厚测试装置,包括:导光装置和处理设备;所述处理设备与所述导光装置连接,所述导光装置具有朝向待测薄膜不同位置设置的多个采集端,所述导光装置用于将各所述采集端接收到的来自所述待测薄膜的反射光线引导至所述处理设备;所述处理设备用于根据所述反射光线获取各所述采集端对应的所述待测薄膜的厚度。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种膜厚测试装置,其特征在于,包括:导光装置和处理设备;所述处理设备与所述导光装置连接,所述导光装置具有朝向待测薄膜不同位置设置的多个采集端,所述导光装置用于将各所述采集端接收到的来自所述待测薄膜的反射光线引导至所述处理设备;所述处理设备用于根据所述反射光线获取各所述采集端对应的所述待测薄膜的厚度。2.根据权利要求1所述的膜厚测试装置,其特征在于,所述处理设备包括阵列光谱仪和分析设备,所述分析设备和所述阵列光谱仪连接,所述阵列光谱仪和所述导光装置连接,所述阵列光谱仪用于根据各所述反射光线获取相应的多个干涉图像,所述分析设备用于根据所述干涉图像计算相应的膜厚。3.根据权利要求2所述的膜厚测试装置,其特征在于,所述阵列光谱仪包括分光装置、滤波腔体组件和成像装置,所述滤波腔体组件位于所述分光装置与所述成像装置之间,所述滤波腔体组件包括多个滤波腔体,所述分光装置用于将所述反射光线分散成多个分散光束,各所述滤波腔体用于处理各所述分散光束以形成输出光谱,所述成像装置用于根据所述输出光谱获取所述干涉图像。4.根据权利要求3所述的膜厚测试装置,其特征在于,所述滤波腔体包括多个滤波单元,所述分散光束内具有多个分散光,各所述滤波单元用于处理各所述分散光以获得相应波长的所述分散光。5.根据权利要求4所述的膜厚测试装置,其特征在于,所述滤波腔体包括第一滤波腔体,所述第一滤波腔体在所述滤波腔体组件内沿第一预设方向排布,所述第一滤波腔体内包括多个沿第二预设方向排布的滤波单元,且所述第一滤波腔体内的每个所述滤波单元的通带均不相同,所述第二预设方向垂直于所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:马骞,陆嘉文,杨德良,
申请(专利权)人:南京微纳科技研究院有限公司,
类型:新型
国别省市:
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