一种用于真空镀膜的盛放装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于真空镀膜技术领域，尤其涉及一种用于真空镀膜的盛放装置，包括：坩埚其设置有容纳槽，所述容纳槽的深度为16毫米；垫环其设于所述容纳槽中，所述垫环的厚度为8毫米；其中，当镀膜材料放在所述垫环上时，所述垫环厚度与镀膜材料厚度之和等于所述容纳槽深度。本盛放装置结构简单，设计合理，通过在坩埚的容纳槽中设置有垫环，并将原本镀膜材料从16毫米改为8毫米，这样，能在不击穿镀膜材料的前提下，既节省了镀膜材料，也能保证产品的镀膜效果。效果。效果。

【技术实现步骤摘要】
一种用于真空镀膜的盛放装置


[0001]本技术涉及真空镀膜
，特别涉及一种用于真空镀膜的盛放装置。

技术介绍

[0002]真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。
[0003]在镀膜过程中，会将镀膜材料放在盛放装置中。当电子束打在镀膜材料上时，镀膜材料与盛放装置充分接触，进而热能得以释放，使材料升华镀膜，而此时镀膜材料上因为其升华的缘故，镀膜材料上表面出现凹槽。为了节约材料，作业人员在镀膜结束后，会将镀膜材料翻转180
°
后再放入盛放装置中，进行本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于真空镀膜的盛放装置，其特征在于，包括：坩埚，其设置有容纳槽，所述容纳槽的深度为16毫米；垫环，其设于所述容纳槽中，所述垫环的厚度为8毫米；其中，当镀膜材料放在所述垫环上时，所述垫环厚度与镀膜材料厚度之和等于所述容纳槽深度。2.根据权利要求1所述一种用于真空镀膜的盛放装置，其特征在于，所述坩埚一端设有蒸发部，所述蒸发部上设有电子束过孔。3.根据权利要求1所述一种用于真空镀膜的盛放装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：严东，冉光普，龙云琛，谢宗绪，
申请(专利权)人：贵州铜仁旭晶光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：