一种激光器晶圆级测试的片上光散射点单元制造技术

本实用新型专利技术适用于激光器晶圆级测试领域，提供了一种激光器晶圆级测试的片上光散射点单元，所述片上光散射点单元设置在激光器的预设理解区域里或预设理解区外侧，所述激光器包括由下到上依次设置的下掺杂介质层、有源层、脊型掺杂层及上电极层，所述片上光散射点单元包括由下到上依次设置且分别与所述下掺杂介质层、所述有源层及所述脊型掺杂层连接的片上光散射点下掺杂介质层、片上光散射点有源层及片上光散射点脊型掺杂层。旨在解决现有技术中对激光器测试是通过在激光器出光的光路上设置特殊的散射点或者反射斜面实现，会影响激光器的结构和工作状态的技术问题。术问题。术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种激光器晶圆级测试的片上光散射点单元


[0001]本技术属于激光器晶圆级测试领域，尤其涉及一种激光器晶圆级测试的片上光散射点单元。

技术介绍

[0002]晶圆级测试是降低激光器芯片测试成本的关键方法，其中，为测试激光器的光谱特性，必须收集激光器的部分出射光并引导到光谱仪中，这可以通过在激光器出光的光路上设置特殊的散射点或者反射斜面实现，难点在于如何在不影响激光器结构及其工作状态的前提下，尽可能地提高收集效率。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种激光器晶圆级测试的片上光散射点单元，旨在解决现有技术中对激光器测试是通过在激光器出光的光路上设置特殊的散射点或者反射斜面实现，会影响激光器结构及其工作状态的技术问题。
[0004]本技术是这样实现的，一种激光器晶圆级测试的片上光散射点单元，所述片上光散射点单元设置在激光器的预设理解区域里或预设理解区外侧，所述激光器包括由下到上依次设置的下掺杂介质层、有源层、脊型掺杂层及上电极层，所述片上光散射点单元包括由下到上依次设置且分别与所述下掺杂介质层、所述有源层及所述脊型掺杂本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光器晶圆级测试的片上光散射点单元，其特征在于：所述片上光散射点单元设置在激光器的预设理解区域里或预设理解区外侧，所述激光器包括由下到上依次设置的下掺杂介质层、有源层、脊型掺杂层及上电极层，所述片上光散射点单元包括由下到上依次设置且分别与所述下掺杂介质层、所述有源层及所述脊型掺杂层连接的片上光散射点下掺杂介质层、片上光散射点有源层及片上光散射点脊型掺杂层。2.根据权利要求1所述的片上光散射点单元，其特征在于，所述有源层为多量子阱有源层；所述片上光散射点有源层为片上光散射点多量子阱...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐涌波，
申请(专利权)人：深圳市斑岩光子技术有限公司，
类型：新型
国别省市：