一种用于新型C-HJT电池制程的耐电镀光刻胶制造技术

本发明专利技术公开了一种用于新型C

【技术实现步骤摘要】
一种用于新型C
‑
HJT电池制程的耐电镀光刻胶


[0001]本专利技术涉及光伏C
‑
HJT电池制程
，具体涉及一种用于新型C
‑
HJT电池制程的耐电镀光刻胶。

技术介绍

[0002]相较于传统的太阳能电池而言，HJT电池采用了单晶硅衬底和非晶薄膜异质结的结构，其在晶体硅上沉积非晶硅薄膜做法，让HJT电池兼具了晶体硅与薄膜电池的优势。HJT电池具有结构简单、稳定性高、工艺温度低、光转换效率高、温度特性好、双面发电等众多的特点，HJT电池逐渐成为电池行业从业者公认的未来电池技术终极解决方案。
[0003]但是异质结太阳能电池一般采用树脂型低温固化银浆作为金属电极，电阻率高，导电性差，为了提高导电性，需要提高金属电极的宽度或者高度，导致电池的银浆耗量增加。单片耗银量是以往PERC电池耗银量的2.62倍。随着C
‑
HJT(铜栅异质结电池)工艺的出现，用铜栅电极取代传统银栅电极，从而达到降低成本的意愿。但目前的铜栅电极，用干膜进行栅线的制程，干膜经压膜、曝光、撕膜、显影、电镀形成电极栅线。干膜成本高，工艺自动化流程产速低，且栅线精度低，不能完全满足工业化制造要求，因此现需提供一种光刻胶替代干膜，进行C
‑
HJT铜栅电极制程，既要降低成本，又要实现完全自动化工艺流程达到6000片/小时的产速，而且保持电极栅线高精细，达到15μm的线径，从而降低电极布线在电池表面所占面积，最大限度提高光转换效率，使C
‑
HJT电池效能有一个大的提升。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是克服现有技术的不足，提供一种用于新型C
‑
HJT电池制程的耐电镀光刻胶。
[0005]为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种用于新型C
‑
HJT电池制程的耐电镀光刻胶，按照重量份数计包括如下组分的原料：高分子粘合剂10
‑
50份、光聚合单体20
‑
40份、光引发剂3
‑
5份，所述高分子粘合剂的重均分子量在2000以上，数均分子量在1000以上；所述光聚合单体具有乙烯型不饱和官能基。
[0006]作为一种具体的实施方式，所述高分子粘合剂的重均分子量在3000
‑
50000间，数均分子量在2000
‑
40000之间。
[0007]作为一种具体的实施方式，所述高分子粘合剂包括但不限于丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、环氧树脂、酰胺树脂、酰胺环氧树脂、聚酰亚胺前驱物、醇酸树脂、酚醛树脂、聚氨酯树脂、由环氧树脂与(甲基)丙烯酸反应获得的环氧丙烯酸酯树脂、由环氧丙烯酸酯树脂与酸酐反应获得的酸改性环氧丙烯酸酯树脂中的至少一种。
[0008]作为一种具体的实施方式，所述光聚合单体中的乙烯型不饱和官能基采用了丙烯酸酯基，所述光聚合单体包括但不限于1,4
‑
丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6
‑
己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊基乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊基乙二醇二(甲基)丙烯酸酯己二酸酯、新戊基乙二醇二甲基丙烯酸羟基特戊酸酯、二(甲基)丙烯
酸二环戊二烯酯、己内酯改质的二(甲基)丙烯酸二环戊二烯酯、烯丙基化的二(甲基)丙烯酸环己酯、二(甲基)丙烯酸异氰尿酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三甲基三(甲基)丙烯酸甲酯、三(丙烯氧乙基)异氰酸尿酯、乙氧基改质的三甲醇丙烷三丙烯酸酯、甘油丙氧基化物三丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯、脂肪族胺基甲酸酯预聚体中的至少一种。
[0009]作为一种具体的实施方式，所述光引发剂采用了苯偶姻及苯偶姻烷基醚类、苯乙酮类、蒽醌类、缩酮类、有机过氧化物类、硫醇化合物类、有机卤化物类、二苯酮类或噻唑酮类、苯基膦类中的一种或多种。
[0010]这里所选用的光引发剂，其为吸收波长为400nm左右的光聚引发剂，优选的，光引发剂可以选自苯偶姻，苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚等苯偶姻及苯偶姻烷基醚；苯乙酮、2,2
‑
二甲氧基
‑2‑
苯基苯乙酮、2,2
‑
二乙氧基
‑2‑
苯基苯乙酮、1,1
‑
二氯苯乙酮等苯乙酮类；2
‑
甲基甲基硫代)苯基]‑2‑
吗啉基丙酮
‑
1,2
‑
苄基
‑2‑
二甲基胺基
‑1‑
(4
‑
吗啉基苯基)
‑
丁烷酮、N,N
‑
二甲基胺基苯乙酮类；2
‑
甲基蒽醌、2
‑
乙基蒽醌、2
‑
叔丁基蒽醌、1
‑
氯蔥醌等蒽醌类；2,4
‑
二甲基噻唑酮、2,4
‑
二乙基噻唑酮、2
‑
氯噻唑酮、2,4
‑
二异丙基噻唑酮等噻唑酮类；苯乙酮二甲基缩酮、苄基二甲基缩酮等缩酮类；过氧化苯甲酰、过氧化异丙苯基等有机过氧化物；2,4,5
‑
三芳香基咪唑二元体、核黄素四丁酯、2
‑
硫基苯并咪唑、2
‑
硫基苯并噁唑、2
‑
硫基苯并噻唑等硫醇化合物；2,4,6
‑
三
‑
s
‑
三嗪、2,2,2
‑
三溴乙醇、三溴甲基苯基酮等有机卤化物；二苯酮、4,4'
‑
双二乙基胺基二苯甲酮等二苯酮类或噻唑酮类；2,4,6
‑
三甲基苯甲酰基二苯基膦氧化物等。以上所列举光引发剂可单独使用或使用两种以上的混合物。
[0011]作为一种具体的实施方式，所述原料中还添加有光引发助剂，所述光引发助剂包括但不限于N,N
‑
二甲基胺基安息香酸乙基酯、N,N
‑
二甲基胺基安息香酸异戊基酯、戊基
‑4‑
二甲基胺基苯甲酸酯、三乙基胺、三乙醇胺中的一种或多种。
[0012]作为一种具体的实施方式，所述光引发剂采用了购自强力新材股份有限公司生产的光引发剂907及购自国药集团化学试剂有限公司生产的光引发剂DETX。
[0013]作为一种具体的实施方式，所述原料中还包括0.5
‑
1份表面活性剂，所述表面活性剂选自含氟表面活性剂、硅氧烷表面活性剂中的至少一种。
[0014]所述光刻胶还可添加一定量的助剂，如着色剂，表面活性剂，稳定剂，阻聚剂或增塑剂等。
[0015]作为着色剂，例如结晶紫，维多利亚蓝，乙基紫，酞菁蓝，酞菁绿等等。
[0016]作为表面活性剂，例如含氟表面活性剂，硅氧烷表面活性剂等。
[0017]作为增塑剂，例如邻苯二甲酸二乙酯，邻苯二甲酸二丁酯，磷酸三丁酯等等。
[0018本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于新型C
‑
HJT电池制程的耐电镀光刻胶，其特征在于，按照重量份数计包括如下组分的原料：高分子粘合剂10
‑
50份、光聚合单体20
‑
40份、光引发剂3
‑
5份，所述高分子粘合剂的重均分子量在2000以上，数均分子量在1000以上；所述光聚合单体具有乙烯型不饱和官能基。2.根据权利要求1所述的用于新型C
‑
HJT电池制程的耐电镀光刻胶，其特征在于，所述高分子粘合剂的重均分子量在3000
‑
50000间，数均分子量在2000
‑
40000之间。3.根据权利要求1或2所述的用于新型C
‑
HJT电池制程的耐电镀光刻胶，其特征在于，所述高分子粘合剂包括但不限于丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、环氧树脂、酰胺树脂、酰胺环氧树脂、聚酰亚胺前驱物、醇酸树脂、酚醛树脂、聚氨酯树脂、由环氧树脂与（甲基）丙烯酸反应获得的环氧丙烯酸酯树脂、由环氧丙烯酸酯树脂与酸酐反应获得的酸改性环氧丙烯酸酯树脂中的至少一种。4.根据权利要求1所述的用于新型C
‑
HJT电池制程的耐电镀光刻胶，其特征在于，所述光聚合单体中的乙烯型不饱和官能基采用了丙烯酸酯基，所述光聚合单体包括但不限于1,4
‑
丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6
‑
己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊基乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊基乙二醇二(甲基)丙烯酸酯己二酸酯、新戊基乙二醇二甲基丙烯酸羟基特戊酸酯、二(甲基)丙烯酸二环戊二烯酯、己内酯改质的二(甲基)丙烯酸二环戊二烯 酯、烯丙基化的二(甲基)丙烯酸环己酯、二(甲基)丙烯酸异氰尿酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三甲基三(甲基)丙烯酸甲酯、三(丙烯氧乙基)异氰酸尿酯、乙氧基改质的三甲醇丙烷三丙烯酸酯、甘油丙氧基化物三丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯、脂...

【专利技术属性】
技术研发人员：万辉，黄磊，
申请(专利权)人：张家港科思创感光新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：