有机膜及其制造方法、组合物、层叠体及半导体器件技术

本发明专利技术提供一种耐溶剂性优异的有机膜及其制造方法、供于上述有机膜的形成的组合物、包含上述有机膜的层叠体、以及包含上述有机膜或上述层叠体的半导体器件，上述有机膜满足选自下述式(1)及下述式(2)中的至少1个式，式(1)：I/A≥2.5；式(2)：I/B≥0.5；在上述式(1)或上述式(2)中，I是以q在的范围内对上述有机膜进行中子小角度散射测定时的相对强度值的最大值，A是q在的范围内的相对强度值的最小值，B是q在的最小值，B是q在的范围内的相对强度值的最小值。围内的相对强度值的最小值。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有机膜及其制造方法、组合物、层叠体及半导体器件


[0001]本专利技术涉及一种有机膜及其制造方法、组合物、层叠体及半导体器件。

技术介绍

[0002]有机膜能够使用涂布法、印刷法、转印法等容易的成膜方法来形成。并且，通过调节膜中所包含的各成分(例如，树脂等)的结构、膜中所包含的各成分的含量等，还能够容易地设计膜的断裂伸长率等力学特性、膜的绝缘性等物理特性等。因此，近年来，作为用于各种用途的器件的膜，在各领域中使用了包含有机材料的有机膜。
[0003]例如，关于包含聚酰亚胺、苯并噁唑等树脂的有机膜，由于耐热性及绝缘性优异，因此适用于各种用途。作为上述用途，并无特别限定，但是若以安装用半导体器件为例，则可举出作为绝缘膜、密封材料的材料或保护膜的用途。并且，还可用作挠性基板的基底膜、覆盖层等。
[0004]关于这种有机膜，越来越期待在产业上的应用发展。
[0005]例如，在专利文献1中记载了一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有作为感光性聚酰亚胺前体的(A)成分和特定的结构的(B)成分。
[0006]以往技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：国际公开第2017/033833号

技术实现思路

[0009]专利技术要解决的技术课题
[0010]随着在各领域中使用有机膜，期望提供一种耐溶剂性优异的有机膜。
[0011]本专利技术的目的在于提供一种耐溶剂性优异的有机膜及其制造方法、供于上述有机膜的形成的组合物、包含上述有机膜的层叠体、以及包含上述有机膜或上述层叠体的半导体器件。
[0012]用于解决技术课题的手段
[0013]以下，记载本专利技术的代表性实施方式的例子。
[0014]＜1＞一种有机膜，其满足选自下述式(1)及下述式(2)中的至少1个式，
[0015]式(1)：I/A≥2.5；
[0016]式(2)：I/B≥0.5；
[0017]在上述式(1)或上述式(2)中，I是以q在的范围内对上述有机膜进行中子小角度散射测定时的相对强度值的最大值，A是以q在的范围内对上述有机膜进行中子小角度散射测定时的相对强度值的最小值，B是以q在的范围内对上述有机膜进行中子小角度散射测定时的相对强度值的最小值，q为在小角度散射中由下述式(Q)定义的值，
[0018]式(Q)：q＝(4π/λ)sinθ；
[0019]式(Q)中，λ为中子束的波长，θ为中子束的散射角。
[0020]＜2＞根据＜1＞所述的有机膜，其为包含选自聚酰亚胺、聚苯并噁唑、聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑前体中的至少1种树脂的组合物的涂布膜的固化物。
[0021]＜3＞根据＜2＞所述的有机膜，其中，上述组合物包含光敏剂。
[0022]＜4＞一种组合物，其供于＜1＞至＜3＞中任一项所述的有机膜的形成。
[0023]＜5＞一种层叠体，其包含2层以上的＜1＞至＜3＞中任一项所述的有机膜，且在任意上述有机膜彼此之间包含金属层。
[0024]＜6＞一种半导体器件，其包含＜1＞至＜3＞中任一项所述的有机膜或＜5＞所述的层叠体。
[0025]＜7＞一种有机膜的制造方法，其制造＜1＞至＜3＞中任一项所述的有机膜，所述制造方法包括将组合物适用于基板而形成膜的膜形成工序。
[0026]＜8＞根据＜7＞所述的有机膜的制造方法，其包括在50～450℃的条件下对上述膜进行加热的工序。
[0027]专利技术效果
[0028]根据本专利技术，提供一种耐溶剂性优异的有机膜及其制造方法、供于上述有机膜的形成的组合物、包含上述有机膜的层叠体、以及包含上述有机膜或上述层叠体的半导体器件。
具体实施方式
[0029]以下，对本专利技术的主要实施方式进行说明。然而，本专利技术并不限于明示的实施方式。
[0030]在本说明书中，使用“～”的标记表示的数值范围是指将记载于“～”的前后的数值分别作为下限值及上限值而包含的范围。
[0031]在本说明书中，“工序”这一用语不仅包括独立的工序，只要能够实现该工序的所期待的作用，则还包括无法与其他工序明确地进行区分的工序。
[0032]在本说明书中的基团(原子团)的标记中，未标有经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团(原子团)，并且还包含具有取代基的基团(原子团)。例如，“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，而且还包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。
[0033]在本说明书中，所谓“曝光”，只要无特别说明，则不仅包含使用了光的曝光，还包含使用了电子束、离子束等粒子束的曝光。并且，作为曝光中所使用的光，可举出以汞灯的明线光谱、准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(EUV光)、X射线、电子束等光化射线或放射线。
[0034]在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”及“丙烯酸甲酯”这两者或任一者，“(甲基)丙烯酸”是指“丙烯酸”及“甲基丙烯酸”两者或任一者，“(甲基)丙烯酰基”是指“丙烯酰基”及“甲基丙烯酰基”这两者或任一者。
[0035]在本说明书中，结构式中的Me表示甲基，Et表示乙基，Bu表示丁基，Ph表示苯基。
[0036]在本说明书中，总固体成分是指从组合物的所有成分中去除溶剂的成分的总质
量。并且，在本说明书中，固体成分浓度是指除溶剂以外的其他成分的质量相对于组合物的总质量的百分比。
[0037]在本说明书中，关于重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)，只要无特别叙述，则按照凝胶渗透色谱法(GPC测定)，作为聚苯乙烯换算值来定义。在本说明书中，重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)例如能够通过使用HLC
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8220GPC(TOSOH CORPORATION制造)，且使用保护管柱HZ
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L、TSKgel Super HZM
‑
M、TSKgel Super HZ4000、TSKgel Super HZ3000、TSKgel Super HZ2000(TOSOH CORPORATION制造)作为管柱来求出。关于这些的分子量，只要无特别叙述，则作为洗脱液而使用THF(四氢呋喃)来进行测定。并且，关于GPC测定中的检测，只要无特别叙述，则使用UV射线(紫外线)的波长为254nm的检测器。
[0038]在本说明书中，关于构成层叠体的各层的位置关系，在记载为“上”或“下”时，只要在所关注的多个层中作为基准的层的上侧或下侧具有其他层即可。即，可以在作为基准的层与上述其他层之间进一步插入第3层、要件，作为基准的层与上述其他层无需接触。并且，只要无特别说明，则将相对于基材堆层叠的方向称为“上”，或者在具有组合物层的情况下，将从基材朝向组合物层的方向称为“上”，并将其相反方向称为“下”。另外，在本说明书中，这种上下方向的设定是为了方便，在实际方式中，本说明书中的“上”方向有时还与铅直向上方向不同。
[0039]在本说明书中，只要无特别记载，则组合物本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种有机膜，其满足选自下述式(1)及下述式(2)中的至少1个式，式(1)：I/A≥2.5；式(2)：I/B≥0.5；在所述式(1)或所述式(2)中，I是以q在的范围内对所述有机膜进行中子小角度散射测定时的相对强度值的最大值，A是以q在的范围内对所述有机膜进行中子小角度散射测定时的相对强度值的最小值，B是以q在的范围内对所述有机膜进行中子小角度散射测定时的相对强度值的最小值，q为在小角度散射中由下述式(Q)定义的值，式(Q)：q＝(4π/λ)sinθ；式(Q)中，λ为中子束的波长，θ为中子束的散射角。2.根据权利要求1所述的有机膜，其为包含选自聚酰亚胺、聚苯并噁唑、聚酰亚胺前体及聚苯并噁唑...

【专利技术属性】
技术研发人员：室祐继，松井高史，青岛俊荣，岛田和人，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：