一种采样管上料机构制造技术

一种采样管上料机构，用于将采样管从相对较高的工位输送到相对较低的工位，属于上料设备制造技术领域，包括支架，支架上设有水平的样管输送带，支架上在样管输送带的初始端的上方设有轴线垂直于样管输送带的输送方向的锥齿盘，锥齿盘顶端的齿顶所在的平面为垂直于样管输送带的侧壁，锥齿盘底端的齿顶所在的平面平行于样管输送带的输送面，支架上在锥齿盘的齿顶一侧设有锥弧形挡板，锥弧形挡板的两个端点分别位于锥齿盘顶端的齿顶和锥齿盘底端的齿顶处，锥弧形挡板的凹陷面朝向样管输送带的输送方向，本实用新型专利技术解决了将采样管从相对较高的工位输送到相对较低的工位的问题。高的工位输送到相对较低的工位的问题。高的工位输送到相对较低的工位的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种采样管上料机构


[0001]一种采样管上料机构，用于将采样管从相对较高的工位输送到相对较低的工位，属于上料设备制造


技术介绍

[0002]一般的上料机构，就是采用传送带倾斜设置或者传送带配合升降机来实现上料的动作，这样能够将位于高位的零部件输送到位于低位，或者说将位于低位的零部件输送到高位，这其中，如果是砂石或者可以搅拌的原料，则被输送的物品无需特别注意，原料之间可以碰撞；但是，在输送采样管时，由于采样管时柱形的，容易发生滚动，特别是采集气味或者液体的采样管，一般是玻璃制品，很脆，在受到碰撞时，容易破，因此，普通的上料机构无法满足这方面的需求。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是针对现有技术的缺点，采用锥齿盘配合位于锥齿盘下方的传送带的方式，设计了一种采样管上料机构，能够自动将采样管从一个相对较高的工位处平稳且连续不断地输送到相对位于下方的工位，从而节约搬运时间，也防止采样管相互碰撞和滚动的情况发生，解决了将采样管从相对较高的工位输送到相对较低的工位的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0005]一种采样管上料机构，包括支架，所述支架上设有水平的样管输送带，支架上在所述样管输送带的初始端的上方设有轴线垂直于所述样管输送带的输送方向的锥齿盘，所述锥齿盘顶端的齿顶所在的平面为垂直于所述样管输送带的侧壁，所述锥齿盘底端的齿顶所在的平面平行于所述样管输送带的输送面，所述支架上在所述锥齿盘的齿顶一侧设有与锥齿盘同轴的锥弧形挡板，所述锥弧形挡板的两个端点分别位于所述锥齿盘顶端的齿顶和锥齿盘底端的齿顶处，所述锥弧形挡板的弧形凹陷方向朝向所述样管输送带的输送方向。
[0006]优选的，所述样管输送带的输送面上排列设有若干样管槽，所述样管槽的轴线水平设置，且样管槽的轴线垂直于所述样管输送带的输送方向，所述样管槽的上表面位于所述锥齿盘的下方。
[0007]优选的，所述支架上还设有直振机，所述直振机的出料嘴水平设置且对准所述锥齿盘顶端的齿顶。
[0008]优选的，所述出料嘴的端部设有弧形导料段，所述弧形导料段的弧形凹陷方向朝向所述样管输送带的初始端。
[0009]优选的，所述锥弧形挡板的内表面上的每一点到所述锥齿盘的齿顶的距离均相等。
[0010]优选的，所述锥弧形挡板的宽度小于所述锥齿盘的齿宽。
[0011]优选的，所述锥齿盘的啮齿在背向所述锥齿盘旋转方向的一侧设有倒角。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0013]1、本技术采用锥齿盘配合位于锥齿盘下方的传送带的方式，设计了一种采样管上料机构，能够自动将采样管从一个相对较高的工位处平稳且连续不断地输送到相对位于下方的工位，从而节约搬运时间，也防止采样管相互碰撞和滚动的情况发生，解决了将采样管从相对较高的工位输送到相对较低的工位的问题。
[0014]2、为了使本技术的功能更加完善，使得用户在使用本新型的装置时可以不用额外添加辅助防止样管输送带滚动的情况，将样管输送带的输送面上排列设有若干样管槽，样管槽的轴线水平设置，且样管槽的轴线垂直于样管输送带的输送方向，样管槽的上表面位于锥齿盘的下方，这样设置之后，可以调整样管输送带的输送速度配合锥齿盘的转动速度，使得从锥齿盘的齿槽中落下到样管输送带上的采样管直接落入到样管槽内，这样采样管就不会在样管输送带的动作过程中发生滚动和碰撞。
附图说明
[0015]图1为本技术的结构示意图；
[0016]图2为图1中右端的局部图；
[0017]图3为本技术中出料嘴与锥齿盘之间的关系图。
[0018]其中，1、支架；2、样管输送带；3、锥齿盘；4、锥弧形挡板；5、啮齿；6、样管槽；7、直振机；8、出料嘴；9、弧形导料段；10、倒角；11、采样管。
具体实施方式
[0019]参见图1
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3，一种采样管上料机构，包括支架1，所述支架1上设有水平的样管输送带2，支架1上在所述样管输送带2的初始端的上方设有轴线垂直于所述样管输送带2的输送方向的锥齿盘3，所述锥齿盘3顶端的齿顶所在的平面垂直于所述样管输送带2的侧壁，所述锥齿盘3底端的齿顶所在的平面平行于所述样管输送带2的输送面，所述支架1上在所述锥齿盘3的齿顶一侧设有与锥齿盘3同轴的锥弧形挡板4，所述锥弧形挡板4的两个端点分别对应所述锥齿盘3顶端的啮齿5的齿顶和锥齿盘3底端的啮齿5的齿顶，所述锥弧形挡板4的弧形凹陷方向朝向所述样管输送带2的输送方向。
[0020]在本技术中，使用时，位于相对较高工位的将采样管11通过传送带或者输送链传到锥齿盘3上端的齿槽处，由于锥齿盘3上相对位于锥齿盘3顶端的啮齿5的齿顶所在的平面是竖直的且平行于样管输送带2的侧壁，并且支架1上在所述锥齿盘3的齿顶一侧设有与锥齿盘3同轴的锥弧形挡板4，也就是说，锥弧形挡板4的设置防止位于齿槽内的采样管11在锥齿盘3的转动过程中离开锥齿盘3，并且所述锥弧形挡板4的两个端点分别对应所述锥齿盘3顶端的啮齿5的齿顶和锥齿盘3底端的啮齿5的齿顶，所述锥弧形挡板4的弧形凹陷方向朝向所述样管输送带2的输送方向，也就是说锥弧形挡板4直挡住锥齿盘3上所有齿槽中的一半数量的齿槽，并且是挡住锥齿盘3上靠近样管输送带2初始端一侧的所有齿槽，因此，采样管11在锥齿盘3的转动过程中，随着锥齿盘3转动，直到运动到锥齿盘3上的最低点，也就是锥齿盘3与样管输送带2最近的位置才会在重力作用下离开锥齿盘3进入到样管输送带2上，然后再随样管输送带2的输送，移动到预设工位上，在这个过程中，一个齿槽输送一个采样管11，使得即使在采样管11自身的重力作用下，也不会发生采样管11之间的碰撞，当运动到样管输送带2上时。样管输送带2上也可以采用普通的传送带配合一些特别用于放置采
样管11的装置，或者采用在普通的送带上设置一些用于放置采样管11的卡槽，亦或是将普通的送带的输送面设置为摩擦力很大的粗糙面，甚至可以将普通的送带的传送速度调慢等等，以防止采样管11发生滚动。
[0021]为了使本技术的功能更加完善，使得用户在使用本新型的装置时可以不额外添加辅助防止样管输送带2滚动的情况，将样管输送带2的输送面上排列设有若干样管槽6，所述样管槽6的轴线水平设置，且样管槽6的轴线垂直于所述样管输送带2的输送方向，所述样管槽6的上表面位于所述锥齿盘3的下方，这样设置之后，可以调整样管输送带2的输送速度配合锥齿盘3的转动速度，使得从锥齿盘3的齿槽中落下到样管输送带2上的采样管11直接落入到样管槽6内，这样采样管11就不会在样管输送带2的动作过程中发生滚动和碰撞。
[0022]作为一种优选的方式，所述支架1上还设有直振机7，所述直振机7的出料嘴8水平设置且对准所述锥齿盘3顶端的啮齿5的齿顶，通过直振机7将采样管11送入到锥齿盘3的齿槽内。
[0023]进一步的，在设置直振机7的基础上，将直振机7的出料嘴8的端部设有弧形导料段9，所述弧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种采样管上料机构，包括支架(1)，其特征在于，所述支架(1)上设有水平的样管输送带(2)，支架(1)上在所述样管输送带(2)的初始端的上方设有轴线垂直于所述样管输送带(2)的输送方向的锥齿盘(3)，所述锥齿盘(3)顶端的齿顶所在的平面垂直于所述样管输送带(2)的侧壁，所述锥齿盘(3)底端的齿顶所在的平面平行于所述样管输送带(2)的输送面，所述支架(1)上在所述锥齿盘(3)的齿顶一侧设有与锥齿盘(3)同轴的锥弧形挡板(4)，所述锥弧形挡板(4)的两个端点分别对应所述锥齿盘(3)顶端的啮齿(5)的齿顶和锥齿盘(3)底端的啮齿(5)的齿顶，所述锥弧形挡板(4)的弧形凹陷方向朝向所述样管输送带(2)的输送方向。2.根据权利要求1所述的一种采样管上料机构，其特征在于，所述样管输送带(2)的输送面上排列设有若干样管槽(6)，所述样管槽(6)的轴线水平设置，且样管槽(6)的轴线垂直于所述样管输...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚有成，
申请(专利权)人：湃思科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：