一种料盒式晶圆等离子清洗结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种料盒式晶圆等离子清洗结构，包括：真空腔体，所述真空腔体底部设有屏蔽盒，所述屏蔽盒连接有射频等离子发生器；所述真空腔体包括右立板和左立板；所述真空腔体内设有气管；所述右立板和左立板一侧之间设有电极正极，另一侧之间设有电极负极；所述电极正极与电极负极之间设有两个电极板，所述电极板上设有等距的圆孔；所述屏蔽盒通过铜柱与电极板连接，所述电极板底部设有电极屏蔽块，所述电极屏蔽块设有多个与电极板安装的固定槽。定槽。定槽。

【技术实现步骤摘要】
一种料盒式晶圆等离子清洗结构


[0001]本技术涉及一种料盒式晶圆等离子清洗结构，属于晶圆等离子清洗


技术介绍

[0002]等离子清洗机常用于去除晶圆表面处理上的微粒、彻底去除光刻胶和其他有机物、活化及粗化晶圆表面、提高晶圆表面浸润性等，等离子清洗机在晶圆表面处理上的处理效果明显，目前在晶圆加工中普遍使用；
[0003]由于目前晶圆都是放在料盒内放置，在清洗时，需要将单个进行清洗，清洗完之后还要一个个的放回料盒，这样费时费力，降低了工作效率。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种料盒式晶圆等离子清洗结构。
[0005]一种料盒式晶圆等离子清洗结构，包括：
[0006]真空腔体，所述真空腔体底部设有屏蔽盒，所述屏蔽盒连接有射频等离子发生器；所述真空腔体包括右立板和左立板；所述真空腔体内设有气管；
[0007]所述右立板和左立板一侧之间设有电极正极，另一侧之间设有电极负极；所述电极正极与电极负极之间设有两个电极板，所述电极板上设有等距的圆孔；所述屏蔽盒通过铜柱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种料盒式晶圆等离子清洗结构，其特征是，包括：真空腔体（3），所述真空腔体（3）底部设有屏蔽盒（2），所述屏蔽盒（2）连接有射频等离子发生器（1）；所述真空腔体（3）包括右立板（10）和左立板（17）；所述真空腔体（3）内设有气管（19）；所述右立板（10）和左立板（17）一侧之间设有电极正极（16），另一侧之间设有电极负极（14）；所述电极正极（16）与电极负极（14）之间设有两个电极板（15），所述电极板（15）上设有等距的圆孔；所述屏蔽盒（2）通过铜柱（20）与电极板（15）连接，所述电极板（15）底部设有电极屏蔽块（21），所述电极屏蔽块（21）设有多个与电极板（15）安装的固定槽。2.根据权利要求1所述的料盒式晶圆等离子清洗结构，其特征是，所述电极负极（14）设有一层石英玻璃。3.根据权利要求1所述的料盒式晶圆等离子清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭峰，王宇，陈晓明，
申请(专利权)人：昆山普乐斯电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：