【技术实现步骤摘要】
本技术涉及等离子材料表面改性,特别涉及大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置。
技术介绍
1、低温射流等离子是指大气常压环境下,在一个相对开放的区间,由高频电场激发气体,产生包含电子、激发态离子以及原子团自由基等多种活性粒子的形成的等离子射流,进而利用等离子射流中高能态粒子的光、电以及化学特性,与被处理对象进行反应,实现有机污染物的去除,表面分子结构重组,形成活性基团等,目的大气射流等离子表面处理装置结构简单,安装方便,可对塑料、橡胶、金属、玻璃、陶瓷、纸质等材料进行表面处理,已经广泛应用于印刷、包装、电子、汽车、医疗、新能源等行业。
2、介质阻挡放电(die lectr ic barr ier discharge,dbd)是有绝缘介质插入放电空间的一种非平衡态气体放电又称介质阻挡电晕放电或无声放电。介质阻挡放电能够在高气压和很宽的频率范围内工作,通常的工作气压为10~10000。
3、比如公开号为cn105101603b的公开技术,该一种介质阻挡放电等离子体射流装置包括绝缘介质柱、放电电极和供电电源;绝缘介质柱的
...【技术保护点】
1.一种大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述金属轴管(2)为空心设置,且金属轴管(2)贯穿转子并与其固定。
3.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述等离子发生模组包括:等离子发生器(4);设于所述等离子发生器(4)上且与所述绝缘罩(5)固连接高压线(41)和接地线(42),所述高压线(41)的输出口位于绝缘罩(5)的内壁。
4.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,
...【技术特征摘要】
1.一种大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述金属轴管(2)为空心设置,且金属轴管(2)贯穿转子并与其固定。
3.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述等离子发生模组包括:等离子发生器(4);设于所述等离子发生器(4)上且与所述绝缘罩(5)固连接高压线(41)和接地线(42),所述高压线(41)的输出口位于绝缘罩(5)的内壁。
4.根据权利要求1所述的大面积介质阻挡射流等离子表面处理装置,其特征在于,所述绝缘罩(5)呈圆形设置,且表面开设有若干均匀间隔分布的散热孔(51)。
5.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭峰,包纪云,王宇,
申请(专利权)人:昆山普乐斯电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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