一种等离子清洗自加热型腔体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种等离子清洗自加热型腔体，包括：腔体，所述腔体内壁均匀设有加热管，所述腔体内设有馈入极，所述馈入极内部设有用于放置产品的石英舟，所述馈入极连接有铜柱，所述铜柱通过铜片导电；屏蔽罩，所述屏蔽罩套设在馈入极外部，一端与馈入极固接；所述腔体内设有进气管和抽气管，形成回路；本实用新型专利技术通过设置弧形馈入极使等离子均匀，对石英舟上的产品进行均匀清洗，提高清洗效果。提高清洗效果。提高清洗效果。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子清洗自加热型腔体


[0001]本技术涉及一种等离子清洗自加热型腔体，属于等离子清洗


技术介绍

[0002]晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能之IC产品；晶圆加工之后需要对其表面的胶进行清洗，一般采用等离子清洗，现有等离子清洗在清洗时，由于将多个晶圆叠放在一起，造成清洗不均匀，需要二次清洗，降低工作效率。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于克服现有等离子清洗在清洗时，由于将多个晶圆叠放在一起，造成清洗不均匀，需要二次清洗，降低工作效率的不足，提供一种等离子清洗自加热型腔体。
[0004]一种等离子清洗自加热型腔体，包括：
[0005]腔体，所述腔体内壁均匀设有加热管，所述腔体内设有馈入极，所述馈入极内部设有用于放置产品的石英舟，所述馈入极连接有铜柱，所述铜柱通过铜片导电；
[0006]屏蔽罩，所述屏蔽罩套设在馈入极外部，一端与馈入极固接；
[0007]所述腔体内设有进气管和抽气管，形成回路。
[0008]进一步地，所述进气管与外设的等离子发生器连接，等离子发生器与所述铜片连接。
[0009]进一步地，所述馈入极为圆弧型。
[0010]进一步地，所述铜柱与馈入极之间设有绝缘套。
[0011]进一步地，所述进气管至少设有三组。
[0012]进一步地，所述铜片设有屏蔽盒。
[0013]进一步地，所述石英舟包括石英棒，所述石英棒两端设有石英板。
[0014]进一步地，所述石英棒设有三根，均开设凹槽，其中一根设在底部。
[0015]与现有技术相比，本技术所达到的有益效果：本技术通过在腔体内壁设有多个加热管，使腔体内加热快、均匀，提高去胶工艺；
[0016]本技术通过设置弧形馈入极使等离子均匀，对石英舟上的产品进行均匀清洗，提高清洗效果。
附图说明
[0017]图1为本技术结构示意图；
[0018]图2为本技术腔体内部示意图；
[0019]图3为本技术腔体剖视示意图；
[0020]图4为本技术石英舟结构示意图；
[0021]图中：1、腔体；2、馈入极；3、屏蔽罩；4、石英舟；5、等离子发生器；6、屏蔽盒；7、抽气管；8、真空门；9、玻璃窗；10、把手；11、把手固定块；12、支撑柱；13、铰链；14、进气管；15、石英棒；16、石英板；17、铜片；18、铜柱；19、绝缘套；20、加热管。
具体实施方式
[0022]下面结合附图对本技术作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本技术的技术方案，而不能以此来限制本技术的保护范围。
[0023]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0024]如图1
‑
图4所示，公开了一种等离子清洗自加热型腔体，包括：
[0025]腔体1，所述腔体1内壁均匀设有加热管20，所述腔体1内设有馈入极2，所述馈入极2内部设有用于放置产品的石英舟4，所述馈入极2连接有铜柱18，所述铜柱18通过铜片17导电；
[0026]屏蔽罩3，所述屏蔽罩3套设在馈入极2外部，一端与馈入极2固接；所述铜柱18与馈入极2之间设有绝缘套19，设置绝缘套19的目的保证腔体1外部绝缘，提高安全性。
[0027]所述腔体1内设有进气管14和抽气管7，形成回路，所述进气管14与外设的等离子发生器5连接，等离子发生器5与所述铜片17连接，等离子发生器与进气管14连接对腔体1内进行等离子气体清洗产品；
[0028]在本实施例中，所述馈入极2为圆弧型，能够使等离子均匀，除胶均匀，提高除胶效率；
[0029]本技术中为了达到等离子清洗均匀，所述进气管14至少设有三组，通过三组进气管14使进气量增加，提高清洗速率，同时使产品均匀清洗。
[0030]在本实施例中，所述铜片17设有屏蔽盒6，用于抑制辐射干扰，防止外部干扰。
[0031]如图4所示，所述石英舟4包括石英棒15，所述石英棒15两端设有石英板16，所述石英棒15设有三根，均开设凹槽，其中一根设在底部，三根石英棒15呈三角形放置，两根位置相同高，其中一根设在两根中间靠下，凹槽用于放置圆形晶圆。
[0032]在本实施例中，腔体1中设置的加热管20，实现均匀加热，在本申请中，也可以通过将腔体1内壁中设置中空结构，加入导热油，实现均匀加热的效果。
[0033]本技术通过在腔体内壁设有多个加热管，使腔体内加热快、均匀，提高去胶工艺；
[0034]本技术通过设置弧形馈入极使等离子均匀，对石英舟上的产品进行均匀清洗，提高清洗效果。
[0035]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安
装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0036]以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变形，这些改进和变形也应视为本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子清洗自加热型腔体，其特征是，包括：腔体（1），所述腔体（1）内壁均匀设有加热管（20），所述腔体（1）内设有馈入极（2），所述馈入极（2）内部设有用于放置产品的石英舟（4），所述馈入极（2）连接有铜柱（18），所述铜柱（18）通过铜片（17）导电；屏蔽罩（3），所述屏蔽罩（3）套设在馈入极（2）外部，一端与馈入极（2）固接；所述腔体（1）内设有进气管（14）和抽气管（7），形成回路。2.根据权利要求1所述的等离子清洗自加热型腔体，其特征是，所述进气管（14）与外设的等离子发生器（5）连接，等离子发生器（5）与所述铜片（17）连接。3.根据权利要求1所述的等离子清洗自加热型腔体...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭峰，王宇，陈晓明，
申请(专利权)人：昆山普乐斯电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：