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本实用新型公开了一种料盒式晶圆等离子清洗结构，包括：真空腔体，所述真空腔体底部设有屏蔽盒，所述屏蔽盒连接有射频等离子发生器；所述真空腔体包括右立板和左立板；所述真空腔体内设有气管；所述右立板和左立板一侧之间设有电极正极，另一侧之间设有电极负...
该专利属于昆山普乐斯电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山普乐斯电子科技有限公司授权不得商用。

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