玻璃基板清洗方法及清洗设备技术

本申请公开了一种玻璃基板清洗方法及清洗设备，玻璃基板清洗方法包括如下步骤初步清洗玻璃基板；一次吹扫所述玻璃基板；盘刷清洗所述玻璃基板；二次吹扫所述玻璃基板；复洗并干燥所述玻璃基板；对所述玻璃基板除静电。通过对玻璃基板进行初步清洗、一次吹扫后进行盘刷清洗，以实现对玻璃基板表面的颗粒和杂质进行初步清除，避免其被带入盘刷清洗流程对玻璃基板表面造成划伤；同时在盘刷清洗后先经过二次吹扫再进行复洗和干燥，进一步地保证玻璃基板表面的清洁度且保证清洁效果，避免盘刷清洗过程中存在残留的清洗剂影响后续工序；再者除静电的设置也能够防止玻璃基板吸附杂质，再次提高玻璃基板的清洗效果。提高玻璃基板的清洗效果。提高玻璃基板的清洗效果。

【技术实现步骤摘要】
玻璃基板清洗方法及清洗设备


[0001]本申请涉及玻璃生产
，尤其涉及一种玻璃基板清洗方法及清洗设备。

技术介绍

[0002]玻璃基板是显示面板的重要原材料之一，玻璃表面清洗的干净程度对后续产品的显示效果会有一定影响，进而显示产品对玻璃基板表面的颗粒数及表面缺陷有严格的要求，因而玻璃基板在进行显示产品生产前需要进行清洗玻璃基板表面颗粒高或表面缺陷多会造成面板厂膜层脱落、断线等不良，影响面板厂的良品率。
[0003]目前，玻璃基板在清洗方法简单，无法保证玻璃基板表面的较高清洁度，往往会出现颗粒高、表面缺陷、表面存在污渍、水滴等，不仅降低了玻璃基板的良品率，又会造成面板厂膜层脱落、断线等不良。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种玻璃基板清洗方法及清洗设备，以解决现有玻璃基板清洗工艺简单，无法保证玻璃基板的表面清洁度从而造成玻璃基板的领频率低甚至是影响后续显示产品的生产问题。
[0005]为解决上述技术问题，本申请实施例提供如下技术方案：
[0006]本申请第一方面提供一种玻璃基板清洗方法，其包括如下步骤：
[0007]初步清洗玻璃基板；
[0008]一次吹扫所述玻璃基板；
[0009]盘刷清洗所述玻璃基板；
[0010]二次吹扫所述玻璃基板；
[0011]复洗并干燥所述玻璃基板；
[0012]对所述玻璃基板除静电。
[0013]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中初步清洗玻璃基板的步骤，具体为：
[0014]高压喷淋清洗所述玻璃基板；
[0015]超声波清洗所述玻璃基板。
[0016]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中复洗并干燥所述玻璃基板的步骤，具体为：
[0017]超纯水高压喷淋复洗所述玻璃基板；
[0018]三次吹扫所述玻璃基板；
[0019]风刀干燥所述玻璃基板。
[0020]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中对所述玻璃基板除静电的步骤，之后还包括：
[0021]对比清洗玻璃基板并对比清洗结果，以确定所述玻璃基板清洗方法可继续运行。
[0022]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中高压喷淋清洗所述玻璃基板的步骤，具体为：
[0023]高压喷淋水的压力为0.5MPa
‑
2MPa、温度为40
‑
60℃、流量为120
‑
160L/min；高压喷淋水的喷淋角度与所述玻璃基板的流向相逆且呈10
‑
90
°
；
[0024]超声波清洗所述玻璃基板的步骤，具体为：
[0025]通过高频振板喷出带有高频超声波的水清洗所述玻璃基板表面的杂质；其中，所述高频振板的频率为600KHZ
‑
1000KHZ。
[0026]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中一次吹扫所述玻璃基板、二次吹扫所述玻璃基板以及三次吹扫所述玻璃基板的步骤，具体为：
[0027]利用风切装置向所述玻璃基板吹扫水气混合物；
[0028]其中，气体压力0.1
‑
0.5Mpa，水流压力0.1
‑
0.15MPa。
[0029]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中盘刷清洗所述玻璃基板的步骤，具体为：
[0030]利用盘刷机控制上下盘刷转速200
‑
500rpm，盘刷压入量0.1
‑
0.5mm对所述玻璃基板进行刷洗，同时加入浓度为1％
‑
4％、温度为40
‑
60℃的碱性清洗剂。
[0031]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中超纯水高压喷淋复洗所述玻璃基板的步骤，具体为：
[0032]利用15
‑
18兆欧的纯净水对所述玻璃基板进行最终喷淋，喷淋水的温度为40
‑
60℃、喷淋压力为0.25
‑
0.45MPa、喷淋流量为120
‑
160L/min、喷淋角度与所述玻璃基板的流向相逆且呈10
‑
90
°
；
[0033]风刀干燥所述玻璃基板的步骤，具体为：
[0034]风刀的吹出方向与所述玻璃基板的流向相逆且呈10
‑
20
°
，风刀的吹出压力为70
‑
120Pa。
[0035]在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的玻璃基板清洗方法，其中对比清洗玻璃基板并对比清洗结果，以确定所述玻璃基板清洗方法可继续使用的步骤，具体为：
[0036]对于同一款玻璃基板进行对比清洗通过减小所述玻璃清洗方法中的至少部分参数进行清洗；或者删减所述玻璃基板清洗方法中的至少一个步骤进行清洗；
[0037]对比清洗结果以确定所述玻璃基板清洗方法可继续使用的步骤。
[0038]本申请第二方面提供一种清洗设备，其包括控制器、传送装置以及沿所述传送装置的传输方向于所述传送装置上依次设置的初步清洗单元、第一吹扫单元、盘刷清洗单元、第二吹扫单元、复洗干燥单元以及离子风机单元；
[0039]所述控制器与所述传送装置信号连接，以控制所述传送装置启动/停止传输玻璃基板；
[0040]所述控制器与所述初步清洗单元、所述第一吹扫单元、所述盘刷清洗单元、所述第二吹扫单元、所述复洗干燥单元以及所述离子风机单元信号连接，以控制所述初步清洗单元、所述第一吹扫单元、所述盘刷清洗单元、所述第二吹扫单元、所述复洗干燥单元以及所述离子风机单元的启动/停止；
[0041]其中，所述初步清洗单元、所述第一吹扫单元、所述盘刷清洗单元、所述第二吹扫单元、所述复洗干燥单元以及所述离子风机单元的入口和/或出口位置均设有位置检测器，
所述位置检测器与所述控制器相接，所述控制器能够根据所述位置检测器的信号启动/停止所述初步清洗单元、所述第一吹扫单元、所述盘刷清洗单元、所述第二吹扫单元、所述复洗干燥单元以及所述离子风机单元。
[0042]相较于现有技术，本申请第一方面提供的玻璃基板清洗方法，通过对玻璃基板进行初步清洗、一次吹扫后进行盘刷清洗，以实现对玻璃基板表面的颗粒和杂质进行初步清除，避免其被带入盘刷清洗流程对玻璃基板表面造成划伤；同时在盘刷清洗后先经过二次吹扫再进行复洗和干燥，进一步地保证玻璃基板表面的清洁度且保证清洁效果，避免盘刷清洗过程中存在残留的清洗剂影响后续工序；再者除静电的设置也能够防止玻璃基板吸附杂质，再次提高玻璃基板的清洗效果；有效解决了现有玻璃基板清洗工艺简单，无法保证玻璃基板的表面清洁度从而造成玻璃基板的领频率低甚至是影响后续显示产品的生产问题。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种玻璃基板清洗方法，其特征在于，其包括如下步骤：初步清洗玻璃基板；一次吹扫所述玻璃基板；盘刷清洗所述玻璃基板；二次吹扫所述玻璃基板；复洗并干燥所述玻璃基板；对所述玻璃基板除静电。2.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗方法，其特征在于，其中初步清洗玻璃基板的步骤，具体为：高压喷淋清洗所述玻璃基板；超声波清洗所述玻璃基板。3.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗方法，其特征在于，其中复洗并干燥所述玻璃基板的步骤，具体为：超纯水高压喷淋复洗所述玻璃基板；三次吹扫所述玻璃基板；风刀干燥所述玻璃基板。4.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗方法，其特征在于，其中对所述玻璃基板除静电的步骤，之后还包括：对比清洗玻璃基板并对比清洗结果，以确定所述玻璃基板清洗方法可继续运行。5.根据权利要求2所述的玻璃基板清洗方法，其特征在于，其中高压喷淋清洗所述玻璃基板的步骤，具体为：高压喷淋水的压力为0.5MPa
‑
2MPa、温度为40
‑
60℃、流量为120
‑
160L/min；高压喷淋水的喷淋角度与所述玻璃基板的流向相逆且呈10
‑
90
°
；超声波清洗所述玻璃基板的步骤，具体为：通过高频振板喷出带有高频超声波的水清洗所述玻璃基板表面的杂质；其中，所述高频振板的频率为600KHZ
‑
1000KHZ。6.根据权利要求3所述的玻璃基板清洗方法，其特征在于，其中一次吹扫所述玻璃基板、二次吹扫所述玻璃基板以及三次吹扫所述玻璃基板的步骤，具体为：利用风切装置向所述玻璃基板吹扫水气混合物；其中，气体压力0.1
‑
0.5Mpa，水流压力0.1
‑
0.15MPa。7.根据权利要求1所述的玻璃基板清洗方法，其特征在于，其中盘刷清洗所述玻璃基板的步骤，具体为：利用盘刷机控制上下盘刷转速200
‑
500rpm，盘刷压入量0.1
‑
0.5mm对所述玻璃基板进行刷洗，同时加入浓度为1％
‑
4％、温度为40
‑
60℃的碱性清洗剂。8.根据权利要求3所述的玻璃基板清洗方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：李青，李赫然，林海峰，吴亚平，翟星宇，董光明，陈涛涛，石志强，李震，
申请(专利权)人：东旭光电科技股份有限公司北京远大信达科技有限公司，
类型：发明
国别省市：