本发明专利技术涉及玻璃蚀刻技术领域，具体涉及单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，首先取一块玻璃基板，对其进行初蚀刻处理，得到初蚀刻玻璃薄板，然后将其远离刻蚀表面的侧面固定于防酸背板上，再通过在玻璃基板的表面蚀刻形成图案的凹槽，从而得到图案玻璃薄板，最后进行优化和分离，得到理想的超薄玻璃基板；本发明专利技术提供了由该方法所制得的超薄玻璃。本发明专利技术通过设置单面的耐酸光刻层，节约了生产成本；将初蚀刻玻璃薄板通过胶粘层固定于防酸背板上，便于在蚀刻过程中的固定，且不易造成超薄玻璃的卷曲而破裂，降低了其不良率；优化分离步骤能进行高精度切割，得到分离且规则的超薄玻璃，具有的蚀刻图案扩大了其应用范围，实用性强。实用性强。实用性强。
【技术实现步骤摘要】
单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃
[0001]本专利技术涉及玻璃蚀刻
，具体涉及单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃。
技术介绍
[0002]超薄型玻璃能很好地应用于折叠手机的盖板领域，物理方法和化学方法是玻璃切割和减薄的常用技术，其中，化学蚀刻法由于具有产率高、不良率低且减薄效果好等优点，而越来越受到人们的欢迎，一般化学切割方法不需要进行物理性的切割和抛光所以不会发生微裂纹，但需要进行双面光刻胶镀膜、刻图案，不但导致了制作成本的增加，而且由于超薄玻璃厚度较小，双面蚀刻也容易造成断裂和不易固定的问题。
[0003]因此，人们将研究的目光逐渐转移到了单面蚀刻制造超薄玻璃的技术研究，目前也有相关文献对其进行了公开和报导，但是其方法比较单一，得到的超薄玻璃性能有待进一步提高，例如，在现有技术中，专利号为CN103359949A的“TFT玻璃基板单面蚀刻的方法”和专利号为CN204644165U的“用于蒙砂玻璃的单面蚀刻装置”均是对玻璃基板的非蚀刻区进行防护，然后通过蚀刻液进行蚀刻，即得到相应的超薄玻璃，但是该方法制得的玻璃结构单一，并且没有蚀刻相应的图案，性能的缺陷限制了其应用，并且仅仅通过耐酸膜/保护膜的限制，难以对超薄玻璃进行固定，容易造成其破裂，导致不良率的上升。又如，专利号为CN111453997A的“单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃”通过单面减薄技术可以降低光刻胶的成本，实现了对图案的形状的切割，且不易发生微裂纹，但是其连接结构是耐酸性薄膜，不但不易于固定，而且在减薄的过程中容易发生卷曲而造成破裂，并且其切割过程太过简单，不容易控制，蚀刻液会继续对蚀刻后的玻璃基板进行蚀刻，造成蚀刻过度的问题，得到不规则形状的超薄玻璃不理想，如图8所示。
技术实现思路
[0004]针对上述现有领域存在的问题，本专利技术的目的是提供一种稳固性好、不良率低、效率高且效果好的单面蚀刻制造超薄玻璃的方法。为实现本专利技术的目的，采用如下技术方案：
[0005]一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，包括以下步骤：
[0006](1)初蚀刻减薄：取一块玻璃基板，对其进行初蚀刻处理，得到初蚀刻玻璃薄板；
[0007](2)固定：将步骤(1)所得初蚀刻玻璃薄板远离刻蚀表面的侧面固定于防酸背板上；
[0008](3)蚀刻图案：通过在玻璃基板的表面蚀刻形成图案的凹槽，从而得到图案玻璃薄板；
[0009](4)优化分离：对步骤(3)所得图案玻璃薄板进行优化和分离，得到厚度为0.02
‑
0.08mm的超薄玻璃基板。
[0010]优选的，步骤(1)所述初蚀刻减薄包括以下步骤：
[0011](101)打磨：将待刻蚀面进行打磨处理，防止减薄后的打磨造成破裂，以降低不良
率；
[0012](102)清洁：对步骤(101)打磨后的玻璃基板通过蒸馏水、乙醇洗涤2
‑
3次，以得到表面洁净的玻璃基板；
[0013](103)防护：在步骤(102)清洁后的玻璃基板的底面及其四周形成第一耐酸防护层；
[0014](104)蚀刻：将步骤(103)所得玻璃基板通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到初蚀刻玻璃薄板。
[0015]优选的，步骤(2)所述初蚀刻玻璃薄板远离刻蚀表面的侧面通过胶粘层固定于防酸背板上。
[0016]优选的，步骤(3)所述蚀刻图案具体包括以下步骤：
[0017](301)在玻璃基板的蚀刻表面依次形成金属膜和耐酸光刻层；
[0018](302)在耐酸光刻层的表面设置掩膜，通过曝光技术在耐酸光刻层表面形成相应的图案；
[0019](303)除去耐酸光刻层表面的掩膜；
[0020](304)在耐酸光刻层的表面设置第二耐酸防护层；
[0021](305)将步骤(304)的玻璃基板通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，在玻璃基板的表面蚀刻形成图案的凹槽；
[0022](306)依次剥离第二耐酸防护层、耐酸光刻层和金属膜，得到图案玻璃薄板。
[0023]优选的，所述第一耐酸防护层、第二耐酸防护层为PVC、PP、PET中的一种或几种。
[0024]优选的，步骤(4)所述优化分离具体包括以下步骤：
[0025](401)在步骤(3)所得图案玻璃薄板的蚀刻表面形成第三耐酸防护层；
[0026](402)根据需要在步骤(401)设置了第三耐酸防护层的图案玻璃薄板上画定分离线和蚀刻终点线；
[0027](403)在第三耐酸防护层内画定撕裂线，且所述撕裂线与分离线相对应；
[0028](404)撕开两撕裂线之间的第三耐酸防护层，形成局部蚀刻区；
[0029](405)将步骤(404)形成了局部蚀刻区的玻璃基板通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到分离的且形状不规则的待优化玻璃薄板；
[0030](406)将步骤(405)得到的形状不规则的待优化玻璃薄板继续蚀刻，直至蚀刻表面达到蚀刻终点线，再剥离第一耐酸防护层和第三耐酸防护层，得到理想的超薄玻璃基板。
[0031]优选的，所述分离线位于凹槽内，所述蚀刻终点线位于凹槽的边缘。
[0032]优选的，所述蚀刻液为20
‑
50％的氢氟酸溶液，且所述蚀刻液采用顶喷或侧喷的方式进行蚀刻。
[0033]为达上述目的，本专利技术还提供了一种超薄玻璃，采用上述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法制备而得。
[0034]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0035]本专利技术通过单面蚀刻，仅需要设置单面的耐酸光刻层，节约了生产成本；将初蚀刻玻璃薄板通过胶粘层固定于防酸背板上，便于在蚀刻过程中的固定，且不易造成超薄玻璃的卷曲而破裂，降低了其不良率；通过对蚀刻图案的图案玻璃薄板进行优化分离，可以进行高精度切割，得到分离且规则的超薄玻璃，具有的蚀刻图案扩大了其应用范围，实用性强。
附图说明
[0036]图1为本专利技术一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法的工艺流程图；
[0037]图2为本专利技术中初蚀刻减薄步骤的工艺流程图；
[0038]图3为本专利技术中蚀刻图案步骤的工艺流程图；
[0039]图4为本专利技术中优化分离步骤的工艺流程图；
[0040]图5为本专利技术一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法中初蚀刻减薄的流程示意图；
[0041]图6为本专利技术一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法中固定和蚀刻图案的流程示意图；
[0042]图7为本专利技术一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法中优化分离的流程示意图；
[0043]图8为对比文件中蚀刻过度的结构示意图；
[0044]图中，1
‑
玻璃基板，101
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初蚀刻玻璃薄板，102
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图案玻璃薄板，103
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待优化玻璃薄板，104
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超薄玻璃基板，2
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金属膜，3
‑
耐酸光刻层，4
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)初蚀刻减薄：取一块玻璃基板(1)，对其进行初蚀刻处理，得到初蚀刻玻璃薄板(101)；(2)固定：将步骤(1)所得初蚀刻玻璃薄板(101)远离刻蚀表面的侧面固定于防酸背板(7)上；(3)蚀刻图案：通过在玻璃基板(1)的表面蚀刻形成图案的凹槽(9)，从而得到图案玻璃薄板(102)；(4)优化分离：对步骤(3)所得图案玻璃薄板(102)进行优化和分离，得到厚度为0.02
‑
0.08mm的超薄玻璃基板(104)。2.根据权利要求1所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：步骤(1)所述初蚀刻减薄包括以下步骤：(101)打磨：将待刻蚀面进行打磨处理，防止减薄后的打磨造成破裂，以降低不良率；(102)清洁：对步骤(101)打磨后的玻璃基板(1)通过蒸馏水、乙醇洗涤2
‑
3次，以得到表面洁净的玻璃基板(1)；(103)防护：在步骤(102)清洁后的玻璃基板(1)的底面及其四周形成第一耐酸防护层(4)；(104)蚀刻：将步骤(103)所得玻璃基板(1)通过均匀的蚀刻液蚀刻一段时间，得到初蚀刻玻璃薄板(101)。3.根据权利要求1所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：步骤(2)所述初蚀刻玻璃薄板(101)远离刻蚀表面的侧面通过胶粘层(6)固定于防酸背板(7)上。4.根据权利要求2所述单面蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：步骤(3)所述蚀刻图案具体包括以下步骤：(301)在玻璃基板(1)的蚀刻表面依次形成金属膜(2)和耐酸光刻层(3)；(302)在耐酸光刻层(3)的表面设置掩膜(5)，通过曝光技术在耐酸光刻层(3)表面形成相应的图案；(303)除去耐酸光刻层(3)表面的掩膜(5)；(304)在耐酸光刻层(3)的表面设置第二耐酸防护层(8)；(305)将步骤(304)的玻璃基板(1)通过均...
【专利技术属性】
技术研发人员：夏宁，倪植森，陈诚，刘月豹，黄迎辉，樊黎虎，许波，罗丹，邵帅，
申请(专利权)人：凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司，
类型：发明
国别省市：
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