孔阵列层结构、芯片装置和纳米孔测序装置制造方法及图纸

本申请涉及孔阵列层结构、芯片装置和纳米孔测序装置。孔阵列层结构，用于和衬底形成成膜空间，成膜空间用于形成膜层。孔阵列层结构包括：阵列排布的多个孔单元，孔单元贯穿孔阵列层结构，孔单元具有轴向连通的第一容纳腔和第二容纳腔，第一容纳腔被配置为和衬底连接，至少一个第一容纳腔与其它第一容纳腔连通。本申请提供的孔阵列层结构能够实现第一非极性介质在不同第一容纳腔之间的串联互补，以及均匀性分布，可以保证预涂的均一性，为成膜提供较佳的成膜基础；并且在成膜阶段可以保证膜层的稳定性和串联互补。的稳定性和串联互补。的稳定性和串联互补。

【技术实现步骤摘要】
孔阵列层结构、芯片装置和纳米孔测序装置


[0001]本申请涉及生物检测
，特别是涉及孔阵列层结构、芯片装置和纳米孔测序装置。

技术介绍

[0002]纳米孔检测技术，具有高通量、高集成、平行化、多样化和自动化等优点，在蛋白质检测、基因测序和纳米颗粒的表征等领域具有广泛的应用。例如当进行基因测序时，基因测序装置的薄膜中设置有纳米孔，单链脱氧核糖核酸(DeoxyriboNucleicAcid，DNA)分子穿过纳米孔时，由于不同碱基的形状大小有差异，与纳米孔内检测分子发生特异性反应从而引起电阻变化。纳米孔的两侧具有恒定电压，可以检测到不同碱基经过纳米孔中电流的变化，从而反映出通过纳米孔的DNA分子的碱基排列情况。
[0003]基因测序装置的薄膜的稳定性对检测的准确性至关重要，但是目前薄膜的稳定性不佳，从而导致检测的准确性较差。

技术实现思路

[0004]本申请提供孔阵列层结构、芯片装置和纳米孔测序装置，旨在解决薄膜稳定性不佳的问题，可以提高成膜的稳定性。
[0005]第一方面，本申请实施例提供了一种孔阵列层结构，用于和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种孔阵列层结构，用于和衬底形成成膜空间，所述成膜空间用于形成膜层，其特征在于，所述孔阵列层结构包括：阵列排布的多个孔单元，所述孔单元贯穿所述孔阵列层结构，所述孔单元具有轴向连通的第一容纳腔和第二容纳腔，所述第一容纳腔被配置为和所述衬底连接，至少一个所述第一容纳腔与其它所述第一容纳腔连通。2.根据权利要求1所述的孔阵列层结构，其特征在于，至少一个所述第二容纳腔与其它所述第二容纳腔连通。3.根据权利要求1或2所述的孔阵列层结构，其特征在于，所述孔阵列层结构包括第一限定层和第二限定层，所述第一容纳腔设置于所述第一限定层内并贯通所述第一限定层，所述第二容纳腔设置于所述第二限定层内并贯通所述第二限定层。4.根据权利要求3所述的孔阵列层结构，其特征在于，所述第二限定层包括阵列排布的多个第二子单元，所述第二容纳腔设置于所述第二子单元内并贯通所述第二子单元。5.根据权利要求4所述的孔阵列层结构，其特征在于，所述第二限定层还包括阵列排布的多个第三子单元，所述第三子单元包括第三子容纳腔，所述第二子单元位于所述第三子容纳腔内，所述第二子单元和所述第三子单元之间具有间隙。6.根据权利要求5所述的孔阵列层结构，其特征在于，所述第二子单元的外侧开设有多个第一凹槽。7.根据权利要求3所述的孔阵列层结构，其特征在于，所述第一限定层包括至少一个第一通道，所述第一通道将每相邻的至少两个所述第一容纳腔连通；和/或所述第二限定层包括至少一个第二通道，所述第二通道将...

【专利技术属性】
技术研发人员：张喆，任世龙，宋璐，
申请(专利权)人：成都齐碳科技有限公司，
类型：新型
国别省市：