表面研磨方法、工件、沉积设备和研磨站技术

本发明专利技术涉及研磨技术领域，公开一种表面研磨方法、工件、沉积设备和研磨站。该表面研磨方法包括：提供研磨装置，研磨装置包括连接臂、研磨头承载装置和研磨头，研磨头承载装置包括能够进行摆动的承载板，研磨头安装在承载板上，研磨头包括能够转动的研磨盘组件；研磨时，连接臂移动以使得研磨盘组件接触待研磨表面，承载板进行摆动以带动研磨头摆动，同时研磨盘组件转动，并且连接臂移动以带动研磨头承载装置沿着待研磨表面以预定移动路径移动，以使得研磨盘组件对待研磨表面进行研磨作业，以能够进行自动化研磨，使得表面均匀性和生产效率都能得到质的提升，使得表面的光泽度、粗糙度都能有效达到特定要求，同时品质重现性良好，返工率显著降低。率显著降低。率显著降低。

【技术实现步骤摘要】
表面研磨方法、工件、沉积设备和研磨站


[0001]本专利技术涉及研磨
，尤其是涉及一种表面研磨方法，一种通过该表面研磨方法得到的工件，一种包括该工件的沉积设备，和一种能够实现该表面研磨方法的研磨站。

技术介绍

[0002]TFT
‑
LCD（薄膜晶体管液晶显示器）行业近些年在国内发展十分迅猛，品质和产能不断提升。TFT
‑
LCD的制程繁多，其中PECVD(等离子体增强化学气相沉淀法)是关键步骤，这会使用到沉积设备，沉积设备通常包括各种腔体和背板（Backing Plate，简称BP），背板的主要作用是上部支撑，防止腔体变形，并将射频能量通入腔体，使腔体内的特殊气体变成等离子体，腔体内的等离子体在玻璃基板上沉积出各种薄膜。
[0003]在实际使用中，由于处于等离子气体的腐蚀性氛围中，且处在高压通电环境下，一定寿命周期内必须取出进行维修再生，以重复使用。由于背板的特殊使用要求，背板通常采用铝材质，背板的板面要求极高的光泽、低粗糙度以及本体的平坦度，目的是降低微粒的附着，增加热辐射。
[0004]目前，在背板生成或维修再生时，其板面的镜面加工都是采用手动研磨，也就是操作人员手持研磨装置，手工对铝材进行表面粗磨、精磨、抛光。然而，这样的手工研磨操作生产效率十分低下，以一块8.5代的背板为例，生产工时通常需要48H以上，需要2名熟练工人同时进行作业。由于采用人工作业，表面光泽度均匀性一般，光泽偏差一般
±
50GU，光泽偏差导致的返工率超过30%。此外，根据世代线别的不同，背板尺寸也不同，背板的尺寸通常很大，例如长
×
宽
×
厚通常为2008
×
1808
×
108mm，有的背板的尺寸可以达到长
×
宽
×
厚为2941
×
2591
×
139mm。对于如此大尺寸的背板，要实现均匀一致的镜面光泽，工艺繁杂程度和成本都很高。

技术实现思路

[0005]针对以上现有技术中存在的至少一些问题，本专利技术的目的是提供一种表面研磨方法，该表面研磨方法能够进行自动化研磨，使得表面均匀性和生产效率都能得到质的提升，使得表面的光泽度、粗糙度都能有效达到特定要求，同时品质重现性良好，返工率显著降低，例如可以降低到5%以内。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术提供一种表面研磨方法，该表面研磨方法包括：定位具有待研磨表面的工件；提供研磨装置，所述研磨装置包括连接臂、研磨头承载装置和研磨头，所述研磨头承载装置设置在所述连接臂上，所述研磨头承载装置包括能够进行摆动的承载板，所述研磨头安装在所述承载板上，所述研磨头包括能够转动的研磨盘组件；研磨时，所述连接臂移动以使得所述研磨盘组件接触所述待研磨表面，所述承载板进行摆动以带动所述研磨头摆动，同时所述研磨盘组件转动，并且所述连接臂移动以带动所述研磨头承载装置沿着所述待研磨表面以预定移动路径移动，以使得所述研磨盘组件对所述待研磨表面进行研磨作业。
[0007]在该技术方案中，由于研磨头承载装置包括能够进行摆动的承载板，研磨头安装在承载板上，而研磨头自身则包括能够转动的研磨盘组件，同时，研磨时，连接臂移动以使得研磨盘组件接触待研磨表面，承载板进行摆动以带动研磨头摆动，同时研磨盘组件转动，此时，研磨头在平动的同时，由于摆动还会产生一定幅度的振动，使得研磨头的轨迹是整体波浪式起伏，从而相对于现有技术的同心轨迹增加研磨面积，例如可以增加15
‑
20%左右，这能够有效提升研磨均匀性和研磨效率，随着连接臂带动研磨头承载装置沿着待研磨表面以预定移动路径移动，从而可以对待研磨表面能够进行自动化研磨，使得表面均匀性和生产效率都能得到质的提升，使得表面的光泽度、粗糙度都能有效达到特定要求，同时品质重现性良好，返工率显著降低，例如可以降低到5%以内。
[0008]根据本专利技术的一种实施方式，所述承载板能够进行圆周摆动，以带动所述研磨头进行圆周摆动。
[0009]根据本专利技术的一种实施方式，所述研磨头承载装置包括安装板，所述承载板通过弹性支撑结构连接于所述安装板，在研磨时，所述弹性支撑结构处于压缩状态，以使得所述研磨盘组件贴附在所述待研磨表面上进行研磨作业。
[0010]根据本专利技术的一种实施方式，将多个所述研磨头安装在所述承载板上。
[0011]根据本专利技术的一种实施方式，所述预定移动路径包括X
‑
Y方向的移动路径。
[0012]根据本专利技术的一种实施方式，所述研磨作业包括依次进行的粗磨作业和精磨作业，其中，所述研磨盘组件在所述粗磨作业使用的粗磨砂纸型号小于在所述精磨作业使用的精磨砂纸型号。
[0013]根据本专利技术的一种实施方式，所述粗磨作业包括多次，并且随着粗磨作业次数的增加，每次粗磨作业使用的粗磨砂纸型号对应增加；所述精磨作业包括多次，并且随着精磨作业次数的增加，每次精磨作业使用的精磨砂纸型号对应增加。
[0014]根据本专利技术的一种实施方式，所述研磨作业包括在所述精磨作业后进行的收光作业，其中，所述研磨盘组件在所述收光作业时使用百洁布。
[0015]根据本专利技术的一种实施方式，所述收光作业包括多次，并且随着收光作业次数的增加，每次收光作业使用的百洁布型号对应增加。
[0016]根据本专利技术的一种实施方式，所述研磨作业包括抛光作业，其中，在所述收光作业完成后对表面进行第一次表面检查作业，在符合预设要求时进行所述抛光作业，在不符合预设要求时进行最后一次所述精磨作业。
[0017]根据本专利技术的一种实施方式，在进行所述收光作业时，所述连接臂带动所述研磨头承载装置以第一移动速率移动，在进行所述粗磨作业、所述精磨作业和所述抛光作业中的至少一者时，所述连接臂带动所述研磨头承载装置以第二移动速率移动，其中，所述第一移动速率小于所述第二移动速率。
[0018]根据本专利技术的一种实施方式，使用绒布砂纸或海绵砂进行多次抛光作业，同时，最后一次抛光作业使用超纯水，其他次抛光作业使用抛光膏。
[0019]根据本专利技术的一种实施方式，所述表面研磨方法包括在所述抛光作业后使用超纯水清洗抛光后的表面的表面清洗作业。
[0020]根据本专利技术的一种实施方式，所述连接臂移动以带动所述研磨头承载装置移动，在移动过程中，所述研磨头承载装置上的喷淋结构喷射超纯水以清洗抛光后的表面。
[0021]根据本专利技术的一种实施方式，对清洗后的表面进行第二次表面检查作业，在符合预设要求时进行后续的表面干燥和表面覆膜，在不符合预设要求时进行最后两次的所述抛光作业，并在完成最后两次的所述抛光作业后进行所述表面清洗作业。
[0022]根据本专利技术的一种实施方式，所述工件为用于等离子体增强化学气相沉淀法的沉积设备的铝材背板，所述待研磨表面为所述铝材背板的至少一侧板面。
[0023]另外，本专利技术提供一种工件，所述工件包括通过以上任意所述的表面研磨方法研磨得本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种表面研磨方法，其特征在于，包括：定位具有待研磨表面的工件；提供研磨装置，所述研磨装置包括连接臂、研磨头承载装置和研磨头，所述研磨头承载装置设置在所述连接臂上，所述研磨头承载装置包括能够进行摆动的承载板，所述研磨头安装在所述承载板上，所述研磨头包括能够转动的研磨盘组件；研磨时，所述连接臂移动以使得所述研磨盘组件接触所述待研磨表面，所述承载板进行摆动以带动所述研磨头摆动，同时所述研磨盘组件转动，并且所述连接臂移动以带动所述研磨头承载装置沿着所述待研磨表面以预定移动路径移动，以使得所述研磨盘组件对所述待研磨表面进行研磨作业。2.根据权利要求1所述的表面研磨方法，其特征在于，所述承载板能够进行圆周摆动，以带动所述研磨头进行圆周摆动。3.根据权利要求1所述的表面研磨方法，其特征在于，所述研磨头承载装置包括安装板，所述承载板通过弹性支撑结构连接于所述安装板，在研磨时，所述弹性支撑结构处于压缩状态，以使得所述研磨盘组件贴附在所述待研磨表面上进行研磨作业。4.根据权利要求1所述的表面研磨方法，其特征在于，将多个所述研磨头安装在所述承载板上。5.根据权利要求1所述的表面研磨方法，其特征在于，所述预定移动路径包括X
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Y方向的移动路径。6.根据权利要求1所述的表面研磨方法，其特征在于，所述研磨作业包括依次进行的粗磨作业和精磨作业，其中，所述研磨盘组件在所述粗磨作业使用的粗磨砂纸型号小于在所述精磨作业使用的精磨砂纸型号。7.根据权利要求6所述的表面研磨方法，其特征在于，所述粗磨作业包括多次，并且随着粗磨作业次数的增加，每次粗磨作业使用的粗磨砂纸型号对应增加；所述精磨作业包括多次，并且随着精磨作业次数的增加，每次精磨作业使用的精磨砂纸型号对应增加。8.根据权利要求6所述的表面研磨方法，其特征在于，所述研磨作业包括在所述精磨作业后进行的收光作业，其中，所述研磨盘组件在所述收光作业时使用百洁布。9.根据权利要求8所述的表面研磨方法，其特征在于，所述收光作业包括多次，并且随着收光作业次数的增加，每次收光作业使用的百洁布型号对应增加。10.根据权利要求8所述的表面研磨方...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓刚，黄来国，刘超，李仁杰，权太植，蔡广云，
申请(专利权)人：合肥微睿光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：