本实用新型专利技术公开了一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，属于电极清洗技术领域，包括可容纳电极的槽体，所述槽体的槽底设置有支撑装置，支撑装置向上延伸且高出槽底，电极放置在支撑装置上并与槽底之间形成空隙，所述槽底还设置有曝气管道，曝气管道分布在电极的下方并与外部气源连接，曝气管道朝向电极的一侧开设有多个曝气孔。本实用新型专利技术能够使得槽体内的清洗液翻滚、产生气泡，加速液体的流动，使清洗液与电极接触更加充分，相对于传统的单纯的浸泡方式，清洗效率更高。清洗效率更高。清洗效率更高。
【技术实现步骤摘要】
一种干法刻蚀下部电极清洗水槽
[0001]本技术涉及电极清洗
，具体地说，涉及一种干法刻蚀下部电极清洗水槽。
技术介绍
[0002]在干法刻蚀中，下部电极是干法刻蚀腔室里面最重要的部件，其作用是固定吸附玻璃基板、冷却玻璃基板背面，使玻璃基板在刻蚀过程中蚀刻均匀，其静电吸盘表面的小凸点在业内被称为emboss，它的作用就是支撑玻璃，给予背部冷却气体提供流通通道。下部电极长时间使用后性能下降，容易产生灰尘微粒造成产品品质下降，因此需要进行清洗维修。
[0003]下部电极的尺寸通常较大，一般在3.6m*3.2m，现有技术中对下部电极的清洗一般是通过吊具将电极吊装起来然后平铺式放置在水槽中，水槽中装有清洗液，电极浸泡在清洗液中。这种通过浸泡方式清洗电极的水槽，对电极的清洗效率不高。
技术实现思路
[0004]1.技术所要解决的技术问题
[0005]针对现有技术中通过浸泡方式清洗电极的水槽，对电极的清洗效率不高的问题，本技术提供一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，能够提高电极清洗的效率。
[0006]2.技术方案
[0007]为了实现上述目的，本技术提供一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，包括可容纳电极的槽体，所述槽体的槽底设置有支撑装置，支撑装置向上延伸且高出槽底，电极放置在支撑装置上并与槽底之间形成空隙，所述槽底还设置有曝气管道，曝气管道分布在电极的下方并与外部气源连接，曝气管道朝向电极的一侧开设有多个曝气孔。
[0008]进一步的，所述曝气管道包括主管道和多个支管道，所述主管道至少设置一根，主管道与所有的支管道连通且主管道连接外部气源。
[0009]进一步的，若干所述支管道相互连接形成多个大小不同且相互独立的闭合的方形或圆形管道回路，多个管道回路从槽体的中心向四周按方形或圆形管道回路的面积逐渐增大排布；最外围的管道回路围成的面积小于电极的面积。
[0010]进一步的，所述主管道设有两根且十字交叉设置，交叉点位于所述槽体的中心；每根主管道均通过连接头与所有的支管道连通。
[0011]进一步的，所述主管道为框状结构，支管道的两端与主管道连通，多个支管道在主管道的框内均匀排布。
[0012]进一步的，所述主管道与外部气源连接的位置处设置有快插接头。
[0013]进一步的，所述支撑装置为块状结构并设置多个，分散设置在所述槽体的槽底。
[0014]进一步的，所述槽体包括外部的框架结构和内部的板材，框架结构由金属管材固接而成且顶部敞开，板材固定在框架结构的内壁且板材之间密封连接。
[0015]进一步的，所述槽体的底部设置有阀门，所述阀门与槽体内部连通。
[0016]进一步的，所述槽体的底部设置有多个脚轮，脚轮分布在槽体底部靠近边缘的位置处。
[0017]3.有益效果
[0018]采用本技术提供的技术方案，与已有的公知技术相比，具有如下有益效果：
[0019](1)本技术的一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，支撑装置能够使槽体的槽底和电极之间留有空隙，曝气管道分布在电极下方，能够尽可能的增加曝气管的曝气面积。槽底的曝气管道在外接气源通气的作用下，气体从曝气孔中喷出，使得槽体内的清洗液翻滚、产生气泡，加速了液体的流动，使清洗液与电极接触更加充分，相对于传统的单纯的浸泡方式，清洗效率更高。
[0020](2)本技术的一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，主管道用于连接外部气源，使气体通入曝气管道，支管道负责将气体分散到槽底各个位置。支管道设置成大小不同且相互独立的闭合的方形或圆形回路结构，并且多个支管道回路从槽体的中心向四周按方形或圆形面积逐渐增大排布，能够尽可能扩大曝气管的曝气面积，进一步提高对电极的清洗效率。主管道设置两根并十字交叉，交叉点位于槽体中心，每根主管道均与所有的支管道连通，能够缩短气体从主管道进入支管道的路径，提高气体进入到所有支管道的速率。主管道为框状结构，多个支管道在框内均匀排布，同样能够扩大曝气管道的曝气面积。主管道上的快插接头能够加快主管道与外部气源的连接速度，提高工作效率。
[0021](3)本技术的一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，支撑装置设置为块状，能够尽可能减小其占用槽体内部的空间。分散设置在槽底能够对电极形成多点支撑，大大提高了对电极支撑的稳定性。槽体由外部框架结构和内部板材构成，外部框架结构能够提高槽体的结构强度，适合用来清洗面积较大的电极。内部板材之间密封连接，能够提高整个槽体的密封性，防止清洗液渗漏。槽体的底部设置有阀门，能够将槽体内使用过的清洗液及时排出，便于进行对清洗液的更换。槽体的底部设置有多个脚轮，方便整个槽体的移动。脚轮设置在底部靠近边缘的位置，能够进一步提高槽体的稳定性，尤其是这种体积较大的槽体，效果更加明显。
附图说明
[0022]在附图中，尺寸和比例不代表实际产品的尺寸和比例。附图仅仅是说明性的，并且为了清楚起见，省略了某些非必要的元件或特征。
[0023]图1是本技术实施例1的槽体的俯视结构示意图；
[0024]图2是本技术实施例的槽体的侧视结构示意图；
[0025]图3是本技术实施例的槽体的另一侧视结构示意图；
[0026]图4是本技术实施例2的曝气管道的布置方式结构示意图；
[0027]图5是本技术实施例3的曝气管道的布置方式结构示意图。
[0028]示意图中的标号说明：
[0029]1、槽体；101、框架结构；102、板材；2、支撑装置；3、曝气管道；301、主管道；302、支管道；4、快插接头；5、阀门；6、脚轮。
具体实施方式
[0030]为进一步了解本技术的内容，结合附图和实施例对本技术作详细描述。这里所描述的仅仅是根据本技术的优选实施方式，本领域技术人员可以在优选实施方式的基础上想到能够实现本技术的其他方式，其他方式同样落入本技术的范围。
[0031]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“中”“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“顶”、“底”、“侧”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0032]实施例1
[0033]参照图1和图2，本实施例提供一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，包括可容纳电极的槽体1，槽体1主要包括外部的框架结构101和内部的板材102，框架结构101由金属管材焊接而成且顶部敞开，外部的框架结构101能够提高槽体1的结构强度，适合用来清洗面积较大的电极。板材102也是通过焊接固定在框架结构101的内壁且板材102之间密封连接，能够提高整个槽体1的密封性，防止清洗液渗漏。槽体1的槽底设置有支撑装置2，支撑装置2向上延伸且高出槽底，电极放置在支撑装置2上并与槽底本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，其特征在于，包括可容纳电极的槽体(1)，所述槽体(1)的槽底设置有支撑装置(2)，支撑装置(2)向上延伸且高出槽底，电极放置在支撑装置(2)上并与槽底之间形成空隙，所述槽底还设置有曝气管道(3)，曝气管道(3)分布在电极的下方并与外部气源连接，曝气管道(3)朝向电极的一侧开设有多个曝气孔。2.根据权利要求1所述的一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，其特征在于，所述曝气管道(3)包括主管道(301)和多个支管道(302)，所述主管道(301)至少设置一根，主管道(301)与所有的支管道(302)连通且主管道(301)连接外部气源。3.根据权利要求2所述的一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，其特征在于，若干所述支管道(302)相互连接形成多个大小不同且相互独立的闭合的方形或圆形管道回路，多个管道回路从槽体(1)的中心向四周按方形或圆形管道回路的面积逐渐增大排布；最外围的管道回路围成的面积小于电极的面积。4.根据权利要求3所述的一种干法刻蚀下部电极清洗水槽，其特征在于，所述主管道(301)设有两根且十字交叉设置，交叉点位于所述槽体(1)的中心；每根主管道(301)均通过连接头与所有的支管道(302)连通...
【专利技术属性】
技术研发人员：江顺，蔡广云，冯卫东，
申请(专利权)人：合肥微睿光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。