显示模组、显示模组的制造方法及电子设备技术

本申请实施例提供的显示模组及显示模组的制造方法，通过在阵列基板中设置辅助电极，并通过阵列基板上的第一开口和像素界定层上的第二开口使蒸镀的第二电极层可以与辅助电极连接，并且将辅助电极和第二电极层均与同一电源端电性连接，从而使第二电极层中与辅助电极连接处和第二电极层的边缘处具有相同的电压。如此，当辅助电极设置于显示模组中间位置时，可以减少第二电极层中间位置和边缘位置之间的电压差异，进而避免显示模组亮度不均匀的问题。问题。问题。

【技术实现步骤摘要】
显示模组、显示模组的制造方法及电子设备


[0001]本申请涉及显示设备制造领域，具体而言，涉及一种显示模组、显示模组 的制造方法及电子设备。

技术介绍

[0002]有源矩阵有机发光二极体(Active
‑
matrix Organic Light
‑
Emitting Diode， AMOLED)显示模组是一种具有低驱动、低功耗、自主发光、反应速度快、对 比度高、视角宽广等诸多优点的显示模组。AMOLED显示模组通常包括阳极层、 阴极层和位于阳极层和阴极层之间的有机致电器件层。AMOLED显示模组在工 作时，向阳极层和阴极层分别施加合适的电压以激发有机致电发光层自主发光。
[0003]在传统的AMOLED显示模组中，阴极层通常是由金属形成的薄膜，为了使 得阴极层具有较高的透光性，需要将阴极层做得很薄，进而导致阴极层的整体 电阻较大。其中，阴极层通常是从其周边与外围的驱动线路连接，导致靠近显 示模组周边的阴极电压和位于显示模组中间区域的阴极电压差异较大，进而导 致AMOLED显示模组亮度不均匀。特别是对于大尺寸的AMOLED显示模组， 这种显示亮度不均的问题更加明显。

技术实现思路

[0004]为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本申请实施例提供一种显示 模组，所述显示模组包括阵列基板及位于所述阵列基板上的器件层；
[0005]所述阵列基板中设置有辅助电极；所述阵列基板靠近所述器件层的一侧形 成有暴露出所述辅助电极的第一开口；
[0006]所述器件层包括第一电极层、像素界定层、发光材料层及第二电极层；所 述第一电极层包括位于所述阵列基板上且相互间隔的多个第一电极；所述像素 界定层包括多个像素开口，各所述第一电极通过所述像素界定层相互隔离，每 个所述像素开口暴露出一个所述第一电极；所述发光材料层位于所述像素开口 内并覆盖所述第一电极；所述第二电极层覆盖所述发光材料层远离所述第一电 极层一侧；
[0007]所述像素界定层还包括第二开口，所述第二开口与所述第一开口连通，
[0008]所述第二电极层通过所述第一开口和所述第二开口与所述辅助电极电性连 接，且所述辅助电极和所述第二电极层分别与同一电源端电性连接。
[0009]在一种可能的实现方式中，所述阵列基板包括平坦化层，所述平坦化层位 于所述阵列基板靠近所述器件层的一侧；所述辅助电极位于所述平坦化层中， 所述第一开口位于所述平坦化层朝向所述器件层的一侧。
[0010]在一种可能的实现方式中，所述器件层还包括公共层；所述公共层的至少 部分覆盖于通过所述第一开口和所述第二开口暴露出的所述辅助电极远离所述 阵列基板的一侧，所述第二电极层位于所述公共层远离所述阵列基板的一侧；
[0011]所述显示模组还包括至少贯穿所述第二电极层及所述公共层的第一通孔；
[0012]至少部分填充于所述第一通孔内的导通层，所述第二电极层通过所述导通 层与所述辅助电极电性连接，或者，所述第二电极层沿所述第一通孔延伸至与 所述辅助电极电性连接。
[0013]在一种可能的实现方式中，所述辅助电极包括沿着所述阵列基板指向所述 器件层的方向上依次层叠设置的第一金属层、第二金属层及第三金属层；
[0014]所述辅助电极还包括至少贯穿所述第二金属层和所述第三金属层的第二通 孔，所述第二金属层在所述第二通孔处相对所述第三金属层内缩；
[0015]所述公共层和所述第二电极层在与所述第二通孔对应的位置处具有第三通 孔，所述第二通孔和所述第三通孔连通构成所述第一通孔；
[0016]所述第二电极层通过所述导通层与所述第二金属层电性连接，且所述第二 金属层和所述第二电极层分别与同一电源端电性连接。
[0017]在一种可能的实现方式中，所述第一金属层和所述第三金属层对刻蚀液的 抗腐蚀性大于所述第二金属层对刻蚀液的抗腐蚀性；
[0018]优选地，所述第二金属层的导电率大于所述第一金属层和所述第三金属层 的导电率；
[0019]优选地，所述第一金属层和所述第三金属层的材料为钛，所述第二金属层 的材料为铝。
[0020]本申请的另一目的在于提供一种显示模组的制造方法，所述方法包括：
[0021]形成具有辅助电极的阵列基板，并在所述阵列基板上形成暴露出所述辅助 电极的第一开口；
[0022]基于所述阵列基板依次形成第一电极层、像素界定层和发光材料层，并在 所述像素界定层与所述辅助电极对应的位置形成与所述第一开口连通的第二开 口；其中，所述第一电极层包括形成于所述阵列基板上且相互间隔的多个第一 电极；所述像素界定层包括多个像素开口，各所述第一电极通过所述像素界定 层相互隔离，每个所述像素开口暴露出一个所述第一电极；所述发光材料层形 成于所述像素开口内；
[0023]从所述像素界定层和所述发光材料层远离所述阵列基板的一侧形成第二电 极层，所述第二电极层通过所述第一开口和所述第二开口与所述辅助电极电性 连接；
[0024]将所述辅助电极和所述第二电极层分别与同一电源端电性连接。
[0025]在一种可能的实现方式中，所述形成具有辅助电极的阵列基板的步骤，包 括：
[0026]形成阵列驱动层；
[0027]基于所述阵列驱动层形成第一平坦化层；
[0028]在所述第一平坦化层上形成辅助电极；
[0029]从所述第一平坦化层以及所述辅助电极远离所述阵列驱动层的一侧形成第 二平坦化层，并基于所述第二平坦化层暴露出所述辅助电极的第一开口。
[0030]在一种可能的实现方式中，所述在所述第一平坦化层上形成辅助电极的步 骤，包括：
[0031]在所述第一平坦化层上依次形成第一金属层、第二金属层及第三金属层； 所述第一金属层和所述第三金属层对刻蚀液的抗腐蚀性大于所述第二金属层对 刻蚀液的抗腐蚀性；
[0032]形成至少贯穿所述第三金属层和所述第二金属层的第二通孔；
[0033]所述基于所述阵列基板形成第一电极层的步骤，包括：
[0034]基于所述阵列基板蒸镀第一电极材料；
[0035]对所述第一电极层进行图案化腐蚀，并对从所述第二通孔处暴露出的第二 金属层进行侧刻，使所述第二金属层在所述第二通孔处相对所述第三金属层内 缩；
[0036]所述形成第二电极层的步骤，包括：
[0037]从所述像素界定层和所述发光材料层远离所述阵列基板的一侧蒸镀形成公 共层及第二电极层，所述公共层和所述第二电极层在与所述第二通孔对应的位 置形成第三通孔，所述第二通孔和所述第三通孔连通形成第一通孔；
[0038]在所述形成第二电极层的步骤之后，所述方法还包括：
[0039]形成至少部分填充于所述第一通孔内的导通层，使所述第二电极层通过所 述导通层与所述第二金属层电性连接。
[0040]在一种可能的实现方式中，所述在所述第一平坦化层上形成辅助电极的步 骤，包括：
[004本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示模组，其特征在于，所述显示模组包括阵列基板及位于所述阵列基板上的器件层；所述阵列基板中设置有辅助电极；所述阵列基板靠近所述器件层的一侧形成有暴露出所述辅助电极的第一开口；所述器件层包括第一电极层、像素界定层、发光材料层及第二电极层；所述第一电极层包括位于所述阵列基板上且相互间隔的多个第一电极；所述像素界定层包括多个像素开口，各所述第一电极通过所述像素界定层相互隔离，每个所述像素开口暴露出一个所述第一电极；所述发光材料层位于所述像素开口内并覆盖所述第一电极；所述第二电极层覆盖所述发光材料层远离所述第一电极层一侧；所述像素界定层还包括第二开口，所述第二开口与所述第一开口连通，所述第二电极层通过所述第一开口和所述第二开口与所述辅助电极电性连接，且所述辅助电极和所述第二电极层分别与同一电源端电性连接。2.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述阵列基板包括平坦化层，所述平坦化层位于所述阵列基板靠近所述器件层的一侧；所述辅助电极位于所述平坦化层中，所述第一开口位于所述平坦化层朝向所述器件层的一侧。3.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述器件层还包括公共层；所述公共层的至少部分覆盖于通过所述第一开口和所述第二开口暴露出的所述辅助电极远离所述阵列基板的一侧，所述第二电极层位于所述公共层远离所述阵列基板的一侧；所述显示模组还包括至少贯穿所述第二电极层及所述公共层的第一通孔；至少部分填充于所述第一通孔内的导通层，所述第二电极层通过所述导通层与所述辅助电极电性连接，或者，所述第二电极层沿所述第一通孔延伸至与所述辅助电极电性连接。4.根据权利要求3所述的显示模组，其特征在于，所述辅助电极包括沿着所述阵列基板指向所述器件层的方向上依次层叠设置的第一金属层、第二金属层及第三金属层；所述辅助电极还包括至少贯穿所述第二金属层和所述第三金属层的第二通孔，所述第二金属层在所述第二通孔处相对所述第三金属层内缩；所述公共层和所述第二电极层在与所述第二通孔对应的位置处具有第三通孔，所述第二通孔和所述第三通孔连通构成所述第一通孔；所述第二电极层通过所述导通层与所述第二金属层电性连接，且所述第二金属层和所述第二电极层分别与同一电源端电性连接。5.根据权利要求4所述的显示模组，其特征在于，所述第一金属层和所述第三金属层对刻蚀液的抗腐蚀性大于所述第二金属层对刻蚀液的抗腐蚀性；优选地，所述第二金属层的导电率大于所述第一金属层和所述第三金属层的导电率；优选地，所述第一金属层和所述第三金属层的材料为钛，所述第二金属层的材料为铝。6.一种显示模组的制造方法，其特征在于，所述方法包括：形成具有辅助电极的阵列基板，并在所述阵列基板上形成暴露出所述辅助电极的第一开口；基于所述阵列基板依次形成第一电极层、像素界定层和发光材料层，并在所述像素界定层与所述辅助电极对应的位置形成与所述第一开口连通的第二开口；其中，所述第一电极层包括形成于所述阵列基板上且相互间隔的多个第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：盖翠丽，潘康观，郭恩卿，李俊峰，邢汝博，陈发祥，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，
类型：发明
国别省市：