一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装结构及方法技术

本发明专利技术涉及废水处理技术，特别是电镀行业的废水处理管理，确切说是一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装结构及方法,其特征是：电镀废水排放管路中分别安装有数字流量测量单元（9），通过空间分界线（12）分开的数字流量测量单元（9

【技术实现步骤摘要】
一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装结构及方法
[0001]本案是专利技术名称“一种基于电镀集控区管道流量的生产监管方法”、申请日“2021/3/16”、“2021102828280”的分案申请。


[0002]本专利技术涉及废水处理技术，特别是电镀行业的废水处理管理，确切说是一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装结构及方法。

技术介绍

[0003]电镀行业的废水产量相对于造纸、印染和化工等行业水量少，但是由于电镀厂分布广泛，电镀废水中含有的有害物质种类众多，因此，对电镀废水的处理十分重要。电镀废水中主要含有铬、锌、铜、铅、镍等重金属离子，以及容易致癌的氰化物等。这些物质如果直接排放到大自然中，一方面会对环境造成极大的污染，严重威胁动植物的生命安全。另一方面，电镀废水中的重金属离子经过回收之后还能再利用，直接排放的话会造成资源的浪费。
[0004]当下对电镀废水的处理要么是针对一两种物质进行处理，要么就是对所有的物质进行混合处理。针对一两种电镀废水进行处理的污水治理系统，不能很好的应对污水种类多的情况。而所有的电镀废水一视同仁的进行处理的系统，往往因为针对性不强，直接导致处理效果不是很好。
[0005]现有的电镀行业环境风险管理中，采用规范园区建设管理，专业电镀厂房为多层建筑结构以提高建筑用地容积率以及建筑密度；一层用于仓储及综合办公;对于质轻量少的镀种放置较高层，量大质重的镀种宜安排在低层，根据废水分类收集设置废水收集房及收集槽便于水质原因筛查，初步过滤沉淀后，利用重力作用自流排入管沟；管沟可实现巡视、检修、事故废水无外泄功能，杜绝环境污染风险。
[0006]此外，由于电镀废水中含有铬、锌、铜、铅、镍多种物质，处理后的水需要不同的管路进行排污在大自然中，什么时间排，排多少，一方面涉及电镀行业生产管控，也涉及监督管理部门对电镀行业的管控，而这者往往是矛盾的双方。
[0007]上述提到的铬、锌、铜、铅、镍等重金属离子通过重力直接排放到大自然中，也就是在出口是没有计量和检测的，或者是没有装入计量和检测设备，因此排放量或涉及的生产过程在最后一环没有管控，为监督管理部门对电镀企业的管控带来了麻烦。

技术实现思路

[0008]本专利技术的目的是提供一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装结构及方法，以便能随时了解生产状态和不同时间铬、锌、铜、铅、镍处理水的排放量。
[0009]本专利技术的目的是这样实现的，一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装结构，其特征是：电镀废水排放管路中分别安装有数字流量测量单元（9），通过空间分界线（12）分开的数字流量测量单元（9
‑
1）、数字流量测量单元（9
‑
2）、数字流量测量单元（9
‑
3）、数字流量测量单元（9
‑
4）、数字流量测量单元（9
‑
5）分别安装在排放管路的铬处理水排放管路（1
‑
1），
排放管路的锌处理水排放管路（1
‑
2），排放管路的铜处理水排放管路（1
‑
3），排放管路的铅处理水排放管路（1
‑
4），排放管路的的镍处理水的放管路（1
‑
5）；流体流动传感单元（6）通过在电镀集控区管道处理废水排放集中区（13）安装，流体流动传感单元（6）分两种，第一种是上管路流体传感器（6
‑
1），第二种是下管路流体传感器（6
‑
2）。
[0010]所述的上管路流体传感器（6
‑
1）包括：球体支撑（6
‑1‑
1）、固定支架（6
‑1‑
2）、弹簧（6
‑1‑
3）、弹簧固定架（6
‑1‑
4）、应变电阻（6
‑1‑
5）、上管路流体检测处理电路（6
‑1‑
6），球体支撑（6
‑1‑
1）上端与上管路（1
‑
1）的底部弹性接触连接，球体支撑（6
‑1‑
1）下端通过弹簧（6
‑1‑
3）固定在固定支架（6
‑1‑
2）上端，在固定支架（6
‑1‑
2）内有弹簧固定架（6
‑1‑
4），弹簧（6
‑1‑
3）底部作用在弹簧固定架（6
‑1‑
4）上表面，弹簧固定架（6
‑1‑
4）下表面有应变电阻（6
‑1‑
5），应变电阻（6
‑1‑
5）与上管路流体检测处理电路（6
‑1‑
6）电连接。
[0011]所述的下管路流体传感器（6
‑
2）包括：空腔球体（6
‑2‑
3）、球形透镜（6
‑2‑
4）、四像限光电传感器（6
‑2‑
6）、振动传感接触面（6
‑2‑
5）、流体传感控制单元（6
‑2‑
1）、发光管（6
‑2‑
2）、第二支撑杆（7）和第一支撑杆（8），第二支撑杆（7）和第一支撑杆（8）一端一下一上的连接在上下隔层管架支撑柱（4）上，第一支撑杆（8）的另一端与空腔球体（6
‑2‑
3）顶部连接，第二支撑杆（7）一端支撑在第一支撑杆（8）上，第二支撑杆（7）、第一支撑杆（8）和上下隔层管架支撑柱（4）形成三角结构连接，空腔球体（6
‑2‑
3）悬挂在下隔层管架固定的排放管路（1）上；空腔球体（6
‑2‑
3）下端的振动传感接触面（6
‑2‑
5）与排放管路（1）上的顶部动态接触；空腔球体（6
‑2‑
3）上顶部腔体内固定流体传感控制单元（6
‑2‑
1），流体传感控制单元（6
‑2‑
1）电连接有发光管（6
‑2‑
2），发光管（6
‑2‑
2）发光头向腔体中心垂直向下发光，空腔球体（6
‑2‑
3）的腔体底部有球形透镜（6
‑2‑
4），球形透镜（6
‑2‑
4）下端有四像限光电传感器（6
‑2‑
6），在稳定状态下，发光管（6
‑2‑
2）发光头向腔体中心垂直向下发光，通过球形透镜（6
‑2‑
4）后投影在四像限光电传感器（6
‑2‑
6）上，由四像限光电传感器（6
‑2‑
6）获取稳定的信号。
[0012]所述的下管路流体传感器（6
‑
2）或包括一对，对称固在上下隔层管架支撑柱（4）的两侧，同时悬挂在下隔层管架固定的左右排放管路（1）上。
[0013]所述的流体流动传感单元（6）和数字流量测量单元（9）通过共公网络通信单元（10）与后台计算机网络连接。
[0014]一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装结构，其特征是：电镀废水排放管路中分别安装有数字流量测量单元（9），通过空间分界线（12）分开的数字流量测量单元（9
‑
1）、数字流量测量单元（9
‑
2）、数字流量测量单元（9
‑
3）、数字流量测量单元（9
‑
4）、数字流量测量单元（9
‑
5）分别安装在排放管路的铬处理水排放管路（1
‑
1），排放管路的锌处理水排放管路（1
‑
2），排放管路的铜处理水排放管路（1
‑
3），排放管路的铅处理水排放管路（1
‑
4），排放管路的的镍处理水的放管路（1
‑
5）；流体流动传感单元（6）通过在电镀集控区管道处理废水排放集中区（13）安装，流体流动传感单元（6）分两种，第一种是上管路流体传感器（6
‑
1），第二种是下管路流体传感器（6
‑
2）。2.根据权利要求1所述的一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装结构，其特征是：所述的上管路流体传感器（6
‑
1）包括：球体支撑（6
‑1‑
1）、固定支架（6
‑1‑
2）、弹簧（6
‑1‑
3）、弹簧固定架（6
‑1‑
4）、应变电阻（6
‑1‑
5）、上管路流体检测处理电路（6
‑1‑
6），球体支撑（6
‑1‑
1）上端与上管路（1
‑
1）的底部弹性接触连接，球体支撑（6
‑1‑
1）下端通过弹簧（6
‑1‑
3）固定在固定支架（6
‑1‑
2）上端，在固定支架（6
‑1‑
2）内有弹簧固定架（6
‑1‑
4），弹簧（6
‑1‑
3）底部作用在弹簧固定架（6
‑1‑
4）上表面，弹簧固定架（6
‑1‑
4）下表面有应变电阻（6
‑1‑
5），应变电阻（6
‑1‑
5）与上管路流体检测处理电路（6
‑1‑
6）电连接。3.根据权利要求1所述的一种电镀集控区电镀废水记录传感器安装结构，其特征是：所述的下管路流体传感器（6
‑
2）包括：空腔球体（6
‑2‑
3）、球形透镜（6
‑2‑
4）、四像限光电传感器（6
‑2‑
6）、振动传感接触面（6
‑2‑
5）、流体传感控制单元（6
‑2‑
1）、发光管（6
‑2‑
2）、第二支撑杆（7）和第一支撑杆（8），第二支撑杆（7）和第一支撑杆（8）一端一下一上的连接在上下隔层管架支撑柱（4）上，第一支撑杆（8）的另一端与空腔球体（6
‑2‑
3）顶部连接，第二支撑杆（7）一端支撑在第一支撑杆（8）上，第二支撑杆（7）、第一支撑杆（8）和上下隔层管架支撑柱（4）形成三角结构连接，空腔球体（6
‑2‑
3）悬挂在下隔层管架固定的排放管路（1）上；空腔球体（6
‑2‑
3）下端的振动传感接触面（6
‑2‑<...

【专利技术属性】
技术研发人员：张焕东，于永胜，李凯军，吴健，费西凯，
申请(专利权)人：中国启源工程设计研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：