脉冲压缩光栅用多层介质膜的优化设计方法技术

一种脉冲压缩光栅用多层介质膜的优化设计方法，该方法的思路是：选择具有四分之一参考波长整数倍的底层基础膜系，在其顶层添加一层介质顶层膜，以顶层膜构造矩形光栅形成多层介质膜光栅。首先计算使多层介质膜光栅取得高衍射效率的顶层介质膜的厚度范围，然后在全息写入波长处对顶层厚度进行初选，选择对写入波长反射率较小的顶层厚度，降低驻波效应的影响。如果不能满足或者需改善写入波长处的要求，则可在底层基础膜系上添加匹配层后，再初选顶层厚度。最后，再继续优化顶层膜厚度以及光栅参数。本方法设计的多层介质膜结构可用传统的电子束蒸发技术结合光学监控膜厚手段进行制备。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种脉冲压缩光栅用多层介质膜的优化设计方法，其特征在于包括以下步骤：①确定脉冲压缩光栅用多层介质膜的结构是：选择具有四分之一参考波长整数倍的底层基础膜系，在其顶层添加一顶层膜，并以顶层膜构造矩形光栅形成多层介质膜光栅；②利用 传输矩阵方法选定参考波长，选择具有四分之一参考波长整数倍的底层基础膜系，该膜系结构为ＨＬＬＬ（ＨＬＬ）↑［ｐ］，其中Ｈ和Ｌ分别是四分之一参考波长整数倍的高折射率材料和低折射率材料，ｐ为重复周期数目，使底层基础膜系在脉冲压缩光栅使用波长和使用角度处能提供高于９９％的反射率；③顶层膜的厚度范围：利用严格矢量理论计算多层介质膜光栅－１级衍射效率与矩...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘世杰，麻健勇，晋云霞，邵建达，范正修，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]