一种用于异质结CVD设备的载板传输提升系统技术方案

本发明专利技术公开了一种用于异质结CVD设备的载板传输提升系统，包括腔体、喷淋板、载板、加热基板和传输装置，传输装置包括外轴动力、内轴动力和多对磁流体传输机构，磁流体传输机构包括磁流体、内轴、外轴、传输轴和翻转板，外轴套在内轴上且二者可相对转动，磁流体套在外轴上且二者可相对转动，翻转板与内轴固定连接，传输轴可转动的设在翻转板上，传输轴与外轴通过啮合件配合，外轴动力用于驱动外轴转动，内轴动力用于驱动内轴转动，传输轴和翻转板设于腔体内，载板置于各传输轴上。本发明专利技术利用同心双轴磁流体结构，同时驱动载板的传输和提升，既能使实现载板传输，又能使载板在镀膜时脱离传输轴并与加热基板接触，简化了结构，降低了设备成本。备成本。备成本。

【技术实现步骤摘要】
一种用于异质结CVD设备的载板传输提升系统


[0001]本专利技术涉及异质结CVD设备，尤其涉及一种用于异质结CVD设备的载板传输提升系统。

技术介绍

[0002]异质结电池综合了晶体硅电池与薄膜电池的优势，具有结构简单、工艺温度低、钝化效果好、开路电压高、温度特性好、双面发电等特点，是高转换效率硅基太阳能电池的热点方向之一。异质结CVD(化学气相沉积)设备，主要用于异质结电池中I/N/P膜层的制备，其原理是利用平行极板放电提供能量，将反应气体激发成等离子体，电池片平铺在载板上，载板通过传输滚轮传输到平行极板之间，反应气体经过化学反应在电池片上形成膜层。平行极板分为上面的喷淋板和下面的加热基板，镀膜时必须保证两极板之间的距离在20
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30mm之间，保证载板与底下加热基板充分接触并且载板脱离传输滚轮。
[0003]目前已有的技术方案有两种：第一种是提升加热基板，载板通过传输滚轮传输到平行极板之间，加热基板向上垂直运动带动载板脱离传输滚轮，直至运动到距离喷淋板20
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30mm，此时放电形成镀膜，镀膜结束后本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于异质结CVD设备的载板传输提升系统，其特征在于：包括腔体(1)、喷淋板(2)、载板(3)、加热基板(4)和传输装置，所述喷淋板(2)设于腔体(1)的顶壁，所述加热基板(4)安装在腔体(1)内，所述传输装置包括外轴动力(5)、内轴动力(6)和多对磁流体传输机构(7)，每一对磁流体传输机构(7)对称布置于腔体(1)两侧的侧壁上，所述磁流体传输机构(7)包括磁流体(71)、内轴(72)、外轴(73)、传输轴(74)和翻转板(75)，所述外轴(73)套在内轴(72)上且二者可相对转动，所述磁流体(71)套在外轴(73)上且二者可相对转动，所述翻转板(75)与内轴(72)固定连接，所述传输轴(74)可转动的设在翻转板(75)上，所述传输轴(74)上设有第一啮合件(76)，所述外轴(73)上设有与第一啮合件(76)配合的第二啮合件(77)，所述传输轴(74)的轴线与内轴(72)的轴线具有间距，所述外轴动力(5)用于驱动外轴(73)转动，所述内轴动力(6)用于驱动内轴(72)转动，所述磁流体(71)安装在腔体(1)外，所述传输轴(74)和翻转板(75)设于腔体(1)内，所述载板(3)置于各磁流体传输机构(7)的传输轴(74)上且载板(3)位于喷淋板(2)与加热基板(4)之间。2.根据权利要求1所述的用于异质结CVD设备的载板传输提升系统，其特征在于：所述腔体(1)顶部设有腔盖(11)，所述喷淋板(2)固定在腔盖(11)上。3.根据权利要求1所述的用于异质结CVD设备的载板传输提升系统，其特征在于：所述传输轴(74)上设有传输滚轮(741)，所述载板(3)置于各传输滚轮(741)上。4.根据权利要求3所述的用于异质结CVD设备的载板传输提升系统，其特征在于：所述传输滚轮(741)设有限制载板(3)偏移的挡边(742)。5.根据权利要求1至4任意一项所述的用于异质结CVD设备的载板传输提升系统，其特征在于：所述第一啮合件(76)为第一齿轮，所述第二啮合件(77)为第二齿轮。6.根据权利要求1至4任意一...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐电，杨彬，张单辉，许烁烁，
申请(专利权)人：湖南红太阳光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：