光调制装置制造方法及图纸

本申请涉及光调制装置。在本申请中，本申请可以提供这样的光调制装置：所述光调制装置通过适当地控制间隔件的形状和排列等来适当地保持单元间隙，并且通过有效地控制黑色模式下的全向光泄露而适用于各种应用，同时具有优异的光学特性，包括透射率可变特性和雾度特性等。等。等。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光调制装置


[0001]本申请涉及光调制装置。

技术介绍

[0002]光调制装置意指能够在至少两种或更多种不同状态之间切换的装置。这样的装置用于例如可穿戴设备(如眼镜或太阳镜的眼部佩戴物等)、移动设备、用于虚拟现实(VR)的装置和用于增强现实(AR)的装置、或者车辆天窗等，其应用逐渐扩大。
[0003]光调制装置具有包括两个相对的偏光层10、20以及存在于偏光层之间的光调制层30的结构，如图3中所示。当将膜基材应用于基于这样两个偏光层的光调制装置时，通常将诸如OCA的粘合剂层一起应用于光调制装置以赋予机械优势，以及可以引入分隔物型间隔件来支撑所述装置并保持单元间隙。
[0004]在该方面中，专利文献1(KR特许专利公开第2016
‑
0100575号)公开了在一个基底上形成蜂窝状柱状图案并使用粘合剂将其固定至相对的基底的技术。然而，在施加有蜂窝状柱状图案的装置的情况下，存在光泄露的问题，尤其是在黑色模式下。

技术实现思路

[0005]技术问题
[0006]本申请涉及光调制装置。本申请的一个目的是提供这样的光调制装置：所述光调制装置通过适当地控制间隔件的形状和排列等而具有优异的光学特性(包括透射率可变特性和雾度特性)，并且通过控制黑色模式下的光泄露而适用于各种应用。
[0007]技术方案
[0008]本说明书中限定的角度应考虑到诸如制造误差或变化的误差来理解。例如，在本说明书中，术语垂直、平行、正交、水平或任何数值等意指基本上垂直、平行、正交、水平或者在不损害所述目的和效果的范围内的任何数值。例如，在每种情况下，垂直、平行、正交、水平或任何数值可以包括约
±
3度内的误差、约
±
2度内的误差、约
±
1度内的误差、或者约
±
0.5度内的误差。
[0009]在本说明书中提及的物理特性中，除非另有说明，否则当测量温度影响相关的物理特性时，所述物理特性为在室温下测量的物理特性。
[0010]在本说明书中，术语室温为未特别加热或降低的自然状态下的温度，其可以意指在约10℃至30℃的范围内的任一温度，例如，约15℃或更高、18℃或更高、20℃或更高、或者约23℃或更高，且约27℃或更低的温度。此外，除非另有说明，否则本说明书中提及的温度的单位为℃。
[0011]本申请可以涉及其中顺序形成有上基底、光调制层和下基底的光调制装置。在本说明书中，上基底可以被称为第一基底，下基底可以被称为第二基底。在一个实例中，本申请的上基底可以包括其中在第一表面上形成有粘合剂层或压敏粘合剂层以及第一偏光层附接至第二表面的第一聚合物膜基底，下基底可以包括其中在第一表面上形成有液晶配向
膜以及第二偏光层附接至第二表面的第二聚合物膜基底，其中第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底可以被排列成使得各自的第一表面彼此面对。此外，第一聚合物膜基底与第二聚合物膜基底之间的间隔(单元间隙)可以用间隔件来保持。
[0012]在一个实例中，本申请的光调制装置包括顺序形成有第一偏光层102、第一聚合物膜基底101、粘合剂层(或压敏粘合剂层)103、光调制层300、液晶配向膜203、第二聚合物膜基底203和第二偏光层202，其中第一聚合物膜基底与第二聚合物膜基底之间的单元间隙(G)可以用间隔件400来保持，如图1中所示。
[0013]在本申请中，间隔件的形状、排列和/或设置方法可以在能够表现出期望效果的范围内适当地设计。
[0014]在一个实例中，本申请的间隔件可以为四边形分隔物间隔件。在本申请中，术语四边形分隔物间隔件意指：作为以分隔物形式形成的间隔件，当从顶部观察间隔件时由分隔物形成的封闭图形形成四边形的间隔件。在本说明书中，这样的四边形分隔物间隔件也可以被称为呈四边形分隔物形式的间隔件。如上所述，专利技术人已经确定可以在引入间隔件以保持如上第一聚合物膜基底与第二聚合物膜基底之间的单元间隙的同时通过将间隔件的形状控制为例如四边形分隔物形状来防止光泄露，特别是在黑色模式下。就实现本申请的目的而言，间隔件可以更优选为正方形或矩形分隔物形状。
[0015]根据以下待描述的本申请的内容，可以使通过控制间隔件的形状而在黑色模式下的光泄露防止效果和雾度控制效果更大地最大化。
[0016]如上所述，当本申请的光调制装置例如通过呈四边形分隔物形式的间隔件来保持第一聚合物膜基底与第二聚合物膜基底之间的单元间隙时，可以通过进行以下描述的独特排列来提供其中单元间隙被适当地保持并且同时光泄露和雾度在黑色模式下被有效控制等的具有优异的光学特性的光调制装置。
[0017]在本申请的光调制装置中，当从顶部观察呈四边形分隔物形式的间隔件时，形成四边形的每一侧边的分隔物可以形成为与第一聚合物膜基底的慢轴、第二聚合物膜基底的慢轴、第一偏光层的吸收轴和/或第二偏光层的吸收轴具有特定的位置关系。
[0018]在本说明书中，在限定第一聚合物膜基底和第二聚合物膜基底的慢轴与第一偏光层和第二偏光层的吸收轴或透射轴之间的角度关系时所使用的术语间隔件的侧边意指形成当从顶部观察四边形分隔物间隔件时确定的形成四边形的每一侧边的分隔物的方向。
[0019]在本说明书中，术语聚合物膜基底的慢轴可以意指：作为膜的平面中的任何方向，具有最大面内折射率的方向。例如，当聚合物膜基底为经拉伸的延迟膜基底时，面内方向可以为由聚合物膜基底的MD方向(machine direction，机器方向)和/或TD方向(transverse direction，横向方向)形成的面内方向。
[0020]例如，本申请可以涉及这样的光调制装置：第一聚合物膜基底和/或第二聚合物膜基底中的每一者的慢轴与呈四边形分隔物形式的间隔件的每一侧边相互在
‑
25度至25度的范围内或者在65度至115度的范围内。例如，当第一聚合物膜基底和/或第二聚合物膜基底中的每一者均为经拉伸的延迟膜基底时，由第一聚合物膜基底和/或第二聚合物膜基底中的每一者的MD方向和/或TD方向形成的面内方向(慢轴)与呈四边形分隔物形式的间隔件的每一侧边可以被排列成相互在
‑
25度至25度的范围内或者在65度至115度的范围内。在另一个实例中，第一聚合物膜基底和/或第二聚合物膜基底中的每一者的慢轴与呈四边形分隔
物形式的间隔件的每一侧边相互可以在
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20度至20度的范围内、在
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15度至15度的范围内、在
‑
10度至10度的范围内或者在
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5度至5度的范围内，或者相互可以在70度至110度的范围内、在75度至105度的范围内、在80度至100度的范围内或者在85度至95度的范围内。
[0021]通过如上排列第一聚合物膜基底和/或第二聚合物膜基底以及呈四边形分隔物形式的间隔件，本申请可以提供其中黑色模式下的光泄露和/或雾度被更有效地控制的光调制装置。
[0022]例如，本申本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光调制装置，包括：第一聚合物膜基底，其中在第一表面上形成有粘合剂层或压敏粘合剂层并且在第二表面上设置有第一偏光层，和第二聚合物膜基底，其中在第一表面上形成有液晶配向膜并且在第二表面上设置有第二偏光层，其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底被设置成使得各自的第一表面彼此面对，以及在相对设置的第一聚合物膜基底与第二聚合物膜基底之间存在包含液晶化合物的光调制层，以及相对设置的第一聚合物膜基底与第二聚合物膜基底之间的间隔通过四边形分隔物间隔件来保持，以及所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底中的每一者的慢轴与所述四边形分隔物间隔件的每一侧边相互在
‑
25度至25度的范围内或者在65度至115度的范围内。2.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述间隔件为正方形或矩形分隔物间隔件。3.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述第一偏光层和所述第二偏光层中的每一者的吸收轴与所述四边形分隔物间隔件的每一侧边相互在
‑
25度至25度的范围内或者在65度至115度的范围内。4.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述第一偏光层和所述第二偏光层的吸收轴彼此垂直。5.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述第一聚合物膜基底和所述第二聚合物膜基底的所述慢轴彼此水平。6....

【专利技术属性】
技术研发人员：金旼俊，柳正善，宋哲沃，吴东炫，金南圭，金真弘，金正云，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：