一种用于对半导体废气进行处理的净化设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于对半导体废气进行处理的净化设备，包括反应室、净水箱、冷却塔及第一水泵，本方案中改进结构，在净水箱上固定反应室及冷却塔，在净水箱内下部一侧固定隔离箱，隔离箱侧面开口并固定过滤板，隔离箱上方箱壁安装喷头，净水箱内喷头水洗自反应室进入的气体，冲洗后水液自隔离箱开口处过滤板进入隔离箱内，并在隔离箱内安装液位计、进水管及第二水泵，并在临近过滤板的净水箱壁排污口处安装第三水泵，当过滤板处因颗粒物受堵，第一水泵抽水导致隔离箱内液面下降，液位计变化，第二、第三水泵启动，以第三水泵将过滤板处颗粒物随水抽出，第二水泵补水并使隔离箱内水液反向冲洗过滤板，使净化设备高效稳定运行。使净化设备高效稳定运行。使净化设备高效稳定运行。

【技术实现步骤摘要】
一种用于对半导体废气进行处理的净化设备


[0001]本技术涉及净化装置
，具体涉及一种用于对半导体废气进行处理的净化设备。

技术介绍

[0002]在半导体制造过程中易产生有害废气及粉尘等，废气包括酸性气体、有机气体等，常见的处理装置常先期对酸性气体、粉尘等进行去除，之后再对有机气体进行反应去除，如授权公告号CN208678769U的专利中，通过反应室、水洗室、冷却塔及净水箱进行处理，有机废气进入反应室反应，之后进入水洗室以水液冲洗将气体中反应产生的颗粒去除并通过管道流入净水箱，剩余气体进入冷却塔后经喷淋降温排出，此结构的缺点在于，净水箱内过滤板易因颗粒物堵塞，进而导致净水箱内可供水泵抽取的水液减少，继而影响喷头冲洗，需改进。

技术实现思路

[0003]为解决上述至少一个技术缺陷，本技术提供了如下技术方案：
[0004]本申请文件公开一种用于对半导体废气进行处理的净化设备，包括反应室、净水箱、冷却塔及第一水泵，所述净水箱顶面固定反应室及冷却塔，反应室的出气口与净水箱连通且净水箱的出气口与冷却塔连通，第一水泵的出水口处设置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于对半导体废气进行处理的净化设备，包括反应室、净水箱、冷却塔及第一水泵，其特征在于，所述净水箱顶面固定反应室及冷却塔，反应室的出气口与净水箱连通且净水箱的出气口与冷却塔连通，第一水泵的出水口处设置分流接口，分流接口各个出水口分别通过管道与净水箱、冷却塔内的喷头连接，净水箱内下部一侧设置隔离箱，隔离箱侧面设置进口且进口处固定过滤板，第一水泵的进水口与隔离箱内连通，净水箱腔内的喷头位于隔离箱上方，隔离箱壁上设置进水管，进水管另一端位于净水箱外且该端部设置第二水泵，净水箱内设置液位计，临近隔离箱过滤板处的净水箱腔壁上设置排污口并设置第三水泵，液位计与第二水泵、第三水泵...

【专利技术属性】
技术研发人员：莫薇，
申请(专利权)人：深圳市利微成科技有限公司，
类型：新型
国别省市：