一种用于氚浓度快速测量装置的电离室制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于氚浓度快速测量装置的电离室，1.包括一个主电离室，四个辅助电离室和固定架；所述四个辅助电离室均匀分布在主电离室四周，所述主电离室和辅助电离室通过螺栓固定在固定架上。本实用新型专利技术避免了γ场不均匀带来的补偿效果不充分或过补偿问题，实现环境γ充分补偿，提高γ射线补尝效率，减小了γ射线对氚浓度快速测量的影响，提高了测量结果的可靠性；提高了测量效率，为氚浓度的快速测量提供了技术基础；电离室体积与测量效率和γ射线补尝效率实现了优化组合，为氚浓度快速测量装置小型化，轻量化提供了技术保障。轻量化提供了技术保障。轻量化提供了技术保障。

【技术实现步骤摘要】
一种用于氚浓度快速测量装置的电离室


[0001]本技术属于辐射物质测定
，具体涉及一种用于氚浓度快速测量装置的电离室。

技术介绍

[0002]在测量过程中，需要考虑环境中γ射线带来的影响，为了扣除或减少该影响，需要对γ射线进行补偿或扣除，消除γ射线对氚浓度快速测量的影响。其方法一般采用同轴电离室、两个并列的电离室或者串联电离室进行补偿。该方法需要要求环境γ辐射场均匀，且各向同性。专利技术人在实际使用过程中发现，这些现有技术至少存在以下技术问题：
[0003]环境中的γ辐射场往往不均匀，且方向各异，从而导致了电离室测量氚浓度时出现γ补偿不充分或过补偿，进而影响了测量结果的准确性。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中存在的γ辐射场不均匀，方向各异，影响测量结果准确性问题，本技术提出了一种用于氚浓度快速测量装置的电离室，其目的为：避免了γ场不均匀带来的补偿效果不充分或过补偿问题，实现环境γ充分补偿，提高γ射线补尝效率，减小了γ射线对氚浓度快速测量的影响，提高了测量结果的可靠性。
[0005]为实现上述目的本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于氚浓度快速测量装置的电离室，其特征在于，包括一个主电离室，四个辅助电离室和固定架；所述四个辅助电离室均匀分布在主电离室四周，所述主电离室和辅助电离室通过螺栓固定在固定架上。2.根据权利要求1所述的一种用于氚浓度快速测量装置的电离室，其特征在于，所述主电离室和辅助电离室均包括腔体、电极安装孔、气嘴、电极和绝缘环，所述腔体为圆柱体形，所述腔体两端其中一端密封，另一端设置有电极安装孔和气嘴，所述电极安装孔设置在腔体一端中心，气嘴焊接在电极安装孔旁侧。3.根据权利要求2所述的一种用于氚浓度快速测量装置的电离室，其特征在于，所述电极穿过固定架电极安装孔和绝缘环，通过电极安装孔安装在电离室腔体上，所述电极80％
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90％安装在腔体内，10％
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20％在腔体外。4.根据权利要求2所述的一种用于氚浓度快速测量装置的电离室，其特征在于，电极材料为铜。5.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙文遂，李红星，刘建辉，李骞，唐瀚姝，余云华，
申请(专利权)人：中创智科绵阳科技有限公司，
类型：新型
国别省市：