蒸镀方法和蒸镀系统技术方案

本申请实施例涉及显示领域，提供一种蒸镀方法及蒸镀系统，蒸镀方法包括：测试获取掩膜板与基板在一个蒸镀周期内的像素位置的总偏差量；蒸镀周期包括至少两个连续的蒸镀时期，测试获取掩模板与基板在每一个蒸镀时期的像素位置的子偏差量；基于子偏差量和总偏差量，获取与每一蒸镀时期对应的基板的像素开口的位置的补偿量；采用同一掩膜板进行实际蒸镀，且在掩膜板的不同蒸镀时期内，分别在具有与蒸镀时期相对应的补偿量的基板的像素开口内蒸镀像素，至少可以改善在一个蒸镀周期内掩膜板与基板之间的匹配问题，提升一个蒸镀周期内的像素位置精度。像素位置精度。像素位置精度。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀方法和蒸镀系统


[0001]本申请实施例涉及显示领域，特别涉及一种蒸镀方法和蒸镀系统。

技术介绍

[0002]如今，电子设备已经成为人们日常生活中不可或缺的部分，如，智能手机、平板电脑等。电子设备的显示器件可以为有机发光二极管(Organic Light
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Emitting Diode，OLED)面板，OLED面板的制备步骤包括形成阳极、蒸镀有机发光材料形成发光层等。
[0003]在蒸镀有机发光材料形成发光层的工艺步骤中，提供基板与掩膜板，在基板上形成像素定义层(Pixel Define Layer，PDL)以及像素限定开口，掩膜板具有掩膜开口；掩膜板位于基板上，像素开口与掩膜开口对位，发光材料通过掩膜板上的掩膜开口在像素开口内形成像素，多个像素构成显示面板的发光层。
[0004]然而在蒸镀过程中，随着蒸镀时长和片数增加，玻璃基板与掩模板的偏差也逐渐增大，即像素位置精度(Pattern Position Accuracy，PPA)变差，造成像素间混色，出现显示不良，影响生产良率。
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技术实现思路
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀方法，其特征在于，包括：测试获取掩膜板与基板在一个蒸镀周期内的像素位置的总偏差量；所述蒸镀周期包括至少两个连续的蒸镀时期，测试获取掩模板与基板在每一个蒸镀时期的像素位置的子偏差量；基于所述子偏差量和所述总偏差量，获取与每一所述蒸镀时期对应的所述基板的像素开口的位置的补偿量；采用同一所述掩膜板进行实际蒸镀，且在所述掩膜板的不同蒸镀时期内，分别在具有与所述蒸镀时期相对应的所述补偿量的所述基板的所述像素开口内蒸镀像素。2.如权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于，获取所述像素位置的总偏差量的方法包括：获取所述蒸镀周期内蒸镀第一个所述基板形成的像素在所述像素开口内的位置作为初始位置；获取所述蒸镀周期内蒸镀最后一个所述基板形成的像素在所述像素开口内的位置作为最终位置；基于所述初始位置和所述最终位置，获取所述总偏差量。3.如权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于，获取所述子偏差量的方法包括：获取所述蒸镀周期内蒸镀第一个所述基板形成的像素在所述像素开口内的位置作为初始位置；在其中一个所述蒸镀时期内，获取蒸镀最后一个所述基板形成的像素在所述像素开口内的位置作为最终位置；基于所述初始位置和所述最终位置，获取所述子偏差量。4.如权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于，在测试获取所述子偏差量之前，还包括：获取相邻所述蒸镀时期的时间分界线，所述时间分界线用于作为所述实际蒸镀期间的不同蒸镀时期划分的参考；其中，获取所述时间分界线的方法包括：基于任一所述蒸镀时期的所述子偏差量在所述总偏差量的占比，获取所述蒸镀时期的相对偏差量，若所述相对偏差量达到预设阈值，则记录前一所述蒸镀时期的时长，所述时长作为定义前一所述蒸镀时期和后一所述蒸镀时期的所述时间分界线。5.如权利要求4所述的蒸镀方法，其特征在于，所述蒸镀周期包括至少三个连续的所述蒸镀时期，除最后一个所述蒸镀时期外每一所述蒸镀时期均与一所述预设阈值相对应，且第n个所述蒸镀时期对应的所述预设阈值满足如下关系：φ＝(1/N)
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n+a，其中，φ为预设阈值，N为蒸镀时期的总数量，
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【专利技术属性】
技术研发人员：赵晶晶，付佳，刘明星，周皓月，赵栋，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，
类型：发明
国别省市：