制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗技术

公开了制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗。所述方法包括：第一步骤，准备基底；第二步骤，通过图案化过程在基底上形成掩模图案；第三步骤，在其上形成有掩模图案的基底上形成抗菌层；以及第四步骤，移除掩模图案以获得形成在基底上的抗菌图案。通过该方法，可以制造具有规则且均匀地分布在其整个区域上的抗菌图案的覆盖窗。因此，覆盖窗在其整个区域上具有长效优异的抗菌特性。区域上具有长效优异的抗菌特性。区域上具有长效优异的抗菌特性。

【技术实现步骤摘要】
制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2020年10月12日提交的韩国专利申请第10
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2020
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0130847号的优先权，其全部内容出于所有目的通过引用并入本文。


[0003]本公开内容涉及覆盖窗。更特别地，本公开内容涉及由于在基底的表面上规则排列且均匀分布的抗菌图案而在其整个区域上具有长效且优异的抗菌特性的覆盖窗。

技术介绍

[0004]工业的逐步发展引起了环境污染，导致近来的全球气候变化。因此，目前，由新病毒、寄生物和细菌引起的疾病正在增加。为此，世界各地都在积极地进行对抗菌产品的研究。
[0005]对目标对象赋予抗菌特性的简单方法包括：将抗菌材料涂覆在目标对象的表面上或将抗菌膜附接至目标对象的表面。
[0006]银(Ag)和铜(Cu)纳米颗粒是最常用的抗菌材料。存在各种涂覆有银或铜纳米颗粒的产品。然而，存在的问题在于，涂覆在产品上的纳米颗粒随着时间容易剥离，从而在一定的时间段之后不能够表现出抗菌特性。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制造抗菌覆盖窗的方法，所述方法包括：第一步骤，准备基底；第二步骤，使用图案化过程在所述基底(100)上形成掩模图案；第三步骤，在其上形成有所述掩模图案的所述基底上形成抗菌层；以及第四步骤，移除所述掩模图案以制造形成在所述基底上的抗菌图案。2.根据权利要求1所述的方法，其中在所述第四步骤之后，进行控制所述抗菌图案的表面形状的步骤。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二步骤中的所述图案化过程为选自纳米压印光刻(NIL)、电子束光刻、聚合物共混物光刻(PBL)和嵌段共聚物加工(BCP)中的任一者。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述抗菌图案为压纹图案或镶嵌图案。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述抗菌图案由选自银、铂、铜和二氧化碳中的一种材料或者两种或更多种材料的混合物制成。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述抗菌图案具有3H至9H的范围内的铅笔锐度。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述抗菌图案具有50nm至5000nm的范围内的横向宽度、50nm至5000nm的范围内的平均间隔和0.5nm至500nm的范围内的平均高度。8.根据权利要求1所述的方法，其中于在所述第二步骤中在其上形成有所述掩模图案的所述基底上沉积硬掩模层，并移除所述掩模图案使得在所述基底上形成硬掩模图案。9.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底为玻璃板或聚合物膜。10.一种抗菌覆盖窗，包括：基底；和形成在所述基底上的抗菌图案，其中所述抗菌图案为从所述基底的上表面突出的压纹图案或嵌入蚀刻到所述基底中的凹版图案中的镶嵌图案。11.根据权利要求10所述的抗菌覆盖窗，其中所述抗菌图案的表面是通过表面形状控制过程...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲜于国贤，河泰周，吴再锡，卢仲喆，
申请(专利权)人：UTI有限公司，
类型：发明
国别省市：