制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗技术

公开了制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗。所述方法包括：第一步骤，准备基底；第二步骤，通过图案化过程在基底上形成掩模图案；第三步骤，在其上形成有掩模图案的基底上形成抗菌层；以及第四步骤，移除掩模图案以获得形成在基底上的抗菌图案。通过该方法，可以制造具有规则且均匀地分布在其整个区域上的抗菌图案的覆盖窗。因此，覆盖窗在其整个区域上具有长效优异的抗菌特性。区域上具有长效优异的抗菌特性。区域上具有长效优异的抗菌特性。

【技术实现步骤摘要】
制造抗菌覆盖窗的方法和由此制造的抗菌覆盖窗
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2020年10月12日提交的韩国专利申请第10
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2020
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0130847号的优先权，其全部内容出于所有目的通过引用并入本文。


[0003]本公开内容涉及覆盖窗。更特别地，本公开内容涉及由于在基底的表面上规则排列且均匀分布的抗菌图案而在其整个区域上具有长效且优异的抗菌特性的覆盖窗。

技术介绍

[0004]工业的逐步发展引起了环境污染，导致近来的全球气候变化。因此，目前，由新病毒、寄生物和细菌引起的疾病正在增加。为此，世界各地都在积极地进行对抗菌产品的研究。
[0005]对目标对象赋予抗菌特性的简单方法包括：将抗菌材料涂覆在目标对象的表面上或将抗菌膜附接至目标对象的表面。
[0006]银(Ag)和铜(Cu)纳米颗粒是最常用的抗菌材料。存在各种涂覆有银或铜纳米颗粒的产品。然而，存在的问题在于，涂覆在产品上的纳米颗粒随着时间容易剥离，从而在一定的时间段之后不能够表现出抗菌特性。
[0007]因此，近来，由于抗菌膜方便应用在各种产品上，因此其被广泛地使用。
[0008]具体地，这些抗菌膜被涂覆在或附接至被许多人使用的电梯操作按钮、各种电子设备的触摸面板和各种产品的操作按钮上。
[0009]然而，由于现有的抗菌膜是将抗菌材料以涂层的形式简单地设置在基底的表面上，因此仍然存在抗菌材料随着时间剥离的问题。
[0010]此外，当将这样的抗菌膜涂覆在产品的表面上时，膜还在某程度上起保护产品的表面的作用。然而，由于抗菌膜本身随着时间被逐渐损坏，因此膜不能永久地保护产品，并且抗菌性能随着时间逐渐降低。
[0011]此外，由于常规的抗菌膜是通过其中将抗菌材料朝向基底的上表面简单地喷射或喷洒的过程形成的，因此存在这样的可能性：基底上沉积的抗菌材料的厚度不均匀，导致在整个区域上抗菌特性的均匀性差，并且难以根据需要控制抗菌特性。

技术实现思路

[0012]本公开内容的目的是提供通过采用在基底上形成抗菌图案的过程制造抗菌覆盖窗的方法，所述抗菌覆盖窗在其整个区域上具有优异、均匀且长效的抗菌特性。
[0013]为了实现以上目的，本公开内容的一个技术构思是提供制造抗菌覆盖窗的方法，所述方法包括：第一步骤，准备基底；第二步骤，通过图案化过程在基底上形成掩模图案；第三步骤，在其上形成有掩模图案的基底上形成抗菌层；以及第四步骤，移除掩模图案以获得形成在基底上的抗菌图案。
[0014]本公开内容的另一个技术构思是提供制造抗菌覆盖窗的方法，所述方法包括：(a)准备基底；(b)在基底上形成抗菌层；(c)通过图案化过程在抗菌层上形成掩模图案；(d)使用掩模图案作为蚀刻掩模进行蚀刻过程；以及(e)移除掩模图案以获得形成在基底上的抗菌图案。
[0015]本公开内容的又一个技术构思是提供抗菌覆盖窗，所述抗菌覆盖窗包括基底和形成在基底上的抗菌图案。抗菌图案为从基底的上表面突出的压纹图案或嵌入蚀刻到基底的表面中的凹陷设计的镶嵌图案。
[0016]所述方法还可以包括控制抗菌图案的表面形状的步骤，并且该步骤可以在第四步骤或步骤(e)之后进行。
[0017]第二步骤或步骤(c)的图案化可以通过选自纳米压印光刻(nano
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imprint lithography，NIL)、电子束光刻、聚合物共混物光刻(polymer blend lithography，PBL)和嵌段共聚物加工(block copolymer processing，BCP)中的任一种方法来进行。
[0018]抗菌图案可以为压纹抗菌图案或镶嵌抗菌图案。
[0019]抗菌图案可以由选自银、铂、铜和二氧化钛中的一种材料或者两种或更多种材料的混合物制成。
[0020]抗菌图案具有3H至9H的范围内的铅笔硬度、50nm至5000nm的范围内的平均横向宽度、50nm至5000nm的范围内的平均间隔和0.5nm至500nm的范围内的平均高度。
[0021]所述方法还可以包括于在第二步骤中在其上形成有掩模图案的基底上形成硬掩模图案层的步骤和移除掩模图案以获得硬掩模图案的步骤。
[0022]此外，优选基底为玻璃或聚合物膜。
[0023]本公开内容提供了通过在基底的表面上形成规则排列且均匀分布的抗菌图案来形成覆盖窗的方法，所述覆盖窗在整个区域上具有长效优异的抗菌特性。
[0024]此外，由于形成压纹抗菌图案和镶嵌抗菌图案，抗菌特性得到改善并且基底与抗菌材料之间的结合强度增加。由于这些原因，覆盖窗表现出改善的耐磨性和长效的抗菌特性。
[0025]即，在本公开内容中，抗菌图案为从基底的表面突出的压纹抗菌图案或嵌入蚀刻到基底中的凹版图案中的镶嵌抗菌图案。因此，通过由本公开内容提供的方法制造的覆盖窗具有在其整个区域上均匀的抗菌特性并且表现出强的基底与抗菌图案之间的结合强度，从而实现抗菌图案的耐磨性的改善。因此，覆盖窗可以在各种应用中用作保护覆盖窗。
[0026]此外，由于根据本公开内容的柔性覆盖窗具有3H至9H的铅笔硬度，根据本公开内容的柔性覆盖窗由于表现出抗菌特性的能力和保护柔性显示器的表面的能力而有望被实际使用。
附图说明
[0027]图1的1A至1G是示出根据本公开内容的多个实施方案的制造柔性覆盖窗的方法的示意图；
[0028]图2的2A至2H是示出根据本公开内容的多个实施方案的制造柔性覆盖窗的方法的示意图；
[0029]图3的3A至3E是示出根据本公开内容的多个实施方案的制造柔性覆盖窗的方法的
示意图；
[0030]图4的4A至4G是示出根据本公开内容的多个实施方案的制造柔性覆盖窗的方法的示意图；
[0031]图5的5A至5F是示出根据本公开内容的多个实施方案的制造柔性覆盖窗的方法的示意图；
[0032]图6A和6B是示出根据本公开内容的实施方案的各个覆盖窗的表面的扫描电子显微镜(SEM)图像；
[0033]图7是示出根据本公开内容的一个实施方案的覆盖窗的表面的SEM图像；
[0034]图8是示出根据本公开内容的一个实施方案的覆盖窗的表面的SEM图像；
[0035]图9是示出根据本公开内容的一个实施方案的覆盖窗的表面的SEM图像；以及
[0036]图10A和10B是示出根据本公开内容的实施方案的各个覆盖窗的表面的SEM图像。
具体实施方式
[0037]本公开内容涉及具有抗菌特性的柔性覆盖窗。更特别地，本公开内容公开了这样的柔性覆盖窗：所述柔性覆盖窗通过在基底上形成抗菌图案使得柔性覆盖窗具有长效且优异的抗菌特性而获得。
[0038]由于本专利技术中使用的抗菌图案均匀地形成在基底的表面上，使得基底的表面被赋予均匀的抗菌特性。此外，由于抗菌图案以压纹形状或刻成的形状形成，因此本公开内容中公开的柔性覆盖窗具有足够的强本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制造抗菌覆盖窗的方法，所述方法包括：第一步骤，准备基底；第二步骤，使用图案化过程在所述基底(100)上形成掩模图案；第三步骤，在其上形成有所述掩模图案的所述基底上形成抗菌层；以及第四步骤，移除所述掩模图案以制造形成在所述基底上的抗菌图案。2.根据权利要求1所述的方法，其中在所述第四步骤之后，进行控制所述抗菌图案的表面形状的步骤。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第二步骤中的所述图案化过程为选自纳米压印光刻(NIL)、电子束光刻、聚合物共混物光刻(PBL)和嵌段共聚物加工(BCP)中的任一者。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述抗菌图案为压纹图案或镶嵌图案。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述抗菌图案由选自银、铂、铜和二氧化碳中的一种材料或者两种或更多种材料的混合物制成。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述抗菌图案具有3H至9H的范围内的铅笔锐度。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述抗菌图案具有50nm至5000nm的范围内的横向宽度、50nm至5000nm的范围内的平均间隔和0.5nm至500nm的范围内的平均高度。8.根据权利要求1所述的方法，其中于在所述第二步骤中在其上形成有所述掩模图案的所述基底上沉积硬掩模层，并移除所述掩模图案使得在所述基底上形成硬掩模图案。9.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底为玻璃板或聚合物膜。10.一种抗菌覆盖窗，包括：基底；和形成在所述基底上的抗菌图案，其中所述抗菌图案为从所述基底的上表面突出的压纹图案或嵌入蚀刻到所述基底中的凹版图案中的镶嵌图案。11.根据权利要求10所述的抗菌覆盖窗，其中所述抗菌图案的表面是通过表面形状控制过程...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲜于国贤，河泰周，吴再锡，卢仲喆，
申请(专利权)人：UTI有限公司，
类型：发明
国别省市：