嘧啶二酮类化合物及其用途制造技术

技术编号:33080366 阅读:26 留言:0更新日期:2022-04-15 10:32
本发明专利技术提出了一种有效抑制CD73活性的新化合物,其为式I所示化合物、其互变异构体、立体异构体、水合物、溶剂化物、药学上可接受的盐或前药,其制备方法,以及其在制备药物中的用途途途

【技术实现步骤摘要】
嘧啶二酮类化合物及其用途


[0001]本专利技术属于医药化学领域,具体的,本专利技术涉及嘧啶二酮类化合物,更具体的,本专利技术涉及一种嘧啶二酮类化合物及其制备方法,以及其在制备药物中的用途。

技术介绍

[0002]CD73又称为胞外5
’‑
核苷酸水解酶,属于金属磷酸酯酶超家族的外切核酸酶,是一种外周糖蛋白,其主要形式是通过糖基磷脂酰肌醇(GPI)锚定在质膜上,分子量为70KD,由NT5E基因编码。CD73广泛表达于不同组织的细胞表面,包括脑、肺、心、脾、淋巴结、肾、结肠、血管内皮和骨髓;各种免疫细胞也有表达,包括巨噬细胞、中性粒细胞、髓系抑制细胞(MDSCs)、树突状细胞(DC)、自然杀伤细胞(NK)和调节性T细胞(Treg)(Soleimani A等人,Biochimie,2020,176:21

30.);多种肿瘤细胞也有高表达的CD73,如:黑色素瘤、乳腺癌、胰腺癌、卵巢癌、结肠癌和前列腺癌等(Gao Z等人,Biomed Res Int,2014,2014:460654.)。CD73也以可溶性形式(s本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.式I所示化合物,其互变异构体、立体异构体、水合物、溶剂化物、药学上可接受的盐或前药:其中,m为0、1、2、3或者4;中R1独立地选自氢、卤素、羟基、氰基、氨基、未取代或被R
a
取代的C1‑
C6烷基、或、未取代或被R
a
取代的C1‑
C6烷基

O

;所述的被R
a
取代的C1‑
C6烷基、或、所述的被R
a
取代的C1‑
C6烷基

O

中,所述的取代各自独立地是指下列取代基中的一个或多个取代:卤素、羟基、氰基、氨基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷基

O



COOH、

C(=O)NH2;当取代基为多个时,所述的取代基相同或不同;当m不为0或1时,R1独立地为相同或不同;n为0、1、2或者3;X选自N或者C;Z1,Z2各自独立地选自N或者C;中Y1,Y2,Y3各自独立地选自N、C、O或S;所述Y1,Y2,Y3各自独立地被一个或多个R2取代;R2独立地选自氢、卤素、羟基、氰基、氨基、未取代或被R
b
取代的基团,所述的R
b
取代可以是一个或多个取代,所述的R
b
各自独立地为下列取代基:卤素、氰基、氨基、羟基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷基

O

、C3‑
C6环烷基、5

8元芳基、5

8元杂芳基、4

8元杂环烷基、或3

9元杂环烯基;当取代基为多个时,所述的取代基相同或不同;所述的5

8元杂芳基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;所述的4

8元杂环烷基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;所述的4

8元杂环烯基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个。2.式I所示化合物,其互变异构体、立体异构体、水合物、溶剂化物、药学上可接受的盐或前药:
其中,m为0、1、2、3或者4;中R1独立地选自氢、卤素、羟基、氰基、氨基、未取代或被R
a
取代的C1‑
C6烷基、或、未取代或被R
a
取代的C1‑
C6烷基

O

;所述的被R
a
取代的C1‑
C6烷基、或、所述的被R
a
取代的C1‑
C6烷基

O

中,所述的取代各自独立地是指下列取代基中的一个或多个取代:卤素、羟基、氰基、氨基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷基

O



COOH、

C(=O)NH2;当取代基为多个时,所述的取代基相同或不同;当m不为0或1时,R1独立地为相同或不同;n为0、1、2或者3;X选自N或者C;Z1,Z2各自独立地选自N或者C;中Y1,Y2,Y3各自独立地选自N、C、O或S;所述Y1,Y2,Y3各自独立地被一个或多个R2取代;R2独立地选自氢、卤素、羟基、氰基、氨基、未取代或被R
b
取代的基团,所述的取代各自独立地是指下列取代基中的一个或多个取代:C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷基

O

、C3‑
C6环烷基、5

8元芳基、5

8元杂芳基、4

8元杂环烷基、或3

9元杂环烯基;当取代基为多个时,所述的取代基相同或不同;所述的5

8元杂芳基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;所述的4

8元杂环烷基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;所述的4

8元杂环烯基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个。3.根据权利要求1或2所述的式I所示化合物、其互变异构体、立体异构体、水合物、溶剂化物、药学上可接受的盐或前药,其特征在于,所述未取代或被R
b
取代的基团中,所述基团各自独立地选自C1‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、5

8元芳基、5

8元杂芳基、4

8元杂环烷基或4

8元杂环烯基。4.根据权利要求1或2所述的式I所示化合物、其互变异构体、立体异构体、水合物、溶剂化物、药学上可接受的盐或前药,其特征在于,所述为或者优选为
和/或,为5元杂芳基、5元杂环烷基或5元杂环烯基,优选为5元杂芳基;和/或,当为5元杂芳基时,所述杂芳基的杂原子为N;和/或,当为5元杂芳基时,所述杂芳基的杂原子数为1

3个,优选为1或2个。5.根据权利要求1或2所述的式I所示化合物、其互变异构体、立体异构体、水合物、溶剂化物、药学上可接受的盐或前药,其特征在于,中,当R1为卤素时,所述卤素为F、Cl、Br或I,优选为F或Cl;和/或,当R1为卤素时,m为1或2,优选地,m为1;和/或,当R1为未取代或被R
a
取代的C1‑
C6烷基或未取代或被R
a
取代的C1‑
C6烷基

O

时,m为1或2,优选地,m为1;和/或,当R1为被R
a
取代的C1‑
C6烷基或被R
a
取代的C1‑
C6烷基

O

时,所述的取代的个数独立地为1

3个;和/或,R1独立地选自未取代或被R
a
取代的C1‑
C4烷基或未取代或被R
a
取代的C1‑
C4烷基

O

,所述的R
a
取代是一个或多个取代,所述的R
a
各自独立地选自以下取代基:卤素、羟基、氰基、氨基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷基

O



COOH、

C(=O)NH2;和/或,R1独立地选自未取代或被R
a
取代的C1‑
C3烷基或未取代或被R
a
取代的C1‑
C3烷基

O

,所述的R
a
取代是一个或多个取代,所述的R
a
各自独立地选自以下取代基:卤素、羟基、氰基、氨基、C1‑
C6烷基;和/或,R1独立地选自未取代或被R
a
取代的甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基或异丁基,所述的R
a
取代是一个或多个取代,所述的R
a
各自独立地选自以下取代基卤素、羟基、氰基、氨基、C1‑
C6烷基;和/或,R1独立地选自未取代或被R
a
取代的甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基或异丁基,当R
a
为卤素时,所述卤素为F、Cl、Br或I,优选为F或Cl。6.根据权利要求1或2所述的式I所示化合物、其互变异构体、立体异构体、水合物、溶剂化物、药学上可接受的盐或前药,其特征在于,中,R1独立地选自未取代或被R
a
取代的C1‑
C4烷基,所述的R
a
取代是一个或多个取代,所述的R
a
各自独立地选自以下取代基:卤素、羟基、氰基、氨基、C1‑
C6烷基;其中m为1或2,n为0,优选地,m为1且n为0。7.根据权利要求1或2所述的式I所示化合物、其互变异构体、立体异构体、水合物、溶剂化物、药学上可接受的盐或前药,其特征在于,
中,当Y1、Y2、Y3各自独立地被一个或多个R2取代时,所述R2的总数为1~3个;和/或,R2独立地选自氢、卤素、羟基、氰基、氨基、未取代或被R
b
取代的C1‑
C6烷基,所述的R
b
取代是一个或多个取代,所述的R
b
各自独立地为下列取代基:卤素、氰基、氨基、羟基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷基

O

、C3‑
C6环烷基、5

8元芳基、5

8元杂芳基、4

8元杂环烷基、或3

9元杂环烯基;当取代基为多个时,所述的取代基相同或不同;所述的5

8元杂芳基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;所述的4

8元杂环烷基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;所述的4

8元杂环烯基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;和/或,当R2为卤素时,所述卤素为F、Cl、Br、I,优选为F或Cl;和/或,R2独立地选自未取代或被R
b
取代的C1‑
C6烷基,所述的R
b
取代是一个或多个取代,所述的R
b
各自独立地选自以下取代基:卤素、氰基、氨基、羟基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷基

O

、C3‑
C6环烷基、5

8元芳基、5

8元杂芳基、4

8元杂环烷基、或3

9元杂环烯基;所述的5

8元杂芳基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;所述的4

8元杂环烷基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;所述的4

8元杂环烯基中,杂原子选自N、S、O和P中的一种或多种,杂原子数为1

3个;和/或,R2独立地选自未取代或被R
b
取代的C1‑
C4烷基,所述的R
b
取代是一个或多个取代,所述的R
b
各自独立地选自以下取代基:卤素、氰基、氨基、羟基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷基

O

、C3‑
C6环烷基;和/或,R2独立地选自未取代或被R
b
取代的甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基或异丁基,所述的R
b
取代是一个或多个取代,所述的R
b
各自独立地选自以下取代基:卤素、氰基、氨基、羟基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6烷基

O

、C3‑
C6环烷基;和/或,当R2为未取代或被R
b
取代的C3‑
C6环烷基时,所述的C3‑
C6环烷基独立地为环丙烷、环丁烷、环戊烷或环己烷,优选为环丙烷、环丁烷;和/或,当R2为未取代或被R
b
取代的5

8元芳基时,所述的5

8元芳基独立地为苯基或萘基,优选为苯基;和/或,当R2为未取代或被R
b
取代的5

8元杂芳基时,所述的5

8元杂芳基独立地为吡咯,吡唑、三氮唑、呋喃、噁唑、噻吩、噻唑、吡啶、吡嗪或嘧啶,优选为吡唑、呋喃、噻吩、吡啶;和/或,当R2为未取代或被R
b
取代的4

8元杂环烷基时,所述的4

8元杂环烷基独立地为氮杂环丁烷、氧杂环丁烷、四氢吡咯烷基、四氢呋喃基、六氢吡喃或四氢

2H

硫吡喃1,1

二氧化物,优选为氮杂环丁烷,氧杂环丁烷;和/或,当R2为未取代或被R
b
取代的4

8元杂环烯基时,所述的4

8元杂环烯基独立地为1,2,3,4

四氢吡啶基、1,2

二氢吡啶基、1,4

二氢吡啶基、1,2,3,6

四氢吡啶基、1,4,5,6

四氢嘧啶基、2

吡咯啉基、3

吡咯啉基、2

咪唑啉基、2

吡唑啉基、二氢咪唑基、二氢噁唑基、二氢恶二唑基、二氢噻唑基、3,4

二氢

2H

吡喃基、二氢呋喃基、或氟代二氢呋喃基及其氧化物,优选为二氢噻唑基、3,4

二氢

2H

吡喃基、二氢呋喃基;和/或,当R2为取代的C1‑
C6烷基、取代的C3‑
C6环烷基、取代的5

8元芳基、取代的5

8元杂芳基或取代的的4

8元杂环烷基时,所述的取代的个数为3个;和/或,当R2为取代的C1‑
C6烷基、取代的C3‑
C6环烷基、取代的5

8元芳基、取代的5

8元杂
芳基或取代的的4

8元杂环烷基,所述的取代各自独立地为卤素时,所述的卤素为F、C...

【专利技术属性】
技术研发人员:张学军常少华李学强刘勇王洪强叶大炳王永刚钱丽娜刘礼飞张博杨俊李莉娥
申请(专利权)人:人福医药集团股份公司
类型:发明
国别省市:

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