【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含结合到表面的卤化锌和羧酸锌的核
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壳纳米结构
[0001]本专利技术属于纳米结构合成领域。本专利技术提供了已经用乙酸锌和氟化锌表面处理的高度发光的纳米结构。本专利技术还提供了制备纳米结构、包含纳米结构的膜和包含纳米结构的装置的方法。
技术介绍
[0002]由于其稳定的壳、良好的能级排列以及核与壳和层之间较少的晶格失配,ZnS已被广泛用作基于Cd核QD的量子点(QD)发光二极管中的壳材料。在过去十年中,通过改变壳的组成和厚度(例如,Cd(核)/ZnS(壳)),装置性能得到改善。尽管前景看好,但是由于镉被认为是有害物质,包含镉QD的QLED的商业化受到严格限制。
[0003]在基于Cd的II
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VI化合物的潜在替代物中,由于InP QD覆盖整个可见光范围和窄光谱带宽的带隙可调性,其被认为是发光应用中最有希望的候选物。
[0004]然而,由于大的晶格失配、核/壳之间的高晶格应变、InP核中太强的空穴限制,从有机空穴传输层到QD的高空穴注入势垒(这是由于如图1所示的深的HOMO ZnS壳),以及与电子相比慢的空穴迁移率,ZnS壳不能适用于InP核。
[0005]在使这些缺陷最小化的努力中,ZnSe或梯度ZnSeS已经被用作InP核和ZnS壳之间的缓冲层以最小化晶格失配和晶格应变。但是,使用较厚的ZnSe壳降低了InP QD的量子产率(QY),这意味着缓冲层中的ZnSe或梯度ZnSeS不会最小化晶格失配和晶格应变。
[0006]需要在用于制备纳米结构膜时具 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种纳米结构群,其包含纳米晶体核和至少一个壳,所述壳具有结合至其表面的羧酸锌和卤化锌。2.根据权利要求1所述的纳米结构,其中所述纳米晶体核选自Si、Ge、Sn、Se、Te、B、C、P、BN、BP、BAs、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdSeZn、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、BeS、BeSe、BeTe、MgS、MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、CuF、CuCl、CuBr、CuI、Si3N4、Ge3N4、Al2O3、Al2CO及其组合。3.根据权利要求1或2所述的纳米结构,其中所述纳米晶体核包含InP。4.根据权利要求1或2所述的纳米结构,其中所述纳米晶体核包含CdSe。5.根据权利要求1
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4中任一项所述的纳米结构,其中所述至少一个壳是ZnSe。6.根据权利要求1
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5中任一项所述的纳米结构,其中所述至少一个壳的厚度为约1nm。7.根据权利要求1
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6中任一项所述的纳米结构,其中所述纳米结构的直径为约4
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12nm。8.根据权利要求1
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7中任一项所述的纳米结构,其中所述纳米结构是InP/ZnSe核
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壳纳米结构。9.根据权利要求1
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7中任一项所述的纳米结构,其中所述纳米结构是CdSe/ZnSe核
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壳纳米结构。10.根据权利要求1
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9中任一项所述的纳米结构,其中所述纳米结构具有小于40nm的半峰全宽(FWHM)发射光谱。11.根据权利要求1
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10中任一项所述的纳米结构,其中所述纳米结构具有38
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39nm的FWHM发射光谱。12.根据权利要求1
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11中任一项所述的纳米结构,其中所述纳米结构具有大于80%的量子产率百分比(QY%)。13.根据权利要求1
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12中任一项所述的纳米结构,其中所述纳米结构的QY%为85
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88%。14.根据权利要求1
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13中任一项所述的纳米结构,其中所述羧酸锌是乙酸锌。15.根据权利要求14所述的纳米结构,其中所述羧酸锌是二水合乙酸锌。16.根据权利要求1
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15中任一项所述的纳米结构,其中所述卤化锌是氟化锌。17.一种制备根据权利要求1
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16中任一项所述的纳米结构的方法,所述方法包括:(a)在惰性气氛下将核
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壳纳米结构在溶剂中与羧酸锌和卤化锌混合;(b)将(a)中的混合物的温度升高至约90℃至约350℃的温度;以及(c)分离表面结合有乙酸锌和氟化锌的核
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