工件容器系统技术方案

本发明专利技术公开了一种包括储存组件的工件容器系统。所述储存组件包括一个座构件和一个座盖。所述座构件限定有工件接收区域，所述工件接收区域包围所述座构件的几何中心区域，所述座构件设置为接收工件；所述座构件包括下部扩散诱导组件，所述下部扩散诱导部件在所述工件的平面投影内且偏离所述几何中心区域。所述座盖构造成在围绕所述工件接收区域的周边区域接合所述座构件，以协同地形成用于容纳所述工件的外壳；其中，所述座盖包括上部扩散诱导部件，所述上部扩散诱导部件被设置在所述工件的平面投影上方，并与所述座构件的所述几何中心区域投影重叠。区域投影重叠。区域投影重叠。

【技术实现步骤摘要】
工件容器系统
相关申请的交叉引用
[0001]本申请要求在2021年2月5日提交的第17168207号美国申请、2021年3月30日提交的第17216724号美国申请、和在2020年9月30日提交的台湾专利申请第109134304号的权益，在此通过引用将其结合本文并作为本说明书的一部分。


[0002]本公开涉及用于储存、转运、运输和处理易碎品(诸如光掩模、掩模版和晶圆)的容器，并且具体地涉及用于储存、转运、运输和处理用于极紫外(extreme ultraviolet,EUV)光刻工艺的掩模版的保持系统。

技术介绍

[0003]在半导体工业中，工件容器(例如，光掩模/掩模版固持器)随着其有效载荷的高精度要求而发展，以满足对工件保护免受潜在环境危害的更高水平的要求。
[0004]例如，新一代的掩模版保持件有时配备有双容器结构，该双容器结构包括用于接收/储存掩模版的储存组件(例如，内盒单元)和用于容纳/运输该储存组件的运输组件(例如，外盒单元)。在运输期间，掩模版可包装在储存组件内。出于储存目的，可将其中容纳掩模版的容器系统(例如，在大气环境下由机器人)运送至外盒开启器。此后，该运输组件可以被该开启器打开以允许从中取出该储存组件。然后，内盒可以被运送(例如，在真空环境下由机器人)到真空掩模版库并且储存在其中。为了执行光刻工艺，在采用所收容的掩模版的后续曝光工艺之前，储存组件可在到达曝光装置内的指定位置时打开。
[0005]然而，当使用容器系统来储存/运输工件时，在储存组件内部可能存在颗粒污染物、气相污染物(例如，脱气或湿气)或空气传播的分子污染物(airborne molecular contaminants，AMC)。污染物可能不利地影响所接收的工件。因此，需要一种用于容器系统的污染控制机制。

技术实现思路

[0006]因而，本专利技术的一方面提供了一种包括储存组件的工件容器系统。该储存组件包括一个座构件和一个座盖。所述座构件限定有工件接收区域，所述工件接收区域包围所述座构件的几何中心区域，所述座构件设置为接收工件；所述座构件包括下部扩散诱导组件，所述下部扩散诱导部件在所述工件的平面投影内且偏离所述几何中心区域。所述座盖构造成在围绕所述工件接收区域的周边区域接合所述座构件，以协同地形成用于容纳所述工件的外壳；其中，所述座盖包括上部扩散诱导部件，所述上部扩散诱导部件被设置在所述工件的平面投影上方，并与所述座构件的所述几何中心区域投影重叠。
[0007]在一些实施例中，所述上部扩散诱导组件具有与所述座盖的几何中心对准的几何中心。
[0008]在一些实施例中，所述上部扩散诱导组件包括上部过滤盖和上过滤膜，所述上过
滤膜被构造成由所述上过滤盖保持在所述座盖上。所述上过滤盖布置成使流体能够进入所述上过滤膜。所述上过滤盖的中心区域不高于所述座盖的外表面。
[0009]在一些实施例中，所述上过滤盖还包括保持座，所述保持座被构造成接收上盖保持构件。所述保持座具有比座盖的外表面高的上表面。
[0010]在一些实施例中，所述保持座被配置成同时偏离包括所述座盖的两条对称轴的区域。
[0011]在一些实施例中，所述对称轴中的一条包括所述座盖的垂直平分线。
[0012]在一些实施例中，所述对称轴中的一条包括所述座盖的对角线。
[0013]在一些实施例中，该上过滤膜的大小是该工件的平面面积的至少25％。
[0014]在一些实施例中，所述下部扩散诱导组件包括扩散端口组件，所述扩散端口组件围绕所述座构件的所述几何中心区域布置在所述工件接收区域中。所述扩散端口组件包括下过滤盖、由所述下过滤盖保持的下过滤膜以及下盖保持构件。所述上部扩散诱导组件设置有上过滤膜，所述上过滤膜具有与所述下过滤膜不同的材料组成。
[0015]在一些实施例中，所述下过滤膜不含氟成分。
[0016]因而，本专利技术的一个方面提供了一种包括储存组件的工件容器系统。所述储存组件包括座构件和座盖，所述座构件限定有工件接收区域，所述工件接收区域包围所述座构件的几何中心区域，所述座构件设置为接收工件，所述座盖构造成在围绕所述工件接收区域的周边区域接合所述座构件，以协同地形成用于容纳所述工件的外壳。所述座盖包括上部扩散诱导组件，所述上部扩散诱导组件被设置在所述工件的平面投影上方。所述上部扩散诱导组件具有与所述座盖的几何中心对齐的几何中心。
[0017]在一些实施例中，所述上部扩散诱导组件包括上部过滤盖和上过滤膜，所述上过滤膜被构造成由所述上过滤盖保持在所述座盖上。所述上过滤盖布置成使流体能够进入所述上过滤膜。所述上过滤盖的中心区域不高于所述座盖的外表面。
[0018]在一些实施例中，所述上过滤盖还包括保持座，所述保持座被构造成与所述座盖建立保持接合。所述保持座被配置成同时偏离包括所述座盖的两条对称轴的区域。
[0019]在一些实施例中，所述对称轴中的一条包括所述座盖的垂直平分线。
[0020]在一些实施例中，所述对称轴中的一条包括所述座盖的对角线。
[0021]在一些实施例中，所述保持座具有比座盖的外表面高的上表面。
[0022]在一些实施例中，所述上过滤膜的大小是所述基板的平面面积的至少25％。
[0023]在一些实施例中，所述座构件包括下部扩散诱导组件，所述下部扩散诱导组件在所述工件的平面投影内且偏离所述几何中心区域。所述下部扩散诱导组件包括扩散端口组件，所述扩散端口组件围绕所述座构件的所述几何中心区域布置在所述工件接收区域中。所述扩散端口组件包括下过滤盖、由所述下过滤盖保持的下过滤膜以及下盖保持构件。所述上部扩散诱导组件设置有上过滤膜，所述上过滤膜具有与所述下过滤膜不同的材料组成。
[0024]在一些实施例中，所述下过滤膜基本上不含氟成分。
[0025]在一些实施例中，该系统还包括运输组件，所述运输组件用于接收所述储存组件。有益效果
[0026]根据本专利技术，可以提供储存/运输工件时使工件免受外部污染物影响的工件容器
系统。
附图说明
[0027]为了可以详细理解本公开所叙述的特征的方式，可以参考实施例来获得上文简要概述的本公开的更具体的描述，这些实施例中的部分在附图中示出。然而，应注意的是，附图仅展示了本公开的典型实施例，因此不应被视为对其范围的限制，因为本公开可以允许其他同样有效的实施例。
[0028]图1示出了根据本公开的一些实施例的工件容器系统的示意性剖面图。
[0029]图2A示出了根据本公开的一些实施例的工件容器系统的等距视图。
[0030]图2B示出了根据本公开的一些实施例的工件容器系统的示意性剖面图。
[0031]图3示出了根据本公开的一些实施例的座构件的等距分解图。
[0032]图4示出了根据本公开的一些实施例的座盖的部件的等距分解图。
[0033]图5示出了根据本公开的一些实施例的座盖的俯视图。
[0034]图6A示出了本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种工件容器系统，其特征在于，包括：储存组件，其包括座构件和座盖，所述座构件限定有工件接收区域，所述工件接收区域包围所述座构件的几何中心区域，所述座构件设置为接收工件，所述座构件包括下部扩散诱导组件，所述下部扩散诱导部件在所述工件的平面投影内且偏离所述几何中心区域；所述座盖构造成在围绕所述工件接收区域的周边区域接合所述座构件，以协同地形成用于容纳所述工件的外壳，其中，所述座盖包括上部扩散诱导部件，所述上部扩散诱导部件被设置在所述工件的平面投影上方，并与所述座构件的所述几何中心区域投影重叠。2.根据权利要求1所述的工件容器系统，其特征在于，所述上部扩散诱导部件具有与所述座盖的几何中心对齐的几何中心。3.根据权利要求2所述的工件容器系统，其特征在于，所述上部扩散诱导部件包括上部过滤盖和上过滤膜，所述上过滤膜被构造成由所述上过滤盖保持在所述座盖上，所述上过滤盖布置成使流体能够进入所述上过滤膜，所述上过滤盖的中心区域不高于所述座盖的外表面。4.根据权利要求3所述的工件容器系统，其特征在于，所述上过滤盖还包括保持座，所述保持座被构造成接收上盖保持构件，所述保持座具有比所述座盖的外表面高的上表面。5.根据权利要求4所述的工件容器系统，其特征在于，所述保持座被配置成同时偏离包括所述座盖的两条对称轴的区域。6.根据权利要求5所述的工件容器系统，其特征在于，所述对称轴中的一条包括所述座盖的垂直平分线。7.根据权利要求5所述的工件容器系统，其特征在于，所述对称轴中的一条包括所述座盖的对角线。8.根据权利要求3所述的工件容器系统，其特征在于，所述上过滤膜的大小是所述工件的平面面积的至少25％。9.根据权利要求3所述的工件容器系统，其特征在于，所述下部扩散诱导组件包括扩散端口组件，所述扩散端口组件围绕所述座构件的所述几何中心区域布置在所述工件接收区域中；所述扩散端口组件包括下过滤盖、由所述下过滤盖保持的下过滤膜以及下盖保持构件，所述上部扩散诱导组件设置有上过滤膜，所述上过滤膜具有与所述下过滤膜不同的材料组成。10.根据权利要求9所述的工件容器系统，其特征在于，所述下过滤膜不含氟成分。11.一种工件容器系统，其特征在于，包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱铭乾，庄家和，温星闵，薛新民，林书弘，
申请(专利权)人：家登精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：