工件容器系统技术方案

本文公开了包括存储组件的工件容器系统，所述存储组件包括座构件。所述座构件具有存储部分，所述存储部分限定通过其几何中心区域的纵向轴线，所述存储部分设置有工件接收区域，所述工件接收区域包含所述几何中心区域并且经配置以接收工件。该座构件具有一对侧翼部分，该对侧翼部分沿着该纵向轴线被设置在该存储部分的相反侧上，每个侧翼部分具有比该存储部分的厚度更薄的厚度。存储部分具有扩散诱导组件，所述扩散诱导组件在工件接收区域中且与所述几何中心区域错位。所述几何中心区域错位。所述几何中心区域错位。

【技术实现步骤摘要】
工件容器系统
相关申请的交叉引用
[0001]本申请要求于2020年9月30日提交的中国台湾专利申请号109134304及2021 年2月5日提交的美国专利申请号17/168207的权益，所述申请在此通过引用并入本文并且构成说明书的一部分。


[0002]本案涉及用于存储、运输、航运和处理诸如光掩模、掩模版和晶片等易碎物体的容器，并且尤其涉及用于存储、运输、航运和处理掩模版的保持固持系统，该掩模版用于极紫外(extreme ultraviolet,EUV)光刻工艺的处理。

技术介绍

[0003]在半导体行业中，随着工件容器(例如，光掩模/掩模版保持器掩模版固持器)有效载荷的精度要求的提高，工件容器得到了发展，以满足提高工件保护水平使其免受潜在环境危害的需求。
[0004]例如，新一代的掩模版(reticle)固持器有时设置有双盒结构，该双盒结构包括用于接收/储存掩模版的储存组件(例如，内盒单元)和用于容纳/ 运输该储存组件的运输组件(例如，外盒单元)。在运输期间，掩模版可被包装在存储组件内。出于存储目的，可将其中容纳掩模版的容器系统(例如，在大气环境下由机器人)运送至外开盒器。此后，该运输组件可以被该开盒器打开以便允许从中取出该储存组件。然后，内盒可以(例如，在真空环境下由机器人)被运送到真空掩模版库并且存储在其中。为了执行光刻工艺，当到达曝光设备内部的指定位置时，在使用包含被收容的掩模版进行后续曝光过程之前，就可以打开内盒。
[0005]然而，当使用该容器系统来储存/运输工件时，在该储存组件内部可能存在颗粒污染物、气相污染物(例如，废气或湿气)、或空气传播的分子污染物(airborne molecular contaminants，AMC)。污染物可能不利地影响所接收的工件。因此，需要一种用于容器系统的污染控制机制。
附图说明
[0006]为了可以详细地理解本案的所述特征，可以通过参考实施例来对以上简要概述的本案进行更详细的描述，其中一些实施例在附图中示出。然而，应当注意，附图仅示出了本案的典型实施例，因此不应被认为是对其范围的限制，因为本案可以允许其他同等有效的实施例。
[0007]图1示出了根据本案的一些实施例的工件容器系统的示例性横截面图；
[0008]图2示出了根据本案的一些实施例的工件容器系统的等距视图；
[0009]图3示出了根据本案的一些实施例的座构件的等距分解视图；
[0010]图4a示出了根据本案的一些实施例的座构件的底视图；
[0011]图4b示出了根据本案的一些实施例的座构件的示例性横截面图；
[0012]图5a示出了根据本案的一些实施例的座构件的仰视图；
[0013]图5b示出了根据本案的一些实施例的座构件的示例性横截面视图；
[0014]图6a示出了根据本案的一些实施例的座构件的俯视图；
[0015]图6b示出了根据本案的一些实施例的座构件的示例性横截面视图；
[0016]图7示出了根据本案的一些实施例的座盖的等距分解视图；
[0017]图8a至图8e分别示出了根据本案的一些实施例的座构件的示意图；
[0018]图9a示出了根据本案的一些实施例的座构件的示意图；
[0019]图9b示出了根据本案的一些实施例的座构件的示例性横截面视图；
[0020]图10a至图10b分别示出了根据本案的一些实施例的座构件的示例性横截面图；
[0021]图11a至图11b分别示出了根据本案的一些实施例的座盖的示意图；
[0022]图12a至图12b分别示出了根据本案的一些实施例的座构件的示意图；并且
[0023]图13示出了根据本案的一些实施例的座构件的示意图。
[0024]然而，应当注意，附图仅示出了本案的示例性实施例，因此不应被认为是对其范围的限制，因为本案可以允许其他同等有效的实施例。
[0025]应该注意的是，这些附图旨在示出在某些示例实施例中使用的方法、结构和/或材料的一般特性，并且对以下提供的书面描述进行补充。然而，这些附图不是按比例绘制的，可能无法精确地反映任何给定实施例的精确结构或性能特性，并且不应被解释为限定或限制示例实施例所涵盖的值或特性的范围。例如，为了清楚起见，各层、区域和/或结构元件的相对厚度和定位可能被缩小或放大。在各个附图中使用相似或相同的附图标记旨在指示存在相似或相同的元件或特征。
具体实施方式
[0026]现在将在下文中参考附图更充分地描述本案，在附图中示出了本案的示例性实施例。然而，本案可以以许多不同的形式来实现，并且不应被理解为限于本文所述的示例性实施例。相反，提供这些示例性实施例使得本案变得透彻且完整，并向本领域技术人员充分传达本案的范围。在全文中，相同的附图标记指代相同的元件。
[0027]本文使用的术语仅用于描述特定示例性实施例，而非旨在限制本公开。如本文所使用的，单数形式“一”、“一个”和“该”也旨在包括复数形式，除非上下文另外明确指出。还将理解，在本文中使用时，术语“包括”、“包含”或“具有”指定存在所述特征、区域、整数、步骤、操作、元件和/或部件，但是不排除存在或添加一个或多个其他特征、区域、整数、步骤、操作、元件、部件和/或它们的组。
[0028]除非另有说明，否则本文中使用的全部术语(包括科技术语)的含义与本公开所属领域的普通技术人员通常所理解的含义相同。还将理解的是，术语(诸如在常用词典中定义的术语)应被解释为其含义与其在相关领域和本公开的上下文中的含义一致，并且不会在理想化或过于正式的意义上来解释，除非本文这样明确定义。
[0029]将结合附图1至13对示例性实施例进行描述。将参照附图对本公开进行详细描述，其中所描绘的元件不必按比例示出，并且其中相同或相似的元件通过几幅视图中相同或相似的附图标记或者相同或相似的术语表示。
[0030]图1示出了根据本案的一些实施例的工件容器系统的示例性横截面图。为了说明
的简单和清楚起见，该示例性设备的一些细节/子构件未在本图中明确地标记/示出。
[0031]参照图1，示例性工件容器系统100包括被配置成用于在其中储存工件(例如，掩模版)的内盒(例如，储存组件120)以及经配置以用于容纳储存组件120的外盒(例如，运输组件110)。
[0032]在示出的实施例中，存储组件120包括座构件122和座盖121，座盖121 被配置为接合座构件122，以便在封闭时配合地形成用于容纳工件(例如，掩模版R1)的内部空间。
[0033]示例性座构件122被配置成接收/支撑所存储的工件。座构件122包括存储部125，该存储部125设置有用于接收工件的工件接收表面(例如工件容纳区域122a)。在所示实施例中，座构件122还设置有布置在存储部分125的顶面上用于支撑掩模版R1的支撑元件(例如，支撑柱124)。座构件122还被配置为通过半导体设备的机械臂从一个室传送到另一个室。例如，座构件122本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种工件容器系统，其特征在于，所述工件容器系统包括：储存组件，所述储存组件包括：座构件，所述座构件具有：储存部分，所述储存部分限定穿过其几何中心区域的纵向轴线、配备有工件接收区域，所述工件接收区域包含所述几何中心区域并且经配置以用于接收工件，和一对侧翼部分，所述侧翼部分沿着所述纵向轴线被布置在所述存储部分的相反侧上，每个所述侧翼部分具有比所述存储部分的厚度更薄的厚度，其中，所述存储部分具有扩散诱导组件，所述扩散诱导组件位于所述工件接收区域中且与所述几何中心区域错位。2.根据权利要求1所述的工件容器系统，其特征在于，所述工件接收区域经配置以接收具有图案区域的基板；并且其中，所述扩散诱导组件被设置在所述图案区域的平面投影内。3.根据权利要求2所述的工件容器系统，其特征在于，其中，所述扩散诱导组件包括多个扩散端口组件，所述多个扩散端口组件布置在所述工件接收区域中且在所述储存部分的所述几何中心区域周围。4.根据权利要求3所述的工件容器系统，其特征在于，所述扩散端口组件包括过滤器盖和盖固持构件，其中，所述过滤器盖和所述盖固持构件在组装时保持与所述座构件的外表面基本齐平。5.根据权利要求4所述的工件容器系统，其特征在于，所述扩散端口组件进一步包括过滤膜，所述过滤膜经配置以由所述过滤器盖固持，其中所述过滤膜不含氟成分。6.根据权利要求3所述的工件容器系统，其特征在于，所述扩散端口组件中的至少一个扩散端口组件被布置在所述存储部分的所述几何中心区域周围的相应象限区域。7.根据权利要求6所述的工件容器系统，其特征在于，所述座构件的存储部分设置有多个重量剃削区域，所述多个重量剃削区域分别被布置在所述几何中心区域周围的每个所述象限区域，其中，所述座构件在所述重量剃削区域中的厚度比在所述几何中心区域中的厚度薄，其中，所述扩散端口组件分别设置在所述重量剃削区域。8.根据权利要求6所述的工件容器系统，其特征在于，所述座构件的存储部分设置有与所述图案区域的投影相对应地布置的重量剃削区域，其中，所述扩散端口组件布置在所述重量剃削区域。9.根据权利要求2所述的容器系统，其特征在于，所述座构件设置有沟槽结构，所述沟槽结构具有封闭所述工件接收区域的平面环形轮廓。10.根据权利要求9所述的容器系统，其特征在于，所述座构件进一步设置有多个定位结构，所述多个定位结构在所述工件接收区域的相应转角周围突出地布置，其中，所述沟槽结构包括多个引导沟槽段，所述多...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱铭乾，庄家和，薛新民，温星闵，林书弘，
申请(专利权)人：家登精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：