具有防碰撞间隙结构的光掩模盒制造技术

本发明专利技术提供一种具有防碰撞间隙结构的光掩模盒，用以容置一光掩模。光掩模盒包含：一基座及多个支撑装置。支撑装置设于该基座上，支撑该光掩模，该光掩模的一底面的一外围区域与该基座的一朝上顶面之间形成一第一间隙，该基座的底面的一中央区域与该基座的朝上顶面之间形成一第二间隙，其中该中央区域受该外围区域围绕，该第二间隙大于第一间隙。本发明专利技术的光掩模盒，通过形成第一间隙和第二间隙，使该光掩模与该基座在互动的过程中光掩模被撞击或被刮伤的机率降低，以保护该光掩模，且第一间隙和第二间隙的配置，使该光掩模自该基座被拿起时不易引起严重的气流扰动使粒子附着于光掩模底面，以保护该光掩模图案区域不受到污染。染。染。

【技术实现步骤摘要】
具有防碰撞间隙结构的光掩模盒


[0001]本专利技术是关于一种防止光掩模与光掩模盒基座撞击或刮伤撞造成光掩模损坏，并保护光掩模的光掩模盒的技术。

技术介绍

[0002]目前极紫外光EUV(Extreme Ultraviolet)的工艺中，光掩模需要使用光掩模盒于运输及储存时保护该光掩模，以避免因碰撞或摩擦等产生微粒影响光掩模的洁净度，进而影响最终产品质量。
[0003]为防止光掩模受到污染，光掩模盒需要稳定地固定光掩模，以避免光掩模在光掩模盒中产生摩擦或位移造成损坏，因此光掩模与光掩模盒间的接触面积应越小越好，以避免光掩模与光掩模盒中的固定件或支撑件之间接触或摩擦造成损坏，且光掩模与光掩模盒之间需要保持适当的距离，以避免光掩模与光掩模盒两者碰触而损坏。
[0004]因此，如何制造一种光掩模盒中的基座与光掩模之间具有适当的间隙，以防止光掩模与基座的互动过程(如以机械手臂拿取、放置光掩模)中光掩模受到损伤或污染，为目前产业亟需解决的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种防止光掩模与基座撞击或刮本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光掩模盒，用以容置一光掩模，其特征在于，该光掩模盒包含：一基座；以及多个支撑装置，设于该基座上，支撑该光掩模，该光掩模的一底面的一外围区域与该基座的一朝上顶面之间形成一第一间隙，该基座的底面的一中央区域与该基座的朝上顶面之间形成一第二间隙，其中该中央区域受该外围区域围绕，该第二间隙大于第一间隙。2.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，该基座具有环绕该朝上顶面的一支撑面，该支撑面为一环状平面。3.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，该第一间隙为0.18至0.30mm。4.如权利要求1所述的光掩模盒，其特征在于，该第二间隙的为1.50mm以上。5.如权利要求1所述的光掩模...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱铭乾，庄家和，李怡萱，温星闵，薛新民，
申请(专利权)人：家登精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：