一种基于激光直写光刻技术的微棱镜阵列制造方法技术

本发明专利技术提出了一种基于激光直写光刻技术的微棱镜阵列制造方法，包括以下步骤：步骤a：选择硅片作为衬底；步骤b：在硅衬底上旋涂光刻胶，并前烘；步骤c：将微棱镜阵列的灰度图输入激光直写设备，利用激光直写光刻技术对所述光刻胶进行曝光；步骤d：运用显影液对曝光后的光刻胶进行显影，获得光刻胶微棱镜阵列；步骤e：在所述光刻胶微棱镜阵列上旋涂材料并烘烤；步骤f：对所述材料进行脱模，获得期望的微棱镜阵列。本发明专利技术使用激光直写光刻技术可以有效地制作出具有期望尺寸的微棱镜阵列，生产灵活，大大提高了产品的性能。以及，本发明专利技术使用光刻胶作为转运模板，可以有效地对光刻胶模板上的产品进行剥离，较为完整地保存二次转运模板。较为完整地保存二次转运模板。较为完整地保存二次转运模板。

【技术实现步骤摘要】
一种基于激光直写光刻技术的微棱镜阵列制造方法


[0001]本专利技术涉及微纳制造
，具体涉及一种基于激光直写光刻技术的微棱镜阵列制造方法。

技术介绍

[0002]微棱镜阵列作为一种功能性纳米薄膜在生活、工业、军事等领域发挥着越来越重要的作用。在LCD显示行业，通过运用微棱镜阵列，可以有效解决由液晶显示器中背光用发光二极管引起的发光亮度低和发光不均匀的问题。对于航空摄影远程摄像机，通过在相机中引入微棱镜阵列，可以有效地增加图片亮度以及分辨率。对于新型的Micro
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LED显示行业，微棱镜阵列可以有效地提高基于Micro
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LED的显示器亮度。
[0003]目前对于微棱镜阵列的加工方法主要有喷墨式、激光加工、微米级机械加工、化学刻蚀等方法。以上的加工方法都具有一定的局限性，难以大批量、低成本地制造微米甚至纳米级别的商业化微棱镜阵列。同时，以上方法也很难保证加工出具有纳米级期望尺寸的微棱镜阵列。因此，如何大批量制造具有纳米级期望尺寸的微棱镜阵列是本领域技术人员亟需解决的技术难题。<br/>
技术实现思路
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于激光直写光刻技术的微棱镜阵列制造方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤a：选择硅片作为衬底；步骤b：在硅衬底上旋涂光刻胶，并前烘；步骤c：将微棱镜阵列的灰度图输入激光直写设备，利用激光直写光刻技术对所述光刻胶进行曝光；步骤d：运用显影液对曝光后的光刻胶进行显影，获得光刻胶微棱镜阵列；步骤e：在所述光刻胶微棱镜阵列上旋涂材料并烘烤；步骤f：对所述材料进行脱模，获得期望的微棱镜阵列。2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤b中还包括：步骤b1：旋涂光刻胶前先根据微棱镜高度确定光刻胶的高度；步骤b2：根据光刻胶的高度选择光刻胶的旋涂速度。3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述步骤c中还包括：步骤c1：先确定微棱镜尺寸；步骤c2：根据微棱镜高度...

【专利技术属性】
技术研发人员：栾世奕，桂成群，宋毅，薛兆丰，
申请(专利权)人：矽万上海半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：