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本发明提出了一种基于激光直写光刻技术的微棱镜阵列制造方法，包括以下步骤：步骤a：选择硅片作为衬底；步骤b：在硅衬底上旋涂光刻胶，并前烘；步骤c：将微棱镜阵列的灰度图输入激光直写设备，利用激光直写光刻技术对所述光刻胶进行曝光；步骤d：运用显影...
该专利属于矽万（上海）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过矽万（上海）半导体科技有限公司授权不得商用。

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