【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及投影显示，尤其涉及一种基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法及投影幕布。
技术介绍
1、投影幕布广泛应用于会议室、指挥中心、教育机构、展厅等各种场合，但在实际使用过程中，投影幕布经常会受到强光环境的影响，尤其是明亮的环境，导致画面模糊、泛白，这种泛白现象会大大降低画面的对比度和亮度，造成画面内容丢失，严重影响用户体验。目前已有抗光幕布，可降低环境光对投影画面的干扰问题。但是，现有的抗光幕布存在增益和视场角矛盾，即增加增益会导致视角变窄，增加视角会导致增益降低。因此，亟需开发一种既有大视场角又有抗环境光效果的投影幕布。
技术实现思路
1、本专利技术为了解决现有技术的缺陷，本专利技术提出了一种基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法及投影幕布。
2、本专利技术的一个方面提出了一种基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，包括如下步骤：
3、步骤s1：制备微透镜阵列层，所述微透镜阵列层包括若干个随机位置分布、随机高度的凹透镜和凸透镜；
4、步骤...
【技术保护点】
1.一种基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，步骤S1中，进一步包括：
3.根据权利要求2所述的基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，步骤S11进一步包括：
4.根据权利要求3所述的基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，步骤S111中，所述编程工具为Python或Matlab软件。
5.根据权利要求3所述的基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，步骤S113中，所述凹...
【技术特征摘要】
1.一种基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，步骤s1中，进一步包括：
3.根据权利要求2所述的基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，步骤s11进一步包括：
4.根据权利要求3所述的基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，步骤s111中，所述编程工具为python或matlab软件。
5.根据权利要求3所述的基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，步骤s113中，所述凹透镜的深度和所述凸透镜的高度均在5um以内。
6.根据权利要求1所述的基于随机微凸凹透镜阵列的投影幕布制备方法，其特征在于，步骤s2中进一步包括：
7.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员：王德铭，陈硕，曹皓，
申请(专利权)人：矽万上海半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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