【技术实现步骤摘要】
一种六面包覆的扇出型芯片封装方法和封装结构
[0001]本专利技术涉及半导体封装
,更具体涉及一种类QFN/DFN外观的六面包覆的扇出型芯片封装方法和封装结构。
技术介绍
[0002]在市场需求的推动下,传统封装不断创新、演变,出现了各种新型的封装结构。随着电子产品及设备的高速化、小型化、系统化、低成本化的要求不断提高,传统封装的局限性也越来越突出。传统封装采用相对较长引线互联的方式,即使用金属丝(金线、铝线等),利用热压或超声能源,实现微电子器件中固态电路内部互连接线的连接,完成芯片与电路或引线框架之间的连接,25μm引线的拱丝长度达到了5mm,存在传输速率慢、封装体积大与传输不稳定等缺陷。
[0003]现有的封装结构的机械强度不足,对芯片的保护不够,且在封装后进行单片切割时,芯片容易损坏,切割后的良品率低。在进行传统塑封时,熔融状态的塑封料与芯片相接触时,芯片受到冲击载荷导致芯片整体偏移,从而影响产品后续的精确度。
技术实现思路
[0004]为了解决上述问题,本专利技术提供了一种六面包覆的扇 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种六面包覆的扇出型芯片封装方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:将来料晶圆背面研磨至指定厚度,切割成单颗芯片(1),取载体圆片(3)并在载体圆片(3)上贴合临时键合膜(2),使用倒装设备,将芯片(1)倒装在载体圆片(3)上;步骤二:用塑封材料进行塑封在载体圆片(3)形成塑封层(4),塑封层(4)填充各芯片(1)之间的间隙,且塑封层(4)覆盖芯片(1)的背面和四周侧面;载体圆片(3)的正面依次叠有临时键合膜(2)、芯片(1)、塑封层(4),形成重构晶圆;步骤三:在塑封层(4)上粘合支撑层;步骤四:通过解键合将载体圆片(3)和临时键合膜(2)从重构晶圆上脱粘并剥离出来;步骤五:将步骤四中无载体圆片(3)和临时键合膜(2)的重构晶圆倒置,在重构晶圆的芯片(1)上方涂上光刻胶,用掩膜版进行光刻或激光工艺,开出图形开口,形成再钝化层(6);再次涂上光阻层,用掩膜版进行光刻或激光工艺,开出金属层图形开口;在金属层图形开口内电镀,形成再布线金属层(7),并形成金属凸块(9);再钝化层(6)覆盖芯片(1)正面和塑封层(4)正面,再布线金属层(7)的一端与压区(11)接触,再布线金属层(7)的另一端与金属凸块(9)连接;步骤六:用塑封材料进行塑封在芯片(1)正面的再钝化层(6)上形成再保护层(8);步骤七:研磨再保护层(8)的表面直至露出金属凸块(9)的端面,研磨完成之后进行单片切割形成若干颗独立封装体。2.根据权利要求1所述的六面包覆的扇出型芯片封装方法,其特征在于,所述步骤三中,在塑封层(4)上粘合支撑层后,可将支撑层减薄至指定厚度,然后在支撑层上涂覆背胶形成背胶层,支撑层为支撑硅层。3.根据权利要求1所述的六面包覆的扇出型芯片封装方法,其特征在于,所述步骤一中,在将来料晶圆背面研磨至指定厚度切...
【专利技术属性】
技术研发人员:张中,谢雨龙,龙欣江,张国栋,梅万元,
申请(专利权)人:江苏芯德半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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