UV光检测结构及UV处理设备制造技术

本发明专利技术公开了一种UV光检测结构及UV处理设备，所述UV光检测结构包括机体和设于所述机体内部的UV光源和光反射器，所述光反射器用于反射所述UV光源发出的UV光，以使所述UV光照射由所述光发射器所限定的工作区域，所述机体内部具有位于所述工作区域外侧的间隙空间，并具有用于将UV光源的部分余光从边侧漏出至所述间隙空间的透光结构；所述机体设有光传感器，所述光传感器的检测端位于所述间隙空间内，以检测所述UV光源从所述透光结构漏出至所述间隙空间的余光。该检测结构在不干扰UV光处理效果以及不影响UV处理设备内部空间布局的前提下，可以实时监测UV灯的光照情况，获得光学相关参数，而且，结构简单、易于安装，便于进行后期维护。期维护。期维护。

【技术实现步骤摘要】
UV光检测结构及UV处理设备


[0001]本专利技术涉及UV处理设备
，尤其是UV处理设备的UV光学测量装置。本专利技术还涉及设有所述UV光学测量装置的UV处理设备。

技术介绍

[0002]晶圆是制造半导体器件的基础性原材料。高纯度的半导体经过拉晶、切片等工序制备成为晶圆，晶圆经过一系列半导体制造工艺形成极微小的电路结构，再经切割、封装、测试成为芯片，广泛应用到各类电子设备当中。
[0003]在晶圆的加工处理过程中，通常会用到UV处理设备。例如在晶圆表面镀膜之后，通过采用特定波长和强度的UV光进行照射，可以使膜的密度、硬度等机能发生变化，从而获得设计所需的某种性能，以满足后续处理工艺的要求。
[0004]随着UV处理设备的长期运行，作为光源的UV灯会有损耗，为了保证处理效果，必须随着UV灯的损耗，逐渐加大功率，以保证光照强度，因此，UV光的信息是UV处理工艺过程中的一个重要参照，非常有必要对其进行检测。
[0005]一般能够想到的UV光检测方式，是直接将传感器安装在UV灯的旁侧，或者，将传感器安装在从UV灯到待处理晶圆的反射腔内。这两种检测方式虽然都能够获得UV光信息，但是，由于传感器过于深入UV处理设备，位于UV光工作范围内的传输路径上，会干扰UV光的反射、分布，进而影响最终的光处理效果，而且，为了安装传感器和输出检测信号，会挤占其他组成部件的位置，过多的占用UV处理设备的内部空间，导致内部结构过于复杂，增加内部空间布局的难度，也不便于进行组装和检修。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种UV光检测结构。该检测结构在不干扰UV光处理效果以及不影响UV处理设备内部空间布局的前提下，可以实时监测UV灯的光照情况，获得光学相关参数，而且，结构简单、易于安装，便于进行后期维护。
[0007]本专利技术的另一目的在于提供一种设有所述UV光检测结构的UV处理设备。
[0008]为实现上述目的，本专利技术提供一种UV光检测结构，包括机体和设于所述机体内部的UV光源和光反射器，所述光反射器用于反射所述UV光源发出的UV光，以使所述UV光照射由所述光发射器所限定的工作区域，所述机体内部具有位于所述工作区域外侧的间隙空间，并具有用于将UV光源的部分余光从边侧漏出至所述间隙空间的透光结构；所述机体设有光传感器，所述光传感器的检测端位于所述间隙空间内，以检测所述UV光源从所述透光结构漏出至所述间隙空间的余光。
[0009]可选地，所述机体设有用于容纳所述光反射器的腔室，所述腔室的内壁与所述光反射器的外壁之间形成所述间隙空间。
[0010]可选地，所述光反射器包括主反射器和二次反射器；所述主反射器罩扣于所述UV光源的上方，所述二次反射器位于所述UV光源的下方，所述腔室的内壁与所述二次反射器
的外壁之间形成所述间隙空间。
[0011]可选地，在所述UV光源的余光漏出路径上，所述透光结构包括所述主反射器与二次反射器相间隔的区域以及位于所述二次反射器上的漏光部位。
[0012]可选地，所述漏光部位包括形成在所述二次反射器外壁上的漏光槽，所述漏光槽的底部为斜面，所述斜面沿所述UV光源的余光照射方向自上而下地向外倾斜。
[0013]可选地，所述光传感器通过传感器定位机构安装于所述腔室的内壁；所述传感器定位机构包括安装板，所述安装板固定于所述腔室的内壁上并设有光传感器安装孔，所述光传感器的检测端穿过所述光传感器安装孔伸入所述间隙空间内，所述光传感器的另一端位于所述机体的外部。
[0014]可选地，所述传感器定位机构还包括柔性套和压板，所述柔性套和压板均设有供所述光传感器穿过的通孔；所述光传感器安装孔的外端设有扩孔段和锥形段，所述柔性套位于所述扩孔段和锥形段内，所述压板连接于所述安装板并压缩所述柔性套，以使所述柔性套收紧，将所述光传感器与安装板固定在一起。
[0015]可选地，相对于所述机体，所述光传感器安装孔为斜向下的通孔，所述光传感器以斜向下的姿态伸入所述间隙空间。
[0016]可选地，所述间隙空间内设有反射镜，以将所述UV光源从所述透光结构漏出至所述间隙空间的余光反射至所述光传感器的检测端。
[0017]可选地，所述反射镜安装于反射镜支架，所述反射镜支架固定于所述安装板的内侧。
[0018]可选地，所述光传感器包括至少两个不同波长范围的光传感器。
[0019]为实现上述另一目的，本专利技术提供一种UV处理设备，用于通过UV光处理晶圆表面的镀膜，其设有UV光照射系统，所述UV光照射系统具有上述任一项所述的UV光检测结构。
[0020]本专利技术所提供UV光检测结构，在工作区域外侧设计有间隙空间，同时在机体内部设计有透光结构，通过透光结构可以将UV光源的部分余光从边侧漏出至间隙空间，进而可以通过检测端位于间隙空间内光传感器对漏出至间隙空间的余光进行检测，实时监测UV灯的光照情况，获得所需的光照强度等光学相关参数。由于光传感器不需要设置在UV光源的旁侧，也不需要设置在工作区域内，而是可以安装在机体的侧壁上，因此不会干扰UV光的照射和反射，也不会过多地占用内部空间，基本上不影响UV处理设备的内部空间布局，具有结构简单、易于安装，便于进行后期维护等有益效果。
[0021]本专利技术所提供的UV处理设备设有所述UV光检测结构，由于所述UV光检测结构具有上述技术效果，则设有该UV光检测结构的UV处理设备也应具有相应的技术效果。
附图说明
[0022]图1为本专利技术实施例公开的一种UV光检测结构的示意图；
[0023]图2为图1中所示的反射镜通过反射镜支架固定于安装板的局部示意图；
[0024]图3为图2的A向视图。
[0025]图中：
[0026]1.机体2.UV光源31.主反射器32.二次反射器321.漏光槽4.腔室5.间隙空间6.UV光工作区域7.光传感器8.安装板9.柔性套10.压板11.反射镜12.反射镜支架
具体实施方式
[0027]为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步的详细说明。
[0028]在本文中，“上、下、左、右”等用语是基于附图所示的位置关系而确立的，根据附图的不同，相应的位置关系也有可能随之发生变化，说明书文字有对方向定义的部分，优先采用文字定义的方向，因此，并不能将其理解为对保护范围的绝对限定；而且，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个与另一个具有相同名称的部件区分开来，而不一定要求或者暗示这些部件之间存在任何这种实际的关系或者顺序。
[0029]如图1所示，在一种具体实施例中，本专利技术所提供的UV光检测结构，主要由机体1和设于机体内部的UV光源2和光反射器等部件组成，机体1设有用于容纳光反射器的腔室4，光反射器的作用是反射UV光源2发出的UV光，以使UV光向下照射由光发射器所限定的工作区域。
[0030]具体地，光反射器分为主反射器31和二次反射器32，主反射器3本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.UV光检测结构，包括机体和设于所述机体内部的UV光源和光反射器，所述光反射器用于反射所述UV光源发出的UV光，以使所述UV光照射由所述光发射器所限定的工作区域，其特征在于，所述机体内部具有位于所述工作区域外侧的间隙空间，并具有用于将UV光源的部分余光从边侧漏出至所述间隙空间的透光结构；所述机体设有光传感器，所述光传感器的检测端位于所述间隙空间内，以检测所述UV光源从所述透光结构漏出至所述间隙空间的余光。2.根据权利要求1所述的UV光检测结构，其特征在于，所述机体设有用于容纳所述光反射器的腔室，所述腔室的内壁与所述光反射器的外壁之间形成所述间隙空间。3.根据权利要求2所述的UV光检测结构，其特征在于，所述光反射器包括主反射器和二次反射器；所述主反射器罩扣于所述UV光源的上方，所述二次反射器位于所述UV光源的下方，所述腔室的内壁与所述二次反射器的外壁之间形成所述间隙空间。4.根据权利要求3所述的UV光检测结构，其特征在于，在所述UV光源的余光漏出路径上，所述透光结构包括所述主反射器与二次反射器相间隔的区域以及位于所述二次反射器上的漏光部位。5.根据权利要求4所述的UV光检测结构，其特征在于，所述漏光部位包括形成在所述二次反射器外壁上的漏光槽，所述漏光槽的底部为斜面，所述斜面沿所述UV光源的余光照射方向自上而下地向外倾斜。6.根据权利要求2所述的UV光检测结构，其特征在于，所述光传感器通过传感器定位机构安装于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭华强，李蓬勃，
申请(专利权)人：拓荆科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：