【技术实现步骤摘要】
一种光波导垂直端面位置定准方法
[0001]本专利技术属于激光定位
，具体涉及一种光波导垂直端面位置定准方法。
技术介绍
[0002]三维激光直写光刻技术近年来发展迅速，其具有三维可控加工、纳米级加工精度、加工速度快等优势，使得该技术在AR、汽车抬头显示、智能显示、精确医疗、美容、通信、微流控技术、微纳器件、航天航空、军工、新能源、新材料等领域发挥重要的作用。
[0003]激光直写系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描，在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，可以实现高速度、高精度、大运动范围的激光加工。以此技术依托研发的纳米级三维激光直写制造系统正逐步走向成熟，可用于制作超高精度三维模具、精确医疗器械、光芯片封装、微型光学器件、超材料等。
[0004]而借鉴金属打线的思路，采用激光纳米三维直写技术，将硅光芯片的出光口与单模光纤相连或者芯片与芯片之间的光子桥接方案，实现了不同光芯片、芯片与光纤之间的耦合互联。在光子桥接技术中起到连接作用的“线”不再是金属，而是利用激光直写制作的三维光波导。利用...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光波导垂直端面位置定准方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：测量探测光的定位界面与直写光的实际加工位置之间的偏差，并定义该偏差为offset_z偏差;S2：测量探测光的定位位置与实际位置之间的偏差，并定义该偏差为aberration_z偏差；S3：探测光的实际焦点值为探测值与offset_z偏差值、aberration_z偏差值之和。2.根据权利要求1所述的一种光波导垂直端面位置定准方法，其特征在于，所述步骤S1包括以下步骤：S11：在平整规则的玻璃片与加工物镜之间填充光刻胶；S12：稳定探测界面，重复位置处的界面定位偏差小于100纳米时，认定探测界面稳定；S13：在玻璃片端口处界面测定z轴方向坐标值Pz，在测定值Pz之下写光波导结构，所述的z轴方向为垂直玻璃片平面的方向；S14：采用显影液进行显影，将刻有光波导结构一面的玻璃片侧放，测量光波导结构与玻璃片上表面的实际偏差距离，该距离为offset_z偏差。3.根据权利要求2所述的一种光波导垂直端面位置定准方法，其特征在于，所述步骤S11中，在填充光刻胶之前，对平整规则的玻璃片进行超声清洗处理。4.根据权利要求3所述的一种光波导垂直端面位置定准方法，其特征在于，所述步骤S11中，所述的光刻胶为感光聚合物材料层，其折射率为1.48
ꢀ–ꢀ
1.6之间。...
【专利技术属性】
技术研发人员：史强，赵臻青，宋炳生，朱林伟，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。