一种实验室用可升降调节的靶装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及镀膜技术领域，公开了一种实验室用可升降调节的靶装置，包括固定安装于机体上的固定底座、固定安装于固定底座上方的真空腔、设于真空腔内部的支撑套和固定安装于支撑套上的靶材，所述支撑套内部固定安装有安装座，所述机体内腔下端部通过轴承连接有传动螺杆，所述传动螺杆下端部固定套接有第一齿轮，所述机体内腔右侧安装有伺服电机，所述伺服电机输出轴上固定套接有第二齿轮，所述支撑套外侧呈环形均匀设有限位件。本实用新型专利技术通过设置第一齿轮、第二齿轮、传动螺杆、支撑套、安装座和限位件，实现自动对靶材的高度调节，使得氩离子轰击靶材的距离发生变化，改变了靶材原子的溅射效果，自动化程度高。自动化程度高。自动化程度高。

【技术实现步骤摘要】
一种实验室用可升降调节的靶装置


[0001]本技术涉及镀膜技术
，具体为一种实验室用可升降调节的靶装置。

技术介绍

[0002]伴随着生产以及科研的发展和需要，超高真空系统技术以及发展成了一门热门技术。比如其在磁控溅射镀膜仪上的运用，磁控溅射镀膜仪是一种用于化学、材料科学、冶金工程技术、物理学领域的工艺试验仪器，可以制备纳米磁性薄膜，能加热。其通过电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。其通过更换不同的靶材(金、铂、铱、银、铜等)，以达到更细颗粒的涂层。同时通过智能的人机界面精确、简单、方便控制仪器，同时具有估算镀层厚度，实时显示真空度，溅射电流，设定溅射时间以及靶材的剩余情况。
[0003]靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。现有的带有靶材的靶装置，对于其高度的调节不便，无法根据实际需要，改变其溅射效果。为此，我们提出一种实验室用可升降调节的靶装置。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种实验室用可升降调节的靶装置，解决了上述
技术介绍
中存在的问题。
[0005]本技术提供一种实验室用可升降调节的靶装置，包括固定安装于机体上的固定底座、固定安装于固定底座上方的真空腔、设于真空腔内部的支撑套和固定安装于支撑套上的靶材，所述支撑套内部固定安装有安装座，所述机体内腔下端部通过轴承连接有传动螺杆，所述传动螺杆下端部固定套接有第一齿轮，所述机体内腔右侧安装有伺服电机，所述伺服电机输出轴上固定套接有第二齿轮，所述支撑套外侧呈环形均匀设有限位件。
[0006]优选的，所述第一齿轮和第二齿轮啮合，且第一齿轮和第二齿轮的中心线相互垂直。
[0007]优选的，所述限位件包括呈“L”字形的支架和导杆，所述限位件固定安装于机体上，所述导杆穿过支撑套。
[0008]优选的，所述支撑套和传动螺杆中心共线。
[0009]优选的，所述支撑套和机体之间设有密封圈。
[0010]优选的，所述支撑套呈倒“T”字形，所述支撑套下端部呈开口。
[0011]优选的，所述安装座与传动螺杆通过螺纹连接，所述传动螺杆上端部设有限位块。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该实验室用可升降调节的靶装置，通
过设置第一齿轮、第二齿轮、传动螺杆、支撑套、安装座和限位件，在伺服电机作用下，通过第一齿轮和第二齿轮的啮合作用，能够使得传动螺杆旋转，由于传动螺杆与安装座的螺纹连接方式，能够使得固定安装于安装座外侧的支撑套上下运动，实现自动对靶材的高度调节，使得氩离子轰击靶材的距离发生变化，改变了靶材原子的溅射效果，自动化程度高，调节方便，可以根据需要调整镀膜效果，适用范围广。
附图说明
[0013]图1为本技术结构的局部剖视示意图；
[0014]图2为本技术结构的主视局部示意图；
[0015]图3为本技术结构的局部A
‑
A剖视图。
[0016]图中：1、机体；2、真空腔；3、固定底座；4、支撑套；5、靶材；6、安装座；7、传动螺杆；8、第一齿轮；9、伺服电机；10、第二齿轮；11、限位件；12、限位块。
具体实施方式
[0017]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0018]请参阅图1
‑
3，本技术提供的一种实施例：一种实验室用可升降调节的靶装置，包括固定安装于机体1上的固定底座3、固定安装于固定底座3上方的真空腔2、设于真空腔2内部的支撑套4和固定安装于支撑套4上的靶材5，所述支撑套4内部固定安装有安装座6，其中，机体1为磁控溅射镀膜设备，而真空腔2用于提供实验仪器真空环境，所述支撑套4用于对靶材5的支撑和固定，通过调整支撑套4的高度，使得氩离子轰击靶材5的距离发生变化，改变了靶材原子的溅射效果，自动化程度高，所述安装座6与传动螺杆7通过螺纹连接，安装座6可以固定安装于支撑套4内部，且安装座6设于支撑套4的内部偏下的位置，所述传动螺杆7上端部设有限位块12。其中，限位块12设于安装座6的上方，设置限位块12和限位件11，能够起到支撑套4向下或者向上的运动限制，由于限位件11的限制，使得支撑套4的上下运动在一定的范围内，所述机体1内腔下端部通过轴承连接有传动螺杆7，其中，传动螺杆7的中心线与机体1的内腔下端面垂直，在传动螺杆7下端部固定套接的第一齿轮8为斜齿轮，将第一齿轮8和第二齿轮10设于机体1的内部，能够防止灰尘进入第一齿轮8和第二齿轮10的齿牙缝隙内，影响了第一齿轮8和第二齿轮10的啮合传动效果，通过伺服电机9的驱动作用，能够使得第二齿轮10旋转，其中，第二齿轮10作为主动轮，第一齿轮8为从动轮，伺服电机9通过导线与控制开关连接，控制开关可以固定安装于机体1的外侧面，方便操作人员的操控，伺服电机9可以正转也可以反转。在伺服电机9的带动作用下，第二齿轮10旋转，由于第二齿轮10与第一齿轮8的啮合作用，能够使得传动螺杆7旋转，通过限位件11的限制作用，支撑套4不会跟随传动螺杆7发生旋转，而仅可以沿着传动螺杆7的轴线方向，向上或者向下运动。所述支撑套4和传动螺杆7中心共线。所述支撑套4和机体1之间设有密封圈。在支撑套4和机体1之间设置密封圈，能够保障真空腔2的使用效果，所述支撑套4呈倒“T”字形，所述支撑套4下端部呈开口。所述传动螺杆7从支撑套4的下端部插入支撑套4的内部，所述传动
螺杆7下端部固定套接有第一齿轮8，所述第一齿轮8和第二齿轮10啮合，且第一齿轮8和第二齿轮10的中心线相互垂直。所述机体1内腔右侧安装有伺服电机9，所述伺服电机9输出轴上固定套接有第二齿轮10，所述支撑套4外侧呈环形均匀设有限位件11。
[0019]参阅图2和图3，其中，所述限位件11包括呈“L”字形的支架和导杆，所述限位件11固定安装于机体1上，所述导杆穿过支撑套4。其中，支架与导杆固定焊接，导杆的横截面呈圆形，在支撑套4的下端部设有与导杆相对应的槽孔，导杆穿过槽孔固定于支架上，设置限位件11，能够限制支撑套4的转动，从而避免支撑套4跟随传动螺杆7一起转动，支撑套4的外径小于环形设置的限位件11组成的内圆弧直径。
[0020]工作原理：该种实验室用可升降调节的靶装置，使用时本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种实验室用可升降调节的靶装置，包括固定安装于机体(1)上的固定底座(3)、固定安装于固定底座(3)上方的真空腔(2)、设于真空腔(2)内部的支撑套(4)和固定安装于支撑套(4)上的靶材(5)，其特征在于：所述支撑套(4)内部固定安装有安装座(6)，所述机体(1)内腔下端部通过轴承连接有传动螺杆(7)，所述传动螺杆(7)下端部固定套接有第一齿轮(8)，所述机体(1)内腔右侧安装有伺服电机(9)，所述伺服电机(9)输出轴上固定套接有第二齿轮(10)，所述支撑套(4)外侧呈环形均匀设有限位件(11)。2.根据权利要求1所述的一种实验室用可升降调节的靶装置，其特征在于：所述第一齿轮(8)和第二齿轮(10)啮合，且第一齿轮(8)和第二齿轮(10)的中心线相互垂直。3.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵海燕，李超，赵文彪，
申请(专利权)人：沈阳富士设备设计有限公司，
类型：新型
国别省市：