【技术实现步骤摘要】
一种靶材冷却装置
[0001]本技术涉及靶材冷却
,尤其涉及一种靶材冷却装置。
技术介绍
[0002]在半导体集成电路中,靶材是重要的制造原材料之一,部分靶材在经过热处理之后,需要较长时间的空冷、风冷或雾冷以降低内应力,且靶材的尺寸相对较大,批量生产时,大量的靶材需要冷却,且靶材之间不能堆放,现常采用平铺于车间地面上冷却的方式,车间被大面积长期占用。此外,若高温靶材直接接触地面,会对车间地面涂层造成损害;若用钢板隔离地面,虽能保护地面,但是占地面积大,也不适合批量化生产,更重要的是会造成靶材两面的受热不均,靶材的晶粒和应力分布不均匀,影响靶材质量。
技术实现思路
[0003]为了克服现有技术的一些不足,本技术的目的在于提供一种靶材冷却装置,其在靶材热处理后的冷却过程中,能够大幅减少用地面积,且靶材与空气接触面积增大,冷却效果更好。
[0004]本技术的目的采用如下技术方案实现:
[0005]一种靶材冷却装置,包括:
[0006]底座,其包括至少一层放置台;
[0007]若干纵 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种靶材冷却装置,其特征在于,包括:底座,其包括至少一层放置台;若干纵向支撑件,其连接于所述底座上,每层所述放置台都具有若干纵向支撑件与之对应,与某层放置台对应的纵向支撑件高于该放置台;所有所述纵向支撑件间隔设置且沿所述底座的前后方向成列排布,同列纵向支撑件中的相邻的两纵向支撑件之间为靶材放置位,若干所述靶材放置位成列排布;若干横向限位件,其连接于所述放置台上,并沿所述底座的前后方向分布;每一列所述靶材放置位的左右两侧均设有所述横向限位件,从而限定所述横向限位件左右方向的极限位置。2.如权利要求1所述的靶材冷却装置,其特征在于,所述底座包括至少两层上下间隔设置的放置台。3.如权利要求1或2所述的靶材冷却装置,其特征在于,所述放置台上至少具有两列所述纵向支撑件,相邻两列所述纵向支撑件中的靶材放置位共用两者之间的同一横向限位件来限定极限位置。4.如权利要求3所述的靶材冷却装置,其特征在于,所述横向限位件呈条形,每条所述横向限位件的长度不小于所有所述纵向支撑件所成列的长度;每列纵向支撑件的左右两侧均至少存在一条所述横向限位件。5.如权利要求1或2所述的靶材冷却装置,其特征在于,每列所述纵向支撑件距离两侧的横向限位件的距离不同。6.如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄旭东,黄宇彬,童培云,朱刘,
申请(专利权)人:先导薄膜材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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