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本实用新型公开了一种靶材冷却装置，包括：底座，其包括至少一层放置台；若干纵向支撑件，其连接于所述底座上，每层所述放置台都具有若干纵向支撑件与之对应，与某层放置台对应的纵向支撑件高于该放置台；所有所述纵向支撑件间隔设置且沿所述底座的前后方向成...
该专利属于先导薄膜材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过先导薄膜材料有限公司授权不得商用。

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