掩膜版、阵列基板及显示面板制造技术

本实用新型专利技术公开一种掩膜版、阵列基板及显示面板，其中，所述掩膜版用于在光刻工艺中成型平坦层，所述掩膜版包括膜版主体以及自所述膜版主体周缘延伸出的调光膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光量呈渐变设置，以使得对应所述调光膜版成型的部分平坦层的厚度呈递减设置，对应所述膜版主体成型的部分平坦层厚度均匀，对应所述调光膜版成型的部分平坦层的厚度呈递减设置，以在所述平坦层上形成配向膜时，减少配向膜溶液堆积，增强配向膜液滴扩散能力，改善亮暗不均匀，提高了产品的质量。提高了产品的质量。提高了产品的质量。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版、阵列基板及显示面板


[0001]本技术涉及平面显示器
，特别涉及一种掩膜版、阵列基板及显示面板。

技术介绍

[0002]由于薄膜晶体管液晶显示器(TFT
‑
LCD)具有低辐射、体积小、能耗低等优点被广泛的应用于各类电子信息产品上。随着科技的发展，市场对TFT
‑
LCD的品质要求越来越高，提高显示屏品味是提高品质的关键。显示亮度不均(Mura)是一种常见的品质不良，大部分显示不均都是由于配向层(Polyimide，PI)异常导致的。为提高生产效率，大世代线的显示屏通常采用喷墨打印的方式进行PI涂布，这种涂布方式的缺点是容易造成Mura，特别是过孔密集的地方，这是因为有过孔的位置容易造成PI液的堆积。
[0003]一般的，有效显示区(Active Area，AA)周边是信号的输入起始端，这些位置有很多的过孔设计，这些过孔的设计导致PI堆积，影响AA区周边的PI向外扩散。特别是在阵列基板上铺设有平坦层(Polymer Film on Array，PFA)的产品，由于PFA层的厚度很厚(1～2u本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，用于在光刻工艺中成型平坦层，其特征在于，所述掩膜版包括膜版主体以及自所述膜版主体周缘延伸出的调光膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光量呈渐变设置，以使得对应所述调光膜版成型的部分平坦层的厚度呈递减设置。2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述调光膜版设置为灰色调掩膜版，所述调光膜版上设有透光孔，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述透光孔的透光面积呈渐变设置。3.如权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述透光孔呈长形设置，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述透光孔的宽度呈渐变设置。4.如权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述透光孔的宽度呈逐渐减小设置，用以对应采用负向光阻材料光刻成型所述平坦层。5.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述调光膜版设置为半色调掩膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光率呈渐变设置。6.如权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光率呈逐渐...

【专利技术属性】
技术研发人员：王光加，康报虹，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：新型
国别省市：