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本实用新型公开一种掩膜版、阵列基板及显示面板，其中，所述掩膜版用于在光刻工艺中成型平坦层，所述掩膜版包括膜版主体以及自所述膜版主体周缘延伸出的调光膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光量呈渐变设置，以使得对应所述调...
该专利属于惠科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过惠科股份有限公司授权不得商用。

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