一种排水导流式塔底气体分布器制造技术

本实用新型专利技术公开了一种排水导流式塔底气体分布器，包括分流板；分流板上表面设置有聚流槽；聚流槽的底部高度从边缘到中心处逐渐降低；聚流槽中心位置开设有排水孔；聚流槽内还设置有第一气孔；第一气孔在聚流槽表面均匀分布；第一气孔之间的间隙中设置有引流沟；引流沟的下端与排水孔连通；引流沟的上端与聚流槽边缘处连通；下落的液流沿着槽底的倾斜坡度汇聚到排水孔处并集中下落，随后在聚流组件的离心甩动作用下分散到塔设备内壁上，实现了液流路径的稳定控制；与此同时，气流穿过均流组件后从第一气孔处扩散开，并继续上移与上方的填料层充分接触，气流路径分流式的设计显著提高了工艺稳定性和运行效率。了工艺稳定性和运行效率。了工艺稳定性和运行效率。

【技术实现步骤摘要】
一种排水导流式塔底气体分布器


[0001]本技术涉及化工生产领域，尤其涉及一种排水导流式塔底气体分布器。

技术介绍

[0002]在精馏塔设备中，气液交换效率直接决定了塔设备的生产能力，而对象移动的气液两相会因为互相干扰造成气流分布不均的偏流现象和液流喷溅引起震动噪声等问题。所以有必要专利技术一种可以对气液两相流动路径进行稳定控制、提升进入填料层气流均匀性的排水导流式塔底气体分布器。

技术实现思路

[0003]专利技术目的：为了克服现有技术中存在的不足，本技术提供一种可以对气液两相流动路径进行稳定控制、提升进入填料层气流均匀性的排水导流式塔底气体分布器。
[0004]技术方案：为实现上述目的，本技术的一种排水导流式塔底气体分布器，包括分流板；所述分流板上表面设置有聚流槽；所述聚流槽的底部高度从边缘到中心处逐渐降低；所述聚流槽中心位置开设有排水孔；所述聚流槽内还设置有第一气孔和挡片；所述第一气孔在所述聚流槽表面均匀分布；所述挡片下端与所述聚流槽连接；所述挡片上端延伸至所述第一气孔上方；所述第一气孔之间的间隙中设置有引流沟；所述引流沟的下端与所述排水孔连通；所述引流沟的上端与所述聚流槽边缘处连通。
[0005]进一步地，所述引流沟的长度方向沿弧线设置；所述引流沟的上端随高度上升而横向偏转。
[0006]进一步地，所述第一气孔周围设置有挡水圈；所述挡水圈下端与所述聚流槽底面密封连接。
[0007]进一步地，所述分流板的下方设置有均流组件；所述均流组件包括板体和驱动器；所述驱动器与所板体驱动连接；所述驱动器带动所述板体绕着自身中心点回转；所述板体边缘处与塔设备内壁之间留有间隙；所述板体上表面沿转动径向设置有离心拨板；若干个所述离心拨板在所述板体的周向上均匀分布；所述板体上还开设有第二气孔。
[0008]进一步地，所述板体下方设置有承托件；所述承托件一端与塔设备内壁连接，另一端与所述板体的底部承靠贴合。
[0009]进一步地，所述承托件在塔设备内壁表面环向均匀分布。
[0010]有益效果：本技术的一种排水导流式塔底气体分布器，包括分流板；所述分流板上表面设置有聚流槽；所述聚流槽的底部高度从边缘到中心处逐渐降低；所述聚流槽中心位置开设有排水孔；所述聚流槽内还设置有第一气孔和挡片；所述第一气孔在所述聚流槽表面均匀分布；所述分流板的下方设置有均流组件；所述均流组件包括板体和驱动器；所述驱动器与所板体驱动连接；所述驱动器带动所述板体绕着自身中心点回转；所述板体边缘处与塔设备内壁之间留有间隙；所述板体上表面沿转动径向设置有离心拨板；通过分流板的聚流槽与均流组件转动的离心拨板配合，可以让液流拥有稳定的下落路径，同时兼具
了对气流的均匀分散效果，气流路径分流式的设计显著提高了工艺稳定性和运行效率。
附图说明
[0011]图1为排水导流式塔底气体分布器整体结构示意图；
[0012]图2为均流组件结构示意图；
[0013]图3为排水导流式塔底气体分布器俯视图。
具体实施方式
[0014]下面结合附图对本技术作更进一步的说明。
[0015]如图1和图3所示，一种排水导流式塔底气体分布器，包括分流板1；所述分流板1上表面设置有聚流槽11；所述聚流槽11的底部高度从边缘到中心处逐渐降低；所述聚流槽11中心位置开设有排水孔12；所述聚流槽11内还设置有第一气孔13和挡片14；所述第一气孔13在所述聚流槽11表面均匀分布；所述挡片14下端与所述聚流槽11连接；所述挡片14上端延伸至所述第一气孔13上方；所述第一气孔13之间的间隙中设置有引流沟15；所述引流沟15的下端与所述排水孔12连通；所述引流沟15的上端与所述聚流槽11边缘处连通。
[0016]分流板1上聚流槽11的作用在于，可以让下落的液流沿着槽底的倾斜坡度汇聚到排水孔12处并集中下落，这些水流随后在均流组件2的离心甩动作用下分散到塔设备内壁上，并最终沿着壁面稳定落入塔底，实现了液流路径的稳定控制；与此同时，气流穿过均流组件2后从第一气孔13处扩散开，并继续上移与上方的填料层充分接触；挡片14的作用在于，可以在分流板1接引液流的过程中，防止其涌入第一气孔13内，从而充分保证气流顺利稳定通过，进一步提高工艺稳定性；引流沟15的作用则在于，可以在聚流槽11底面的周向上设置若干条流动稳定性更高的路径，从而在液流撞击挡片14发生溅射变向后能够及时进入附近的引流沟15内显著抑制局部扰流。
[0017]所述引流沟15的长度方向沿弧线设置；所述引流沟15的上端随高度上升而横向偏转。
[0018]引流沟15这种弧形横向延伸的设计，能够接引到更大角度上的液流，进一步提升其规范流动路径的效果。
[0019]所述第一气孔13周围设置有挡水圈131；所述挡水圈131下端与所述聚流槽11底面密封连接。
[0020]挡水圈131可以和挡片14配合，进一步降低液流进入第一气孔13内部的概率。
[0021]如图2所示，所述分流板1的下方设置有均流组件2；所述均流组件2包括板体21和驱动器22；所述驱动器22与所板体21驱动连接；所述驱动器22带动所述板体21绕着自身中心点回转；所述板体21边缘处与塔设备内壁之间留有间隙；所述板体21上表面沿转动径向设置有离心拨板23；若干个所述离心拨板23在所述板体21的周向上均匀分布；所述板体21上还开设有第二气孔24。
[0022]离心拨板23能够利用转动离心力将下落到板体21中心区域的液流迅速分散甩出，从而能利用周围的塔设备内壁完成液流的稳定输送；第二气孔24在旋转过程中不会影响气流的通过，同时还能够克服自身在静态下的分布均匀性限制，让抵达第一气孔13前的气流分布更加均匀，最终提升与填料层接触气流的均匀性。
[0023]所述板体21下方设置有承托件25；所述承托件25一端与塔设备内壁连接，另一端与所述板体21的底部承靠贴合。
[0024]承托件25可以缓解驱动器22的压力，对板体21进行稳定的承重，具体而言，可以在承托件25的顶部镶嵌滚珠等结构，从而在体重承靠的同时减少摩擦阻力。
[0025]所述承托件25在塔设备内壁表面环向均匀分布。
[0026]均布的承托件25可以让承载力施加更稳定，从而进一步提升板体21在转动中的稳定性。
[0027]以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出：对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种排水导流式塔底气体分布器，其特征在于：包括分流板(1)；所述分流板(1)上表面设置有聚流槽(11)；所述聚流槽(11)的底部高度从边缘到中心处逐渐降低；所述聚流槽(11)中心位置开设有排水孔(12)；所述聚流槽(11)内还设置有第一气孔(13)和挡片(14)；所述第一气孔(13)在所述聚流槽(11)表面均匀分布；所述挡片(14)下端与所述聚流槽(11)连接；所述挡片(14)上端延伸至所述第一气孔(13)上方；所述第一气孔(13)之间的间隙中设置有引流沟(15)；所述引流沟(15)的下端与所述排水孔(12)连通；所述引流沟(15)的上端与所述聚流槽(11)边缘处连通。2.根据权利要求1所述的排水导流式塔底气体分布器，其特征在于：所述引流沟(15)的长度方向沿弧线设置；所述引流沟(15)的上端随高度上升而横向偏转。3.根据权利要求1所述的排水导流式塔底气体分布器，其特征在于：所述第一气孔(13)周围设置有挡水圈(131)...

【专利技术属性】
技术研发人员：周军，朱有伟，
申请(专利权)人：无锡市雪浪化工填料有限公司，
类型：新型
国别省市：