用于进行材料去除操作的流体组合物及方法技术

一种适用于对基板进行化学机械抛光的流体组合物，所述流体组合物可包括多价金属硼酸盐、至少一种氧化剂和溶剂。所述流体组合物可基本上不含磨料颗粒并且可以实现高材料去除率和优异的表面光洁度。率和优异的表面光洁度。率和优异的表面光洁度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于进行材料去除操作的流体组合物及方法


[0001]本公开涉及一种用于进行材料去除操作的流体组合物，特别是包括多价金属硼酸盐、氧化剂和溶剂的流体组合物，以及一种进行材料去除操作的方法。

技术介绍

[0002]辅助抛光工艺(例如用抛光垫抛光基板)的流体组合物具有各种各样的应用，例如用于抛光玻璃、陶瓷、或金属材料，并且经常设计用于化学机械平面化(CMP)工艺。在典型的CMP工艺中，浆料向待抛光的基板的相对移动通过与基板外表面发生化学和机械相互作用并去除不需要的材料来辅助平面化(抛光)工艺。进行抛光直至获得所需要的具有低表面粗糙度的光滑外表面。存在开发经济有效的流体组合物的需求，这种流体组合物有助于在抛光期间实现高材料去除率，并使抛光过的基板具有低表面粗糙度。
附图说明
[0003]通过参考附图，可以更好地理解本公开，并且让本公开的众多特征和优点对于本领域的技术人员显而易见。
[0004]图1包括示出了根据一个实施例的流体组合物的材料去除率(MRR)和对比流体组合物的材料去除率的柱状图。
具体实施方式
[000本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种流体组合物，所述流体组合物包含：多价金属硼酸盐；至少一种氧化剂；和溶剂。2.根据权利要求1所述的流体组合物，其中所述多价金属硼酸盐包括硼酸铁(III)、硼酸铜(II)、硼酸钴(II)、硼酸铋(III)、硼酸铝(III)、硼酸铈(III)、硼酸铬(III)、硼酸钌(III)、硼酸钛(III)、硼酸铅(II)或它们的任意组合。3.根据权利要求2所述的流体组合物，其中所述多价金属硼酸盐基本上由硼酸铁(III)组成。4.根据权利要求1至3中任一项所述的流体组合物，其中所述流体组合物基本上不含磨料颗粒。5.根据权利要求1至3中任一项所述的流体组合物，其中所述多价金属硼酸盐的量占所述流体组合物的总重量的至少0.01wt％且占所述流体组合物的总重量的不大于20wt％。6.根据权利要求1至3中任一项所述的流体组合物，其中所述流体组合物的多价金属离子与硼的摩尔比范围为1∶1至1∶7。7.根据权利要求1至3中任一项所述的流体组合物，其中所述至少一种氧化剂包括高锰酸盐、过硫酸盐、亚氯酸盐、高氯酸盐、过氧化物、次氯酸盐、亚硝酸盐、连二次硝酸盐、碘酸盐、...

【专利技术属性】
技术研发人员：富琳，贾森，
申请(专利权)人：圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：