屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用技术

本发明专利技术提供了一种屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用，涉及射线屏蔽技术领域。该屏蔽材料组合物采用特定用量的屏蔽剂与溶剂、分散剂和粘结剂制成，其中，屏蔽剂通过选择特定种类的第一屏蔽剂和/或第二屏蔽剂，可使得该屏蔽材料组合物对于X射线、γ射线具有良好的屏蔽防护效果，为后续屏蔽层、屏蔽复合膜的制备提供了基础。本发明专利技术提供了一种屏蔽层，采用上述屏蔽材料组合物制成，鉴于上述屏蔽材料组合物所具有的优势，使得该屏蔽层对于X射线或γ射线具有良好的屏蔽效果。本发明专利技术还提供了屏蔽层的制备方法，工艺简单，操作方便，相对于传统金属箔片而言，制备工序较少，成本低，适合于工业化规模生产。适合于工业化规模生产。适合于工业化规模生产。

【技术实现步骤摘要】
屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及射线屏蔽
，尤其是涉及一种屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用。

技术介绍

[0002]X射线设备的管球发出的X射线经过被测物体后会产生很强的散射线从而影响图像质量，故一般采用滤线栅用于减少散射线对于图像的影响。
[0003]传统X射线设备中应用的滤线栅主要由屏蔽层和基体层组成，其中屏蔽层常选用铅箔，基体层常选用铝箔，但铅箔对人体和环境危害大，而替换成其他金属，制备相应的金属箔片的工序多，成本高，例如W/WNiFe/Mo箔，同时，作为基体层的铝箔，密度大，穿透性差。
[0004]有鉴于此，特提出本专利技术以解决上述技术问题中的至少一个。

技术实现思路

[0005]本专利技术的第一目的在于提供一种屏蔽材料组合物。
[0006]本专利技术的第二目的在于提供一种屏蔽层，采用上述屏蔽材料组合物制成，该屏蔽层对于X射线或γ射线具有良好的屏蔽防护效果，且对于人体或环境危害小。
[0007]本专利技术的第三目的在于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种屏蔽材料组合物，其特征在于，包括以下质量分数的各原料：屏蔽剂30～98％，溶剂1～40％，分散剂0～5％和粘结剂1～40％；其中，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂和/或第二屏蔽剂；所述第一屏蔽剂包括钼粉、钽粉、锡粉或锑粉中的任意一种或至少两种的组合；所述第二屏蔽剂包括氧化钼、氧化钽、氧化锡或氧化锑中的任意一种或至少两种的组合。2.根据权利要求1所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述第一屏蔽剂还包括钨粉、铋粉或铅粉中的任意一种或至少两种的组合。3.根据权利要求1所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述第二屏蔽剂还包括氧化钨、氧化铋、氧化铅或硫酸钡中的任意一种或至少两种的组合。4.根据权利要求2所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述第二屏蔽剂还包括氧化钨、氧化铋、氧化铅或硫酸钡中的任意一种或至少两种的组合。5.根据权利要求1所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂，所述第一屏蔽剂包括钨粉和钽粉，所述钨粉和钽粉的质量比为(0.5
‑
99.5)：(0.5
‑
99.5)，优选为99：1；或，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂，所述第一屏蔽剂包括铅粉、钨粉、钼粉和钽粉，所述铅粉、钨粉、钼粉和钽粉的质量比为(1
‑
40)：(1
‑
80)：(1
‑
50)：(1
‑
20)。6.根据权利要求1所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述屏蔽剂包括第二屏蔽剂，所述第二屏蔽剂包括氧化钨、氧化钼、氧化钽、氧化铋和氧化锑，所述氧化钨、氧化钼、氧化钽、氧化铋和氧化锑的质量比为(1
‑
30)：(1
‑
30)：(1
‑
40)：(1
‑
80)：(1
‑
20)；或，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂和所述第二屏蔽剂，所述屏蔽剂包括钨粉、氧化钨、氧化钼和氧化钽，所述钨粉、氧化钨、氧化钼和氧化钽的质量比为(1
‑
30)：(1
‑
30)：(1
‑
40)：(1
‑
80)。7.根据权利要求1
‑
6任一项所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述分散剂包括甘油、硬脂酸、油酸或硬脂酸锌中的任意一种或至少两种的组合。8.根据权利要求1
‑
6任一项所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述粘结剂包括聚乙烯醇缩丁醛、甲基纤维素、聚氨酯或聚甲基丙烯酸甲酯中的任意一种或至少两种的组合。9.根据权利要求1
‑
6任一项所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述溶剂包括水、乙醇或酮类中的任意一种或至少两种的组合。10.一种屏蔽层，其特征在于，采用权利要求1
‑
9任一项所述的屏蔽材料组合物制成，所述屏蔽层的密度为3
‑
13g/cm3。11.根据权利要求10所述的屏蔽层，其特征在于，所述屏蔽层的厚度为0.01～3mm。12.权利要求10或11所述的屏蔽层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将屏蔽剂、溶剂、分散剂和粘结剂混合后形成的浆料涂覆成膜，得到屏蔽层；其中，所述浆料的粘度为8000～120000mPa
·
s。13.一种屏蔽复合膜，其特征在于，包括屏蔽层和基体层，所述屏蔽层设置于所述基体层的一侧表面上；其中，所述屏蔽层采用权利要求1
‑
9任一项所述的屏蔽材料组合物制成，所述屏蔽层的密度为3
‑
13g/cm3。
14.根据权利要求13所述的屏蔽复合膜，其特征在于，所述基体层的材质包括四氟乙烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯、石墨纸、铝箔、纸或碳纤维中的任意一种。15.根据权利要求13或14所述的屏蔽复合膜，其特征在于，所述基体层的厚度为0.05
‑
10mm；所述屏蔽层的厚度为0.01
‑
3mm。16.权利要求13
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15任一项所述的屏蔽复合膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将所述的屏蔽材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱玉斌，高伦，李邦怿，郭春艳，鄢照龙，潘祥生，朱治伟，刘全九，
申请(专利权)人：深圳六晶医疗科技有限公司，
类型：发明
国别省市：