屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用技术

本发明专利技术提供了一种屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用，涉及射线屏蔽技术领域。该屏蔽材料组合物采用特定用量的屏蔽剂与溶剂、分散剂和粘结剂制成，其中，屏蔽剂通过选择特定种类的第一屏蔽剂和/或第二屏蔽剂，可使得该屏蔽材料组合物对于X射线、γ射线具有良好的屏蔽防护效果，为后续屏蔽层、屏蔽复合膜的制备提供了基础。本发明专利技术提供了一种屏蔽层，采用上述屏蔽材料组合物制成，鉴于上述屏蔽材料组合物所具有的优势，使得该屏蔽层对于X射线或γ射线具有良好的屏蔽效果。本发明专利技术还提供了屏蔽层的制备方法，工艺简单，操作方便，相对于传统金属箔片而言，制备工序较少，成本低，适合于工业化规模生产。适合于工业化规模生产。适合于工业化规模生产。

【技术实现步骤摘要】
屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及射线屏蔽
，尤其是涉及一种屏蔽材料组合物、屏蔽层、屏蔽复合膜及制备方法和应用。

技术介绍

[0002]X射线设备的管球发出的X射线经过被测物体后会产生很强的散射线从而影响图像质量，故一般采用滤线栅用于减少散射线对于图像的影响。
[0003]传统X射线设备中应用的滤线栅主要由屏蔽层和基体层组成，其中屏蔽层常选用铅箔，基体层常选用铝箔，但铅箔对人体和环境危害大，而替换成其他金属，制备相应的金属箔片的工序多，成本高，例如W/WNiFe/Mo箔，同时，作为基体层的铝箔，密度大，穿透性差。
[0004]有鉴于此，特提出本专利技术以解决上述技术问题中的至少一个。

技术实现思路

[0005]本专利技术的第一目的在于提供一种屏蔽材料组合物。
[0006]本专利技术的第二目的在于提供一种屏蔽层，采用上述屏蔽材料组合物制成，该屏蔽层对于X射线或γ射线具有良好的屏蔽防护效果，且对于人体或环境危害小。
[0007]本专利技术的第三目的在于提供上述屏蔽层的制备方法。
[0008]本专利技术的第四目的在于提供一种屏蔽复合膜，采用上述屏蔽材料组合物制成。
[0009]本专利技术的第五目的在于提供上述屏蔽复合膜的制备方法。
[0010]本专利技术的第六目的在于提供上述屏蔽层或屏蔽复合膜的应用。
[0011]为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：
[0012]本专利技术提供了一种屏蔽材料组合物，包括以下原料：
[0013]屏蔽剂30～98％，溶剂1～40％，分散剂0～5％和粘结剂1～40％；
[0014]其中，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂和/或第二屏蔽剂；
[0015]所述第一屏蔽剂包括钼粉、钽粉、锡粉或锑粉中的任意一种或至少两种的组合；
[0016]所述第二屏蔽剂包括氧化钼、氧化钽、氧化锡或氧化锑中的任意一种或至少两种的组合。
[0017]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述第一屏蔽剂还包括钨粉、铋粉或铅粉中的任意一种或至少两种的组合。
[0018]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述第二屏蔽剂还包括氧化钨、氧化铋、氧化铅或硫酸钡中的任意一种或至少两种的组合。
[0019]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂，所述第一屏蔽剂包括钨粉和钽粉，所述钨粉和钽粉的质量比为(0.5
‑
99.5)：(0.5
‑
99.5)，优选为99：1；
[0020]或，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂，所述第一屏蔽剂包括铅粉、钨粉、钼粉和钽粉，所述铅粉、钨粉、钼粉和钽粉的质量比为(1
‑
40)：(1
‑
80)：(1
‑
50)：(1
‑
20)。
[0021]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述屏蔽剂包括第二屏蔽剂，所述第二屏蔽剂包括氧化钨、氧化钼、氧化钽、氧化铋和氧化锑，所述氧化钨、氧化钼、氧化钽、氧化铋和氧化锑的质量比为(1
‑
30)：(1
‑
30)：(1
‑
40)：(1
‑
80)：(1
‑
20)；
[0022]或，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂和所述第二屏蔽剂，所述屏蔽剂包括钨粉、氧化钨、氧化钼和氧化钽，所述钨粉、氧化钨、氧化钼和氧化钽的质量比为(1
‑
30)：(1
‑
30)：(1
‑
40)：(1
‑
80)。
[0023]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述分散剂包括甘油、硬脂酸、油酸或硬脂酸锌中的任意一种或至少两种的组合。
[0024]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述粘结剂包括聚乙烯醇缩丁醛、甲基纤维素、聚氨酯或聚甲基丙烯酸甲酯中的任意一种或至少两种的组合。
[0025]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述溶剂包括水、乙醇或酮类溶剂中的任意一种或至少两种的组合。
[0026]本专利技术还提供了一种屏蔽层，采用上述屏蔽材料组合物制成，所述屏蔽层的密度为3
‑
13g/cm3。
[0027]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述屏蔽层的厚度为0.01～3mm。
[0028]本专利技术还提供了上述屏蔽层的制备方法，包括以下步骤：
[0029]将屏蔽剂、溶剂、分散剂和粘结剂混合后形成的浆料涂覆成膜，得到屏蔽层；
[0030]其中，所述浆料的粘度为8000～120000mPa
·
s。
[0031]本专利技术还提供了一种屏蔽复合膜，包括屏蔽层和基体层，所述屏蔽层设置于所述基体层的一侧表面上；
[0032]其中，所述屏蔽层采用上述屏蔽材料组合物制成，所述屏蔽层的密度为3
‑
13g/cm3。
[0033]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述基体层的材质包括四氟乙烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯、石墨纸、铝箔、纸或碳纤维中的任意一种。
[0034]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述基体层的厚度为0.05
‑
10mm；
[0035]所述屏蔽层的厚度为0.01
‑
3mm。
[0036]本专利技术还提供了上述屏蔽复合膜的制备方法，包括以下步骤：
[0037]将所述屏蔽材料组合物形成的屏蔽层设置于所述基体层的一侧表面上，得到屏蔽复合膜。
[0038]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述屏蔽复合膜的制备方法包括以下步骤：
[0039]将屏蔽剂和溶剂混合后，加入分散剂进行研磨，然后分离，得到分散后物料；
[0040]将分散后物料与粘结剂混合形成的浆料涂覆于所述基体层上，干燥以在所述基体层的一侧表面上形成屏蔽层，得到屏蔽复合膜。
[0041]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述浆料的粘度为8000
‑
120000mPa.s。
[0042]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述涂覆的速度为0.2
‑
5m/min。
[0043]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述干燥的温度为20
‑
120℃。
[0044]本专利技术还提供了上述屏蔽层或屏蔽复合膜在屏蔽X射线或γ射线领域中的应用。
[0045]本专利技术还提供了一维滤线栅，采用上述屏蔽层或上述屏蔽复合膜制成。
[0046]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础之上，所述一维滤线栅与X射线设备的球管配合使用，包括若干个屏蔽复合膜，若干个所述屏蔽复合膜层叠设置，任意相邻的两个所述屏蔽复合膜之间通过粘结层连接，以形成一体化模块。
[0047]进一步的，在本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种屏蔽材料组合物，其特征在于，包括以下质量分数的各原料：屏蔽剂30～98％，溶剂1～40％，分散剂0～5％和粘结剂1～40％；其中，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂和/或第二屏蔽剂；所述第一屏蔽剂包括钼粉、钽粉、锡粉或锑粉中的任意一种或至少两种的组合；所述第二屏蔽剂包括氧化钼、氧化钽、氧化锡或氧化锑中的任意一种或至少两种的组合。2.根据权利要求1所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述第一屏蔽剂还包括钨粉、铋粉或铅粉中的任意一种或至少两种的组合。3.根据权利要求1所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述第二屏蔽剂还包括氧化钨、氧化铋、氧化铅或硫酸钡中的任意一种或至少两种的组合。4.根据权利要求2所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述第二屏蔽剂还包括氧化钨、氧化铋、氧化铅或硫酸钡中的任意一种或至少两种的组合。5.根据权利要求1所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂，所述第一屏蔽剂包括钨粉和钽粉，所述钨粉和钽粉的质量比为(0.5
‑
99.5)：(0.5
‑
99.5)，优选为99：1；或，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂，所述第一屏蔽剂包括铅粉、钨粉、钼粉和钽粉，所述铅粉、钨粉、钼粉和钽粉的质量比为(1
‑
40)：(1
‑
80)：(1
‑
50)：(1
‑
20)。6.根据权利要求1所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述屏蔽剂包括第二屏蔽剂，所述第二屏蔽剂包括氧化钨、氧化钼、氧化钽、氧化铋和氧化锑，所述氧化钨、氧化钼、氧化钽、氧化铋和氧化锑的质量比为(1
‑
30)：(1
‑
30)：(1
‑
40)：(1
‑
80)：(1
‑
20)；或，所述屏蔽剂包括第一屏蔽剂和所述第二屏蔽剂，所述屏蔽剂包括钨粉、氧化钨、氧化钼和氧化钽，所述钨粉、氧化钨、氧化钼和氧化钽的质量比为(1
‑
30)：(1
‑
30)：(1
‑
40)：(1
‑
80)。7.根据权利要求1
‑
6任一项所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述分散剂包括甘油、硬脂酸、油酸或硬脂酸锌中的任意一种或至少两种的组合。8.根据权利要求1
‑
6任一项所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述粘结剂包括聚乙烯醇缩丁醛、甲基纤维素、聚氨酯或聚甲基丙烯酸甲酯中的任意一种或至少两种的组合。9.根据权利要求1
‑
6任一项所述的屏蔽材料组合物，其特征在于，所述溶剂包括水、乙醇或酮类中的任意一种或至少两种的组合。10.一种屏蔽层，其特征在于，采用权利要求1
‑
9任一项所述的屏蔽材料组合物制成，所述屏蔽层的密度为3
‑
13g/cm3。11.根据权利要求10所述的屏蔽层，其特征在于，所述屏蔽层的厚度为0.01～3mm。12.权利要求10或11所述的屏蔽层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将屏蔽剂、溶剂、分散剂和粘结剂混合后形成的浆料涂覆成膜，得到屏蔽层；其中，所述浆料的粘度为8000～120000mPa
·
s。13.一种屏蔽复合膜，其特征在于，包括屏蔽层和基体层，所述屏蔽层设置于所述基体层的一侧表面上；其中，所述屏蔽层采用权利要求1
‑
9任一项所述的屏蔽材料组合物制成，所述屏蔽层的密度为3
‑
13g/cm3。
14.根据权利要求13所述的屏蔽复合膜，其特征在于，所述基体层的材质包括四氟乙烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯、石墨纸、铝箔、纸或碳纤维中的任意一种。15.根据权利要求13或14所述的屏蔽复合膜，其特征在于，所述基体层的厚度为0.05
‑
10mm；所述屏蔽层的厚度为0.01
‑
3mm。16.权利要求13
‑
15任一项所述的屏蔽复合膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将所述的屏蔽材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱玉斌，高伦，李邦怿，郭春艳，鄢照龙，潘祥生，朱治伟，刘全九，
申请(专利权)人：深圳六晶医疗科技有限公司，
类型：发明
国别省市：