一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构制造技术

技术编号:31032178 阅读:33 留言:0更新日期:2021-11-30 05:27
本实用新型专利技术公开了一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构,具体涉及照相机领域,包括相机外壳,所述相机外壳的底端设置有伽马屏蔽端盖,所述伽马屏蔽端盖上端位于相机外壳的内部固定设置有中子屏蔽支撑板,所述中子屏蔽支撑板的上端固定安装有摄像头,所述摄像头外侧位于CMOS传感器的上方固定设置有伽马屏蔽前板和中子屏蔽前板,所述伽马屏蔽前板的上端固定设置有遮光板,所述相机外壳的上端固定设置有相机镜头盖板。本实用新型专利技术通过专用光路设计、中子屏蔽和伽马屏蔽结合的方式实现对中子、伽马辐射敏感器件CMOS传感器的保护,从而整体提升耐辐照相机在中子、伽马辐射环境的使用寿命。用寿命。用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构


[0001]本技术涉及照相机
,更具体地说,本技术涉及一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构。

技术介绍

[0002]核能是技术成熟而又可大规模提供电力的清洁能源,但是作为释放核能的反应堆,却是一个巨大的放射源,在反应堆堆芯内,核燃料裂变时会产生中子和伽马辐射,另外冷却剂本身及其含有的杂质和携带的腐蚀产物会被中子活化,活化产物衰变也会产生伽马等辐射,反应堆运行时冷却剂会连续不断地将在堆芯产生的放射性物质带到相关的设备中去,因此在核设施工作的人员可能遭受辐照的危险,在核泄漏极端条件下,泄漏点会形成高剂量率的辐射热点,依靠人工进行检查则极易对人体造成过量的辐射危害,通过远程控制机器人搭载云台相机实现对目标区域的视频检查则是一种降低人体不必要的辐射危害可行方案。由于相机的内部存在辐射敏感的电子元器件,故满足不了核设施内高放射性区域环境下的较高的可靠性运行要求,因此用于核设施内高放射性的中子、伽马辐射环境的相机必须经过辐照加固处理,以提高辐射环境运行的可靠性。
[0003]用于屏蔽伽马辐射的材料一般是采用混凝土或原子序数比较大的重元素金属及其合金,例如铅、钨镍合金等,利用是伽马辐射电磁波在这些高密度材料的散射吸收。而于中子屏蔽的材料一般是采用轻元素组成的物质,例如聚乙烯、碳化硼、石蜡等,其中含硼聚乙烯材料具有较好的中子屏蔽效果,其屏蔽原理是利用聚乙烯中的氢原子慢化中子,然后利用硼作为慢中子的吸收剂,最终慢化和吸收中子。

技术实现思路

[0004]为了克服现有技术的上述缺陷,本技术的实施例提供一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构,本技术所要解决的技术问题是:如何提高照相机在特殊环境下对伽马或中子辐射进行屏蔽,提高照相机在高辐射环境下运行的可靠性。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构,包括相机外壳,所述相机外壳的底端设置有伽马屏蔽端盖,所述伽马屏蔽端盖上端位于相机外壳的内部固定设置有中子屏蔽支撑板,所述中子屏蔽支撑板的上端固定安装有摄像头,所述摄像头外侧位于CMOS传感器的上方固定设置有伽马屏蔽前板和中子屏蔽前板,所述伽马屏蔽前板的上端固定设置有遮光板,所述相机外壳的上端固定设置有相机镜头盖板,所述相机镜片盖板的上端通过螺栓固定设置有镜头盖,所述镜头盖的上端两侧固定设置有灯罩安装座,所述灯罩安装座上安装有照明灯罩,所述照明灯罩的内部安装有LED照明灯,所述相机镜头盖板的内侧固定设置有相机镜头,所述镜头盖的底端位于相机镜头盖板内部固定设置有反光镜支架,所述反光镜支架上固定安装有反光镜。
[0006]在一个优选的实施方式中,所述反光镜背部开设有螺纹孔,所述反光镜通过螺纹孔固定安装在反光镜支架上。
[0007]在一个优选的实施方式中,所述相机外壳和镜头盖之间形成密封腔体,所述相机镜头、反光镜和反光镜支架均设置在密封腔体内部。
[0008]在一个优选的实施方式中,所述相机镜头采用抗辐射玻璃制作而成,所述相机镜头的镜片面型为球面设置。
[0009]在一个优选的实施方式中,所述相机外壳为圆柱形设置,所述相机外壳采用10mm厚的钨镍铁合金制作而成。
[0010]在一个优选的实施方式中,所述伽马屏蔽前板和中子屏蔽前板均为盘状设置,中心开设有通槽,所述摄像头贯穿伽马屏蔽前板和中子屏蔽前板设置,所述伽马屏蔽前板采用钨镍铁合金HA180材料加工制成,所述中子屏蔽前板采用硼含量为20

30%的含硼聚乙烯材料加工制成。
[0011]在一个优选的实施方式中,所述中子屏蔽支撑板的上端开设有安装槽,所述摄像头的底端嵌入安装在安装槽中,所述中子屏蔽支撑板采用硼含量为20

30%的含硼聚乙烯材料加工制成,所述中子屏蔽前板与中子屏蔽支撑板通过螺栓连接为一体。
[0012]在一个优选的实施方式中,所述伽马屏蔽端盖通过螺栓与相机外壳固定连接,所述伽马屏蔽端盖采用钨镍铁合金HA180材料加工制成。
[0013]与现有技术相比,本技术的技术效果和优点:
[0014]1、本技术通过专用光路设计、中子屏蔽和伽马屏蔽结合的方式实现对中子、伽马辐射敏感器件CMOS传感器的保护,从而整体提升耐辐照相机在中子、伽马辐射环境的使用寿命;
[0015]2、本技术通过采用抗辐射相机镜头、反射镜实现外部图像信息反射至摄像头传感器,获取外部图像信息,并避免中子辐射、伽马辐射直接直接照射摄像头传感器,对其造成损害;
[0016]3、采用由钨镍铁合金制成的相机外壳、伽马屏蔽前板和伽马屏蔽端盖连接形成的伽马屏蔽腔体,降低伽马辐射对摄像头传感器造成的伤害,提升耐辐照相机在伽马辐射环境的使用寿命,采用由硼含量20

30%的含硼聚乙烯制成的中子屏蔽前板、中子屏蔽支撑板连接形成的中子屏蔽腔体,降低中子辐射对摄像头传感器造成的伤害,提升耐辐照相机在中子辐射环境的使用寿命。
附图说明
[0017]图1为本技术的整体结构示意图。
[0018]图2为本技术图1中A

A截面结构示意图。
[0019]附图标记为:1相机外壳、2伽马屏蔽端盖、3中子屏蔽支撑板、4摄像头、5伽马屏蔽前板、6中子屏蔽前板、7遮光板、8相机镜头盖板、9镜头盖、10灯罩安装座、11照明灯罩、12LED照明灯、13相机镜头、14反光镜支架、15反光镜。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下
所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0021]根据图1

2所示的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构,包括相机外壳1,所述相机外壳1的底端设置有伽马屏蔽端盖2,所述伽马屏蔽端盖2上端位于相机外壳1的内部固定设置有中子屏蔽支撑板3,所述中子屏蔽支撑板3的上端固定安装有摄像头4,所述摄像头4外侧位于CMOS传感器的上方固定设置有伽马屏蔽前板5和中子屏蔽前板6,所述伽马屏蔽前板5的上端固定设置有遮光板7,所述相机外壳1的上端固定设置有相机镜头盖板8,所述相机镜片盖板8的上端通过螺栓固定设置有镜头盖9,所述镜头盖9的上端两侧固定设置有灯罩安装座10,所述灯罩安装座10上安装有照明灯罩11,所述照明灯罩11的内部安装有LED照明灯12,所述相机镜头盖板8的内侧固定设置有相机镜头13,所述镜头盖9的底端位于相机镜头盖板8内部固定设置有反光镜支架14,所述反光镜支架14上固定安装有反光镜15。
[0022]在一个优选的实施方式中,所述反光镜15背部开设有螺纹孔,所述反光镜15通过螺纹孔固定安装在反光镜支架14上,利用螺纹孔本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构,包括相机外壳(1),其特征在于:所述相机外壳(1)的底端设置有伽马屏蔽端盖(2),所述伽马屏蔽端盖(2)上端位于相机外壳(1)的内部固定设置有中子屏蔽支撑板(3),所述中子屏蔽支撑板(3)的上端固定安装有摄像头(4),所述摄像头(4)外侧位于CMOS传感器的上方固定设置有伽马屏蔽前板(5)和中子屏蔽前板(6),所述伽马屏蔽前板(5)的上端固定设置有遮光板(7),所述相机外壳(1)的上端固定设置有相机镜头盖板(8),所述相机镜片盖板(8)的上端通过螺栓固定设置有镜头盖(9),所述镜头盖(9)的上端两侧固定设置有灯罩安装座(10),所述灯罩安装座(10)上安装有照明灯罩(11),所述照明灯罩(11)的内部安装有LED照明灯(12),所述相机镜头盖板(8)的内侧固定设置有相机镜头(13),所述镜头盖(9)的底端位于相机镜头盖板(8)内部固定设置有反光镜支架(14),所述反光镜支架(14)上固定安装有反光镜(15)。2.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构,其特征在于:所述反光镜(15)背部开设有螺纹孔,所述反光镜(15)通过螺纹孔固定安装在反光镜支架(14)上。3.根据权利要求1所述的一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构,其特征在于:所述相机外壳(1)和镜头盖(9)之间形成密封腔体,所述相机镜头(13)、反光镜(15)和反光镜支架(14)均设置在密封腔体内部...

【专利技术属性】
技术研发人员:范文杰孟晓峰
申请(专利权)人:北京普达迪泰科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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