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一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构制造技术
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下载一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构的技术资料
文档序号:31032178
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本实用新型公开了一种用于中子、伽马辐射环境的耐辐照相机机构,具体涉及照相机领域,包括相机外壳,所述相机外壳的底端设置有伽马屏蔽端盖,所述伽马屏蔽端盖上端位于相机外壳的内部固定设置有中子屏蔽支撑板,所述中子屏蔽支撑板的上端固定安装有摄像头,所...
该专利属于北京普达迪泰科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京普达迪泰科技有限公司授权不得商用。
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