基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置。在一个示例中，基板处理装置包括：壳体，其内部具有用于处理基板的处理空间，并且该壳体具有用于使基板进出的出入口；支撑单元，其位于处理空间内并支撑基板；挡板构件，其具有用于打开和关闭出入口的门；以及加热器，其用于加热门，加热器以与门相邻的方式设置在处理空间内，并且挡板构件还包括：驱动器，其使门在门关闭出入口时的关闭位置与门打开出入口时的打开位置之间移动。动。动。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置


[0001]本专利技术涉及一种基板处理装置，更具体地，涉及一种用于补偿由于出入口的打开和关闭而导致的出入口周围的温度降低的基板处理装置。

技术介绍

[0002]液晶显示元件(LCD)、等离子显示面板(PDP)元件等近来用于图像显示装置的制造，并且使用平板显示装置(FPD)的基板。
[0003]在制造平板显示装置的过程中，必须进行基板制造工艺、单元格制造工艺、模块制造工艺等诸多工艺。特别是，在基板制造工艺中，进行用于在基板上形成各种图案的光刻工艺。在光刻工艺中，依次进行在基板上涂布光刻胶等感光液的涂布工艺、在涂布的感光膜上形成特定图案的曝光工艺、以及对与曝光后的感光膜对应的区域进行显影的显影工艺。在执行涂布工艺和显影工艺之前和之后，分别执行对基板进行热处理的烘烤工艺。
[0004]烘烤工艺在与外部密封的烘烤室内部进行。然而，当基板被装入烘烤室时，外部气流被引入烘烤室以降低内部温度。尤其是，在烘烤室中设置的用于使基板进出的出入口周围的温度降低。
[0005]为了补偿出入口周围的温度，用于打开和关闭出入口的挡板内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，包括：壳体，其内部具有用于处理基板的处理空间，并且所述壳体具有用于使所述基板进出的出入口；支撑单元，其位于所述处理空间内并支撑所述基板；挡板构件，其具有用于打开和关闭所述出入口的门；以及加热器，其用于加热所述门，其中，所述加热器以与所述门相邻的方式设置在所述处理空间内，并且所述挡板构件还包括：驱动器，其使所述门在所述门关闭所述出入口时的关闭位置与所述门打开所述出入口时的打开位置之间移动。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述挡板构件还包括作为所述门的旋转中心的旋转轴，并且所述驱动器使所述门围绕所述旋转轴旋转。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述旋转轴设置在所述处理空间内。4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述加热器设置在所述旋转轴中。5.根据权利要求2所述的所述的基板处理装置，其中，所述加热器位于所述支撑单元与所述门之间。6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述挡板构件还包括设置在所述门的面向所述处理空间的侧表面上的反射构件。7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述挡板构件还包括设置在所述门的面向所述处理空间的侧表面上的吸收构件。8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述加热器被设置为一个或多个红外线灯。9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述门具有朝向所述壳体的外侧凸出的弯曲形状的横截面。10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述门的横截面被设置为弧形形状。11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，所述加热器被定位在所述弧形的中心位置。12.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，所述门通过在所述弧形的长度方向上旋转而在所述打开位...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹奎相，刘载贤，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：